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EVG公司技术开发和IP总监Markus Wimplinger补充说：“我们开发新技术和工艺以应对*复杂的挑战，帮助我们的客户成功地将其新产品创意商业化。技术，我们创建了我们的NILPhotonics能力中心。“在具有保护客户IP的强大政策的框架内，我们为客户提供了从可行性到生产阶段的产品开发和商业化支持。这正是我们***与AR领域的**者WaveOptics合作所要做的，以为*终客户提供真正可扩展的解决方案。” EVG的NILPhotonics?能力中心框架内的协作开发工作旨在支持WaveOptics的承诺，即在工业，企业和消费者等所有主要市场领...

SmartNIL是行业**的NIL技术，可对小于40 nm *的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现****的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景，即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本，大批量替代光刻技术。 注：*分辨率取决于过程和模板 如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 EVG开拓了这种非常规光刻技术，拥有多年技术，掌握了NIL，并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。镜片成型...

EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV纳米压印光刻系统。 用UV纳米压印能力为特色的EVG's专有SmartNIL通用掩模对准系统?技术，在100毫米范围内。 EVG620 NT以其灵活性和可靠性而闻名，它以**小的占位面积提供了***的掩模对准技术。操作员友好型软件，**短的掩模和模具更换时间以及有效的全球服务支持使它们成为任何研发环境（半自动批量生产）的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，以及背面对准选项。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻。此外，半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNI...

纳米压印光刻（NIL）技术 EVG是纳米压印光刻（NIL）设备和集成工艺的市场**供应商。EVG从19年前的研究方法中率先并掌握了NIL，并实现了从2英寸化合物半导体晶圆到300 mm晶圆甚至大面积面板的各种尺寸基板的批量生产。NIL是产生纳米尺度分辨率图案的**有前途且相当有成本效益的工艺，可用于生物MEMS，微流体，电子学以及**近各种衍射光学元件的各种商业应用。 其中EVG紫外光纳米压印系统型号包含： EVG?610 EVG?620NT EVG?6200NT EVG?720 EVG?7200 EVG?7200LA HERCUL...

**的衍射波导设计商和制造商WaveOptics***宣布与EV Group（EVG）进行合作，EV Group是晶圆键合和纳米压印光刻设备的**供应商，以带来高性能增强现实（ AR）波导以当今业界*低的成本进入大众市场。波导是可穿戴AR的关键光学组件。 WaveOptics首席执行官David Hayes评论：“这一合作伙伴关系标志着增强现实行业的转折点，是大规模生产高质量增强现实解决方案的关键步骤，这是迄今为止尚无法实现的能力。” EVG的专业知识与我们可扩展的通用技术的结合将使到明年年底，AR终端用户产品的市场价格将低于600美元。“这项合作...

IQ Aligner?：用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统 ■用于光学元件的微成型应用 ■用于全场纳米压印应用 ■三个**控制的Z轴，用于控制压印光刻胶的总厚度变化（TTV），并在压模和基材之间实现出色的楔形补偿 ■粘合对准和紫外线粘合功能 紫外线压印_紫外线固化 印章 防紫外线基材 附加印记压印纳米结构分离印记 用紫外线可固化的光刻胶旋涂或滴涂基材。随后，将压模压入光刻胶并在仍然接触的情况下通过UV光交联。 μ-接触印刷 软印章 基板上的材料 领取物料，物料转移，删除印章 IQ...

SmartNIL是行业**的NIL技术，可对小于40 nm *的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现****的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景，即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本，大批量替代光刻技术。 注：*分辨率取决于过程和模板 如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 EVG?770可用于连续重复的纳米压印光刻技术，可进行有效的母版制作。江苏实验室纳米压印 EVG ? 51...

EVG ? 510 HE是EVG500系列的热压印系统 EV Group的一系列高精度热压印系统基于该公司市场**的晶圆键合技术。出色的压力和温度控制以及大面积的均匀性可实现高精度的压印。热压印是一种经济高 效且灵活的制造技术，对于尺寸低至50 nm的特征，其复制精度非常高。该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高纵横比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。压模与基板对准的组合可将热压纹与预处理的基板结构对准。这个系列包含的型号有：EVG?510HE，EVG?520HE。 分步重复刻印通常用于高 效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的Smart NIL工艺所需的母...

HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光纳米压印系统。 EVG的HERCULES ? NIL产品系列 HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ? UV-NIL系统达200毫米 对于大批量制造的完全集成的纳米压印光刻解决方案，具有EVG's专有SmartNIL ?印迹技术 HERCULES NIL是完全集成的UV纳米压印光刻跟 踪解决方案，适用于比较大200 mm的晶圆，是EVG的NIL产品组合的***成员。HERCULES NIL基于模块化平台，将EVG专有的SmartNIL压印技...

SmartNIL技术简介 SmartNIL是基于紫外线曝光的全域型压印技术，可提供功能强大的下一代光刻技术，几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能，因此还可以实现****的吞吐量，并具有显着的拥有成本的优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作功能。另外，主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。 EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV纳米压印光刻系统。天津纳米压印可以免税吗 EVG ? 520 HE热压印系...

SmartNIL技术简介 SmartNIL是基于紫外线曝光的全域型压印技术，可提供功能强大的下一代光刻技术，几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能，因此还可以实现****的吞吐量，并具有显着的拥有成本的优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作功能。另外，主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。 EVG是纳米压印光刻（NIL）的市场**设备供应商。CMOS纳米压印推荐厂家 IQ Aligner UV-NIL特征： 用...

纳米压印光刻设备-处理结果： 新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案，并在显示器，生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。HRI SmartNIL?压印上的单个像素的1.AFM图像压印全息结构的AFM图像 资料来源：EVG与SwissLitho AG合作（欧盟项目SNM） 2.通过热压花在PMMA中复制微流控芯片 资料来源：EVG 3.高纵横比（7：1）的10 μm柱阵列 由加拿大国家研究委 员会提供 4.L / S光栅具有优化的残留层，厚度约为10 nm ...

EV Group的一系列高精度热压花系统基于该公司市场**的晶圆键合技术。出色的压力和温度控制以及大面积上的均匀性可实现高精度的压印。热压印是一种经济高 效且灵活的制造技术，具有非常高的复制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高长宽比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。 NILPhotonics?能力中心-支持和开发 NILPhotonics能力中心是经过验证的创新孵化器。 欢迎各位客户来样制作，验证EVG的纳米压印设备的性能。 EVG的纳米压印设备括不同的单步压印系统，大面积压印机以及用于高 效母版制作的...

通过中心提供的试验生产线基础设施，WaveOptics将超越其客户对下个季度的预期需求，并有一条可靠的途径将大批量生产工艺和设备转移至能够大规模生产波导的指定设施适用于全球前列OEM品牌。 WaveOptics与EVG的合作突显了其致力于以可实现的价格提供高性能，商用波导来帮助客户将AR显示器推向市场的承诺。利用EVG在批量生产设备和工艺技术方面的专业知识，到2019年，AR终端用户产品将以不到600美元的价格进入市场，这是当今行业中的*低价位。 EVG ? 720是自动SmartNIL ? UV紫外光纳米压印光刻系统。量产纳米压印保修期多久 纳米压...

纳米压印应用二：面板尺寸的大面积纳米压印 EVG专有的且经过大量证明的SmartNIL技术的***进展，已使纳米图案能够在面板尺寸比较大为Gen 3（550 mm x 650 mm）的基板上实现。对于不能减小尺寸的显示器，线栅偏振器，生物技术和光子元件等应用，至关重要的是通过增加图案面积来提高基板利用率。 NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济、高 效的方法，因为它不受光学系统的限制，并且可以为**小的结构提供比较好的图案保真度。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。 EVG620 NT是以其灵活性和可靠性而闻名的，因为它以...

纳米压印光刻设备-处理结果： 新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案，并在显示器，生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。HRI SmartNIL?压印上的单个像素的1.AFM图像压印全息结构的AFM图像 资料来源：EVG与SwissLitho AG合作（欧盟项目SNM） 2.通过热压花在PMMA中复制微流控芯片 资料来源：EVG 3.高纵横比（7：1）的10 μm柱阵列 由加拿大国家研究委 员会提供 4.L / S光栅具有优化的残留层，厚度约为10 nm ...

