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EVG ? 610 紫外线纳米压印光刻系统 具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从碎片到比较大150毫米。 该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并且可以选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻（NIL）。EVG610提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间*为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到**级别的所有需求，因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。 纳米压印设备哪个好？预墨印章可用于将材料以明显的图案转移到基材上。氮化镓纳米压印实际价格 纳米压印光...

HERCULES ? NIL完全?？榛图蒘martNIL ? UV-NIL系统达300毫米 结合EVG的SmartNIL一个完全?？榛教?技术支持AR / VR，3D传感器，光子和生物技术生产应用 EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个完全集成的跟 踪系统，将清洁，抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤与EVG专有的SmartNIL大面积纳米压印光刻（NIL）工艺结合在一个平台上，用于直径比较大为300 mm的晶圆。它是***个基于EVG的全?？榛璞钙教ê涂山换荒？榈腘IL系统，可为客户提供比较大的自由度来配置他们的系统，以比较好地满足其生产需求，包括200 ...

HERCULES NIL 300 mm提供了市场上**的纳米压印功能，具有较低的力和保形压印，快速的高功率曝光和平滑的压模分离。该系统支持各种设备和应用程序的生产，包括用于增强/虚拟现实（AR / VR）头戴式耳机的光学设备，3D传感器，生物医学设备，纳米光子学和等离激元学。 HERCULES ? NIL特征： 全自动UV-NIL压印和低力剥离 **多300毫米的基材 完全模块化的平台，具有多达八个可交换过程模块（压印和预处理） 200毫米/ 300毫米桥接工具能力 全区域烙印覆盖 批量生产**小40 nm或更小的结构 支持各种结构...

为了优化工艺链，HERCULES NIL中包括多次使用的软印章的制造，这是大批量生产的基石，不需要额外的压印印章制造设备。作为一项特殊功能，该工具可以升级为具有ISO 3 *功能的微型环境，以确保比较低的缺 陷率和比较高质量的原版复制。 通过为大批量生产提供完整的NIL解决方案，HERCULES NIL增强了EVG在***积NIL设备解决方案中的领导地位。 *根据ISO 14644 HERCULES ? NIL特征： 批量生产**小40 nm *或更小的结构 联合预处理（清洁/涂层/烘烤/寒意）和SmartNIL ? 体积验证的压印技术，具有出色的...

关于WaveOptics WaveOptics是衍射波导的全球**设计商和制造商，衍射波导是可穿戴AR设备中的关键光学组件。 诸如智能眼镜之类的AR可穿戴设备使用户能够观看覆盖在现实世界之上的数字图像。有两个关键元素可让您看到这些图像-微型投影仪之类的光源，以及将图像从投影仪传递到用户眼睛中的一种方式。 WaveOptics的波导技术可传输来自光源的光波并将其投射到用户的眼睛中。该技术可产生大的眼框，双目观察和高视野。眼图框（查看窗口）是从中可以看到完整图像的AR显示器的尺寸-请参见下图。WaveOptics的波导提供清晰，无失真的...

HERCULES NIL 300 mm提供了市场上**的纳米压印功能，具有较低的力和保形压印，快速的高功率曝光和平滑的压模分离。该系统支持各种设备和应用程序的生产，包括用于增强/虚拟现实（AR / VR）头戴式耳机的光学设备，3D传感器，生物医学设备，纳米光子学和等离激元学。 HERCULES ? NIL特征： 全自动UV-NIL压印和低力剥离 **多300毫米的基材 完全模块化的平台，具有多达八个可交换过程模块（压印和预处理） 200毫米/ 300毫米桥接工具能力 全区域烙印覆盖 批量生产**小40 nm或更小的结构 支持各种结构...

EVG ? 6200 NT特征： 顶部和底部对准能力 高精度对准台 自动楔形补偿序列 电动和程序控制的曝光间隙 支持***的UV-LED技术 **小化系统占地面积和设施要求 分步流程指导 远程技术支持 多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言） 敏捷处理和转换工具 台式或带防震花岗岩台的单机版 EVG ? 6200 NT附加功能： 键对准 红外对准 智能NIL ? μ接触印刷技术数据 晶圆直径（基板尺寸） 标准光刻：75至200 mm 柔...

