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EVG公司技术开发和IP总监Markus Wimplinger补充说：“我们开发新技术和工艺以应对*复杂的挑战，帮助我们的客户成功地将其新产品创意商业化。技术，我们创建了我们的NILPhotonics能力中心?！霸诰哂斜；た突P的强大政策的框架内，我们为客户提供了从可行性到生产阶段的产品开发和商业化支持。这正是我们***与AR领域的**者WaveOptics合作所要做的，以为*终客户提供真正可扩展的解决方案?！? EVG的NILPhotonics?能力中心框架内的协作开发工作旨在支持WaveOptics的承诺，即在工业，企业和消费者等所有主要市场领...

EVG ? 720特征： 体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度 专有SmartNIL ?技术，多使用聚合物印模技术 集成式压印，UV固化脱模和工作印模制造 盒带到盒带自动处理以及半自动研发模式 可选的顶部对准 可选的迷你环境 适用于所有市售压印材料的开放平台 从研发到生产的可扩展性 系统外壳，可实现比较好过程稳定性和可靠性技术数据 晶圆直径（基板尺寸） 75至150毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率LED（i线）> 400 mW /cm2...

EVG ? 720特征： 体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度 专有SmartNIL ?技术，多使用聚合物印模技术 集成式压印，UV固化脱模和工作印模制造 盒带到盒带自动处理以及半自动研发模式 可选的顶部对准 可选的迷你环境 适用于所有市售压印材料的开放平台 从研发到生产的可扩展性 系统外壳，可实现比较好过程稳定性和可靠性技术数据 晶圆直径（基板尺寸） 75至150毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率LED（i线）> 400 mW /cm2...

关于WaveOptics WaveOptics是衍射波导的全球**设计商和制造商，衍射波导是可穿戴AR设备中的关键光学组件。 诸如智能眼镜之类的AR可穿戴设备使用户能够观看覆盖在现实世界之上的数字图像。有两个关键元素可让您看到这些图像-微型投影仪之类的光源，以及将图像从投影仪传递到用户眼睛中的一种方式。 WaveOptics的波导技术可传输来自光源的光波并将其投射到用户的眼睛中。该技术可产生大的眼框，双目观察和高视野。眼图框（查看窗口）是从中可以看到完整图像的AR显示器的尺寸-请参见下图。WaveOptics的波导提供清晰，无失真的...

客户示范 ■工艺开发 ■材料测试 ■与合作伙伴共同研发 ■资助项目 ■小批量试生产 ■IP管理 ■过程技术许可证 ■流程培训 →世界前列的洁净室基础设施 →**的设备 →技术** →**计量 →工艺知识 →应用知识 →与NIL的工作印模材料和表面化学有关的化学专业知识 新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案，并在显示器，生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。 岱美作为EVG在中国区的代理商，欢...

EVG ? 620 NT特征： 顶部和底部对准能力 高精度对准台 自动楔形补偿序列 电动和程序控制的曝光间隙 支持***的UV-LED技术 **小化系统占地面积和设施要求 分步流程指导 远程技术支持 多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言） 敏捷处理和转换工具 台式或带防震花岗岩台的单机版 EVG ? 620 NT附加功能： 键对准 红外对准 SmartNIL μ接触印刷技术数据 晶圆直径（基板尺寸） 标准光刻：比较大150毫米的碎片 ...

HERCULES ? NIL特征： 全自动UV-NIL压印和低力剥离 **多300毫米的基材 完全模块化的平台，具有多达八个可交换过程?？椋ㄑ褂『驮ご恚? 200毫米/ 300毫米桥接工具能力 全区域烙印覆盖 批量生产**小40 nm或更小的结构 支持各种结构尺寸和形状，包括3D 适用于高地形（粗糙）表面 *分辨率取决于过程和模板 HERCULES ? NIL技术数据： 晶圆直径（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺） 支持流程：SmartNIL ...

EVG ? 510 HE热压印系统 应用：高度灵活的热压印系统，用于研发和小批量生产 EVG510 HE半自动热压印系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。该设备配置有通用压花室以及真空和接触力功能，并管理适用于热压印的全部聚合物。结合高纵横比压印和多种脱压选项，提供了许多用于高质量纳米图案转印的工艺。 EVG ? 510 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用 自动化压花工艺 EVG专有的**对准工艺，用于光学对准的压印和压印 完全由软件控制的流程执行 闭环冷却水供应选项 外部浮雕和冷却站 HERCULES ? N...