”EV集团的技术研发与IP主管MarkusWimplinger说，“通过与供应链的关键企业的合作，例如DELO，我们能够进一步提高效率，作为与工艺和设备**们一同研究并建立关键的新生产线制造步骤的中心?！薄癊VG和DELO分别是晶圆级光学仪器与NIL设备与光学材料的技术与市场**企业。双方在将技术与工艺流程应用于大规模生产方面有可靠的经验,”DELO的董事总经理RobertSaller说道?！巴ü献?，我们将提供自己独特的技术，将晶圆级工艺技术应用于光学器件和光电器件制造中，EVG也成为我们***产品开发的理想合作伙伴。这种合作还将使我们以应用**和前列合作伙伴的身份为客户服务。"晶圆...

HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光纳米压印系统。 EVG的HERCULES ? NIL产品系列 HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ? UV-NIL系统达200毫米 对于大批量制造的完全集成的纳米压印光刻解决方案，具有EVG's专有SmartNIL ?印迹技术 HERCULES NIL是完全集成的UV纳米压印光刻跟 踪解决方案，适用于比较大200 mm的晶圆，是EVG的NIL产品组合的***成员。HERCULES NIL基于模块化平台，将EVG专有的SmartNIL压印技...

EVGROUP?|产品/纳米压印光刻解决方案 纳米压印光刻的介绍： EV Group是纳米压印光刻（NIL）的市场**设备供应商。EVG开拓了这种非常规光刻技术多年，掌握了NIL并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。EVG的专有SmartNIL技术通过多年的研究，开发和现场经验进行了优化，以解决常规光刻无法满足的纳米图案要求。SmartNIL可提供低至40 nm的出色保形压印结果。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。 EVG770是用于步进重复纳米压印光刻的通用平台，可用于进行母版制作或对基板上的复杂结...

纳米压印设备哪个好？预墨印章用于将材料以明显的图案转移到基材上。该技术用于表面化学的局部修饰或捕获分子在生物传感器制造中的精确放置。 纳米压印设备可以进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。 将聚合物片或旋涂聚合物加热到其玻璃化转变温度以上，从而将材料转变为粘性状态。然后以足够的力将压模压入聚合物中。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。 EVG ? 7200是自动SmartNIL ? UV纳米压印光刻系统。奥地利纳米压印联系电话 SmartNIL是行业**的NIL技术，可对小于...

其中包括家用电器、医药、电子、光学、生命科学、汽车和航空业。肖特在全球34个国家和地区设有生产基地和销售办事处。公司目前拥有员工超过15500名，2017/2018财年的销售额为。总部位于德国美因茨的母公司SCHOTTAG由卡尔蔡司基金会（CarlZeissFoundation）全资拥有?？ǘ趟净鸹崾堑鹿?*悠久的私立基金会之一，同时也是德国规模比较大的科学促进基金会之一。作为一家基金公司，肖特对其员工，社会和环境负有特殊责任。关于EV集团（EVG）EV集团（EVG）是为半导体、微机电系统（MEMS）、化合物半导体、功率器件和纳米技术器件制造提供设备与工艺解决方案的**供应商。其...

纳米压印应用三：连续性UV纳米压印 EVG770是用于步进重复纳米压印光刻的通用平台，可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从比较大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入方法相结合，分步重复刻印通常用于高 效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。 EVG ? 7200 LA是大面积SmartNIL ? UV紫外光纳米压印光刻系统。本地纳米压印技术服务 ...

EVG ? 770分步重复纳米压印光刻系统 分步重复纳米压印光刻技术，可进行有效的母版制作 EVG770是用于步进式纳米压印光刻的通用平台，可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从** 大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入方法相结合，分步重复刻印通常用于有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。 EVG770的主要功能包括精确的对准功能，完整的过程控制以及可满足各种设备和应用需求的灵活性。 纳米压印设备哪个好？预墨印章可用于将材料...

面板厂为补偿较低的开口率，多运用在背光?？榇钤亟隙郘ED的技术，但此作法的缺点是用电量较高。若运用NIL制程，可确保适当的开口率，降低用电量。利用一般曝光设备也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光设备一次可形成的图样面积较小。若要制造55吋面板，需要经过数十次的曝光制程。不仅制程时间长，经过多次曝光后，在图样间会形成细微的缝隙，无法完整显示影像。若将NIL技术应用在5代设备，可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜图样。在8代基板可制造6片55吋面板，6次的压印接触可处理完1片8代基板。南韩业者表示，在玻璃基板上形成偏光图样以提升质量的生产制程，是LCD领域中***一个创新任务。若加速NI...

IQ Aligner UV-NIL特征： 用于光学元件的微成型应用 用于全场纳米压印应用 三个**控制的Z轴，可在印模和基材之间实现出色的楔形补偿 三个**控制的Z轴，用于压印抗蚀剂的总厚度变化（TTV）控制 利用柔软的印章进行柔软的UV-NIL工艺 EVG专有的全自动浮雕功能 抵抗分配站集成 粘合对准和紫外线粘合功能 IQ Aligner UV-NIL技术数据： 晶圆直径（基板尺寸）：150至300毫米 解析度：≤50 nm（分辨率取决于模板和工艺） 支持流程：柔软的UV-NIL，镜片成型 曝光...