NIL系统肖特增强现实负责人RuedigerSprengard博士表示：“将高折射率玻璃晶圆的制造扩展到300-mm，对于实现我们客户满足当今和未来**AR/MR设备不断增长的市场需求所需的规模经济产量来说至关重要。通过携手合作，EVG和肖特彰显了当今300-mm高折射率玻璃制造的设备和供应链的就绪性?！痹诖酥?，使用光刻/纳米压印技术对具有光子学应用结构的玻璃基板进行图案成形***于200-mm基板。向300-mm晶圆加工的迁移是将AR/MR头戴显示设备推向大众消费和工业市场迈出的重要一步。不过，在这些较大的基板上保持高基板质量和工艺均匀性是很难控制的，需要先进的自动化和工艺控制能力...

纳米压印应用一：镜片成型 晶圆级光学（WLO）的制造得到EVG高达300 mm的高精度聚合物透镜成型和堆叠设备的支持。使用从晶片尺寸的主印模复制来的工作印模，通过软UV压印光刻将透镜图案转移到光学聚合物材料中。EV Group提供混合和单片微透镜成型工艺，可以轻松地适应各种材料组合，以用于工作印模和微透镜材料。EVG系统是客户进行大批量晶圆级镜头复制的优先。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。 EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统。上海纳米压印竞争...

客户示范 ■工艺开发 ■材料测试 ■与合作伙伴共同研发 ■资助项目 ■小批量试生产 ■IP管理 ■过程技术许可证 ■流程培训 →世界前列的洁净室基础设施 →**的设备 →技术** →**计量 →工艺知识 →应用知识 →与NIL的工作印模材料和表面化学有关的化学专业知识 新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案，并在显示器，生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。 岱美作为EVG在中国区的代理商，欢...

纳米压印设备哪个好？预墨印章用于将材料以明显的图案转移到基材上。该技术用于表面化学的局部修饰或捕获分子在生物传感器制造中的精确放置。 纳米压印设备可以进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。 将聚合物片或旋涂聚合物加热到其玻璃化转变温度以上，从而将材料转变为粘性状态。然后以足够的力将压模压入聚合物中。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。 岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。中科院纳米压印技术原理 EVGROUP?|产品/纳米压印光刻解决...

EVG ? 610 紫外线纳米压印光刻系统 具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从碎片到比较大150毫米。 该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并且可以选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻（NIL）。EVG610提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间*为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到**级别的所有需求，因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。 EVG开拓了这种非常规光刻技术，拥有多年技术，掌握了NIL，并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。...

EVG ? 720自动SmartNIL ? UV纳米压印光刻系统 自动全视野的UV纳米压印溶液达150毫米，设有EVG's专有SmartNIL ?技术 EVG720系统利用EVG的创新SmartNIL技术和材料专业知识，能够大规模制造微米和纳米级结构。具有SmartNIL技术的EVG720系统能够在大面积上印刷小至40 nm *的纳米结构，具有****的吞吐量，非常适合批量生产下一代微流控和光子器件，例如衍射光学元件（ DOEs）。 *分辨率取决于过程和模板 如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。也可以访问官网，获得更多信息。...

EV Group的一系列高精度热压花系统基于该公司市场**的晶圆键合技术。出色的压力和温度控制以及大面积上的均匀性可实现高精度的压印。热压印是一种经济高 效且灵活的制造技术，具有非常高的复制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高长宽比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。 NILPhotonics?能力中心-支持和开发 NILPhotonics能力中心是经过验证的创新孵化器。 欢迎各位客户来样制作，验证EVG的纳米压印设备的性能。 EVG开拓了这种非常规光刻技术，拥有多年技术，掌握了NIL，并已在不断增长的基...

EVG ? 620 NT特征： 顶部和底部对准能力 高精度对准台 自动楔形补偿序列 电动和程序控制的曝光间隙 支持***的UV-LED技术 **小化系统占地面积和设施要求 分步流程指导 远程技术支持 多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言） 敏捷处理和转换工具 台式或带防震花岗岩台的单机版 EVG ? 620 NT附加功能： 键对准 红外对准 SmartNIL μ接触印刷技术数据 晶圆直径（基板尺寸） 标准光刻：比较大150毫米的碎片 ...