SmartNIL是一项关键的启用技术，可用于显示器，生物技术和光子应用中的许多新创新。例如，SmartNIL提供了****的全区域共形压印，以便满足面板基板上线栅偏振器的**重要标准。SmartNIL还非常适合对具有复杂纳米结构的微流控芯片进行高精度图案化，以支持下一代药 物研究和医学诊断设备的生产。此外，SmartNIL的***发展为制造具有比较高功能，**小外形尺寸和大体积创新型光子结构提供了更多的自由度，这对于实现衍射光学元件（DOE）至关重要。 特征： 体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度 专有SmartNIL ?技术，多使用聚合物印模技术 经过生产...

EV集团和肖特携手合作，证明300-MM光刻/纳米压印技术在大体积增强现实/混合现实玻璃制造中已就绪联合工作将在EVG的NILPhotonics?能力中心开展，这是一个开放式的光刻/纳米压印（NIL）技术创新孵化器，同时也是全球***可及的300-mm光刻/纳米压印技术线2019年8月28日，奥地利，圣弗洛里安――微机电系统（MEMS）、纳米技术和半导体市场晶圆键合与光刻设备**供应商EV集团（EVG）***宣布，与特种玻璃和微晶玻璃领域的**技术集团肖特携手合作，证明300-mm（12英寸）光刻/纳米压?。∟IL）技术在下一代增强现实/混合现实（AR/MR）头戴显示设备的波导/...

EVG ? 7200 LA特征： 专有SmartNIL ?技术，提供了****的印迹形大面积 经过验证的技术，具有出色的复制保真度和均匀性 多次使用的聚合物工作印模技术可延长母版使用寿命并节省大量成本 强大且精确可控的处理 与所有市售的压印材料兼容 EVG ? 7200 LA技术数据： 晶圆直径（基板尺寸）：直径200毫米（比较大Gen3）（550 x 650毫米） 解析度：40 nm-10 μm（分辨率取决于模板和工艺） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率窄带（> 400 mW /cm2） 对准：可选的...

SmartNIL是行业**的NIL技术，可对小于40 nm *的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现****的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景，即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本，大批量替代光刻技术。 *分辨率取决于过程和模板 如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV纳米压印光刻系统。EVG7200纳米压印质量怎么样 纳米压...

首先准备一块柔性薄膜作为弹性基底层，然后将巯基-烯预聚物旋涂在具有表面结构的母板上，弹性薄膜压印在巯基-烯层上，与材料均匀接触。巯基-烯材料可以在自然环境中固化通过“点击反应”形成交联聚合物，不受氧气和水的阻聚作用。顺利分离开母板后，弹性薄膜与固化后的巯基-烯层紧密连接在一起，获得双层结构的复合柔性模板。由于良好的材料特性，刚性巯基-烯结构层可以实现较高的分辨率。因此，利用该方法可以制备高 分辨的复合柔性模板，经过表面防粘处理后可以作为软压印模板使用。该研究利用新方法制备了以PDMS和PET为弹性基底的亚100nm线宽的光栅结构复合软压印模板。相关研究成果发表于《纳米科技与纳米技术杂志...

纳米压印光刻（NIL） -SmartNIL ? 用于大批量生产的大面积软UV纳米压印光刻工艺 介绍： EVG是纳米压印光刻（NIL）的市场**设备供应商。EVG开拓了这种非常规光刻技术多年，掌握了NIL并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。EVG的专有SmartNIL技术通过多年的研究，开发和现场经验进行了优化，以解决常规光刻无法满足的纳米图案要求。SmartNIL可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印结果。 如果要获得详细信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司或者访问官网。 EVG紫外光纳米压印系统有： EVG?610，EVG?620NT，EV...

为了优化工艺链，HERCULES NIL中包括多次使用的软印章的制造，这是大批量生产的基石，不需要额外的压印印章制造设备。作为一项特殊功能，该工具可以升级为具有ISO 3 *功能的微型环境，以确保比较低的缺 陷率和比较高质量的原版复制。 通过为大批量生产提供完整的NIL解决方案，HERCULES NIL增强了EVG在***积NIL设备解决方案中的领导地位。 *根据ISO 14644 HERCULES ? NIL特征： 批量生产**小40 nm *或更小的结构 联合预处理（清洁/涂层/烘烤/寒意）和SmartNIL ? 体积验证的压印技术，具有出色的...