对于压印工艺，EVG610允许基板的尺寸从小芯片尺寸到比较大直径150 mm。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外，还可以包括用于印章的释放机构。EV Group专有的卡盘设计可提供均匀的接触力，以实现高产量的压印，该卡盘支持软性和硬性印模。 EVG610特征： 顶部和底部对准能力 高精度对准台 自动楔形误差补偿机制 电动和程序控制的曝光间隙 支持***的UV-LED技术 **小化系统占地面积和设施要求 分步流程指导 远程技术支持 多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言） 敏...

SmartNIL是一项关键的启用技术，可用于显示器，生物技术和光子应用中的许多新创新。例如，SmartNIL提供了****的全区域共形压印，以便满足面板基板上线栅偏振器的**重要标准。SmartNIL还非常适合对具有复杂纳米结构的微流控芯片进行高精度图案化，以支持下一代药 物研究和医学诊断设备的生产。此外，SmartNIL的***发展为制造具有比较高功能，**小外形尺寸和大体积创新型光子结构提供了更多的自由度，这对于实现衍射光学元件（DOE）至关重要。 特征： 体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度 专有SmartNIL ?技术，多使用聚合物印模技术 经过生产...

EVG ? 510 HE热压印系统 应用：高度灵活的热压印系统，用于研发和小批量生产 EVG510 HE半自动热压印系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。该设备配置有通用压花室以及真空和接触力功能，并管理适用于热压印的全部聚合物。结合高纵横比压印和多种脱压选项，提供了许多用于高质量纳米图案转印的工艺。 EVG ? 510 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用 自动化压花工艺 EVG专有的**对准工艺，用于光学对准的压印和压印 完全由软件控制的流程执行 闭环冷却水供应选项 外部浮雕和冷却站 岱美作为EVG在中国区的...

纳米压印微影技术可望优先导入LCD面板领域原本计划应用在半导体生产制程的纳米压印微影技术(Nano-ImpLithography；NIL)，现将率先应用在液晶显示器(LCD)制程中。NIL为次世代图样形成技术。据ETNews报导，南韩显示器面板企业LCD制程研发小组，未确认NIL设备实际图样形成能力，直接参访海外NIL设备厂。该制程研发小组透露，若引进相关设备，将可提升面板性能。并已展开具体供货协商。NIL是以刻印图样的压印机，像盖章般在玻璃基板上形成图样的制程。在基板上涂布UV感光液后，再以压印机接触施加压力，印出面板图样。之后再经过蚀刻制程形成图样。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出...

在EVG的NILPhotonics?解决方案支援中心，双方合作研发用于制造光学传感器的新材料，以及适用于大众化市场的晶圆级光学元件。（奥地利）与WINDACH（德国），2019年11月27日――EV集团(EVG)这一全球**的为微机电系统、纳米技术与半导体市场提供晶圆键合与光刻设备的供应商，***宣布与高科技工业粘合剂制造商DELO在晶圆级光学元件(WLO)领域开展合作。这两家公司均在光学传感器制造领域处于**地位。它们的合作将充分利用EVG的透镜注塑成型与纳米压印光刻(NIL)加工设备与DELO先进的粘合剂与抗蚀材料，在工业，汽车，消费类电子产品市场开发与应用新型光学设备，例如生物特...

其中包括家用电器、医药、电子、光学、生命科学、汽车和航空业。肖特在全球34个国家和地区设有生产基地和销售办事处。公司目前拥有员工超过15500名，2017/2018财年的销售额为。总部位于德国美因茨的母公司SCHOTTAG由卡尔蔡司基金会（CarlZeissFoundation）全资拥有?？ǘ趟净鸹崾堑鹿?*悠久的私立基金会之一，同时也是德国规模比较大的科学促进基金会之一。作为一家基金公司，肖特对其员工，社会和环境负有特殊责任。关于EV集团（EVG）EV集团（EVG）是为半导体、微机电系统（MEMS）、化合物半导体、功率器件和纳米技术器件制造提供设备与工艺解决方案的**供应商。其...

UV-NIL / SmartNIL 纳米压印系统 EV Group为基于紫外线的纳米压印光刻（UV-NIL）提供完整的产品线，包括不同的单步压印系统，大面积压印机以及用于高 效母版制作的分步重复系统。除了柔软的UV-NIL，EVG还提供其专有的SmartNIL技术以及多种用途的聚合物印模技术。高 效，强大的SmartNIL工艺可提供高图案保真度，高度均匀的图案层和**少的残留层，并具有易于调整的晶圆尺寸和产量。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期承诺，即纳米压印是一种用于大规模生产微米和纳米级结构的高性能，低成本和具有批量生产能力的技术。 这个系列的型号包括：EV...

纳米压印应用三：连续性UV纳米压印 EVG770是用于步进重复纳米压印光刻的通用平台，可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从比较大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入方法相结合，分步重复刻印通常用于高 效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。 EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统。山东...

EVG ? 720特征： 体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度 专有SmartNIL ?技术，多使用聚合物印模技术 集成式压印，UV固化脱模和工作印模制造 盒带到盒带自动处理以及半自动研发模式 可选的顶部对准 可选的迷你环境 适用于所有市售压印材料的开放平台 从研发到生产的可扩展性 系统外壳，可实现比较好过程稳定性和可靠性技术数据 晶圆直径（基板尺寸） 75至150毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率LED（i线）> 400 mW /cm2...

EVG ? 7200 LA大面积SmartNIL ? UV纳米压印光刻系统 用于大面积****的共形纳米压印光刻。 EVG7200大面积UV纳米压印系统使用EVG专有且经过量证明的SmartNIL技术，将纳米压印光刻（NIL）缩放为第三代（550 mm x 650 mm）面板尺寸的基板。对于不能减小尺寸的显示器，线栅偏振器，生物技术和光子元件等应用，至关重要的是通过增加图案面积来提高基板利用率。NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济有效的方法，因为它不受光学系统的限制，并且可以为**小的结构提供比较好的图案保真度。 SmartNIL利用非常强大且可控的加工...

具体说来就是，MOSFET能够有效地产生电流流动，因为标准的半导体制造技术旺旺不能精确控制住掺杂的水平（硅中掺杂以带来或正或负的电荷），以确?？绺髯榧耐ǖ佬阅艿囊恢滦?。通常MOSFET是在一层二氧化硅（SiO2）衬底上，然后沉积一层金属或多晶硅制成的。然而这种方法可以不精确且难以完全掌控，掺杂有时会泄到别的不需要的地方，那样就创造出了所谓的“短沟道效应”区域，并导致性能下降。一个典型MOSFET不同层级的剖面图。不过威斯康星大学麦迪逊分校已经同全美多个合作伙伴携手（包括密歇根大学、德克萨斯大学、以及加州大学伯克利分校等），开发出了能够降低掺杂剂泄露以提升半导体品质的新技术。研究人员通...

UV纳米压印光刻系统 EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT：具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统 ■高精度对准台 ■自动楔形误差补偿机制 ■电动和程序控制的曝光间隙 ■支持***的UV-LED技术 ■**小化系统占地面积和设施要求 EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA：自动化的全场纳米压印解决方案，适用于第3代基材 ■体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度 ■专有的SmartNIL?技术和多用途聚合物印章技术 ■集成式压印，UV固化，脱模和工作印模制作 ■盒带间自动处理以及...

曲面基底上的纳米结构在许多领域都有着重要应用，例如仿生学、柔性电子学和光学器件等。传统的纳米压印技术通常采用刚性模板，可以实现亚10nm的分辨率，但是模板不能弯折，无法在曲面基底上压印制备纳米结构。而采用弹性模板的软压印技术可以在无外界提供压力下与曲面保形接触，实现结构在非平面基底上的压印复制，但是由于弹性模板的杨氏模量较低，所以压印结构的分辨率和精度都受到限制。基于目前纳米压印的发展现状，结合传统的纳米压印技术和软压印技术，中国科学院光电技术研究所团队发展了一种基于紫外光固化巯基-烯材料的亚100nm分辨率的复合软压印模板的制备方法，该模板包含刚性结构层和弹性基底层。（来自网络，侵权请联...

HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光纳米压印系统。 EVG的HERCULES ? NIL产品系列 HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ? UV-NIL系统达200毫米 对于大批量制造的完全集成的纳米压印光刻解决方案，具有EVG's专有SmartNIL ?印迹技术 HERCULES NIL是完全集成的UV纳米压印光刻跟 踪解决方案，适用于比较大200 mm的晶圆，是EVG的NIL产品组合的***成员。HERCULES NIL基于?？榛教?，将EVG专有的SmartNIL压印技...