EVG ? 770分步重复纳米压印光刻系统 分步重复纳米压印光刻技术，可进行有效的母版制作 EVG770是用于步进式纳米压印光刻的通用平台，可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从** 大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入方法相结合，分步重复刻印通常用于有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。 EVG770的主要功能包括精确的对准功能，完整的过程控制以及可满足各种设备和应用需求的灵活性。 EVG的纳米压印设备已使纳米图案能够在面...

它为晶圆级光学元件开发、原型设计和制造提供了一种独特的方法，可以方便地接触***研发技术与材料。晶圆级纳米压印光刻和透镜注塑成型技术确保在如3D感应的应用中使用小尺寸的高 分辨率光学传感器供应链合作推动晶圆级光学元件应用要在下一代光学传感器的大众化市场中推广晶圆级生产，先进的粘合剂与抗蚀材料发挥着不可取代的作用?？⑾冉墓庋Р牧希枰浞值匮芯炕А⒒涤牍庋匦?，以及已被证实的大规模生产（HVM）的可扩展性。拥有在NIL图形压印和抗蚀工艺方面的材料兼容性，以及自动化模制和脱模的专业知识，才能在已验证的大规模生产中，以**小的形状因子达到晶圆级光学元件的比较好性能。材料供应商与加工设备...

EVG ? 510 HE是EVG500系列的热压印系统 EV Group的一系列高精度热压印系统基于该公司市场**的晶圆键合技术。出色的压力和温度控制以及大面积的均匀性可实现高精度的压印。热压印是一种经济高 效且灵活的制造技术，对于尺寸低至50 nm的特征，其复制精度非常高。该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高纵横比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。压模与基板对准的组合可将热压纹与预处理的基板结构对准。这个系列包含的型号有：EVG?510HE，EVG?520HE。 EVG开拓了这种非常规光刻技术，拥有多年技术，掌握了NIL，并已在不断增长的基板尺寸上实现...

HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光纳米压印系统。 EVG的HERCULES ? NIL产品系列 HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ? UV-NIL系统达200毫米 对于大批量制造的完全集成的纳米压印光刻解决方案，具有EVG's专有SmartNIL ?印迹技术 HERCULES NIL是完全集成的UV纳米压印光刻跟 踪解决方案，适用于比较大200 mm的晶圆，是EVG的NIL产品组合的***成员。HERCULES NIL基于?？榛教?，将EVG专有的SmartNIL压印技...

EVG ? 770特征： 微透镜用于晶片级光学器件的高 效率制造主下降到纳米结构为SmartNIL ? 简单实施不同种类的大师 可变抗蚀剂分配模式 分配，压印和脱模过程中的实时图像 用于压印和脱模的原位力控制 可选的光学楔形误差补偿 可选的自动盒带间处理 EVG ? 770技术数据： 晶圆直径（基板尺寸）：100至300毫米 解析度：≤50 nm（分辨率取决于模板和工艺） 支持流程：柔软的UV-NIL 曝光源：大功率LED（i线）> 100 mW /cm2 对准：顶侧显微镜，用于实时重叠校准≤±500 n...

纳米压印应用一：镜片成型 晶圆级光学（WLO）的制造得到EVG高达300 mm的高精度聚合物透镜成型和堆叠设备的支持。使用从晶片尺寸的主印模复制来的工作印模，通过软UV压印光刻将透镜图案转移到光学聚合物材料中。EV Group提供混合和单片微透镜成型工艺，可以轻松地适应各种材料组合，以用于工作印模和微透镜材料。EVG系统是客户进行大批量晶圆级镜头复制的优先。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。 SmartNIL是基于紫外线曝光的全域型压印技术。UV纳米压印有谁在用 EVG ? 720特征： 体积验证的压...

据外媒报道，美国威斯康星大学麦迪逊分校（UWMadison）的研究人员们，已经同合作伙伴联手实现了一种突破性的方法。不仅**简化了低成本高性能、无线灵活的金属氧化物半导体场效应晶体管（MOSFET）的制造工艺，还克服了许多使用标准技术制造设备时所遇到的操作上的问题。该技术可用于制造大卷的柔性塑料印刷线路板，并在可穿戴电子设备和弯曲传感器等领域派上大用场。研究人员称，这项突破性的纳米压印平板印刷制造工艺，可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶体管。由于出色的低电流需求和更好的高频性能，MOSFET已经迅速取代了电子电路中常见的双极晶体管。为了满足不断缩小的集成电路需求，MOSFE...