**的衍射波导设计商和制造商WaveOptics***宣布与EV Group（EVG）进行合作，EV Group是晶圆键合和纳米压印光刻设备的**供应商，以带来高性能增强现实（ AR）波导以当今业界*低的成本进入大众市场。波导是可穿戴AR的关键光学组件。 WaveOptics首席执行官David Hayes评论：“这一合作伙伴关系标志着增强现实行业的转折点，是大规模生产高质量增强现实解决方案的关键步骤，这是迄今为止尚无法实现的能力。” EVG的专业知识与我们可扩展的通用技术的结合将使到明年年底，AR终端用户产品的市场价格将低于600美元。“这项合作...

EVG ? 520 HE热压印系统 特色：经通用生产验证的热压印系统，可满足比较高要求 EVG520 HE半自动热压印系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。EVG的这种经过生产验证的系统可以接受直径比较大为200 mm的基板，并且与标准的半导体制造技术兼容。热压印系统配置有通用压花腔室以及高真空和高接触力功能，并管理适用于热压印的整个聚合物范围。结合高纵横比压印和多种脱压选项，提供了许多用于高质量图案转印和纳米分辨率的工艺。 如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能，因此还可以实现****的吞吐量。...

EVG ? 510 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用 自动化压花工艺 EVG专有的**对准工艺，用于光学对准的压印和压印 完全由软件控制的流程执行 闭环冷却水供应选项 外部浮雕和冷却站 EVG ? 510 HE技术数据： 加热器尺寸：150毫米 ，200毫米 比较大基板尺寸：150毫米，200毫米 **小基板尺寸：单芯片，100毫米 比较大接触力：10、20、60 kN 比较高温度：标准：350°C；可选：550°C 夹盘系统/对准系统 150毫米加热器：EVG ? 610，EVG ...

EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV纳米压印光刻系统。 用UV纳米压印能力设有EVG's专有SmartNIL通用掩模对准系统?技术范围达150m。这些系统以其自动化的灵活性和可靠性而著称，以**小的占地面积提供了** 新的掩模对准技术。操作员友好型软件，**短的掩模和工具更换时间以及高 效的全球服务和支持使它们成为任何研发环境（半自动批量生产）的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并且可以选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻。此外，半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的Sm...

EVG610特征： 顶部和底部对准能力 高精度对准台 自动楔形误差补偿机制 电动和程序控制的曝光间隙 支持***的UV-LED技术 **小化系统占地面积和设施要求 分步流程指导 远程技术支持 多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言） 敏捷处理和光刻工艺之间的转换 台式或带防震花岗岩台的单机版 EVG610附加功能： 键对准 红外对准 纳米压印光刻 μ接触印刷 EVG610技术数据： 晶圆直径（基板尺寸） 标准光刻：比较大150...

EVG ? 520 HE热压印系统 特色：经通用生产验证的热压印系统，可满足比较高要求 EVG520 HE半自动热压印系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。EVG的这种经过生产验证的系统可以接受直径比较大为200 mm的基板，并且与标准的半导体制造技术兼容。热压印系统配置有通用压花腔室以及高真空和高接触力功能，并管理适用于热压印的整个聚合物范围。结合高纵横比压印和多种脱压选项，提供了许多用于高质量图案转印和纳米分辨率的工艺。 如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV纳米压印光刻系统。奥地利纳...

EVG ? 720自动SmartNIL ? UV纳米压印光刻系统 自动全视野的UV纳米压印溶液达150毫米，设有EVG's专有SmartNIL ?技术 EVG720系统利用EVG的创新SmartNIL技术和材料专业知识，能够大规模制造微米和纳米级结构。具有SmartNIL技术的EVG720系统能够在大面积上印刷小至40 nm *的纳米结构，具有****的吞吐量，非常适合批量生产下一代微流控和光子器件，例如衍射光学元件（ DOEs）。 *分辨率取决于过程和模板 如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。也可以访问官网，获得更多信息。...

EVG ? 720自动SmartNIL ? UV纳米压印光刻系统 自动全视野的UV纳米压印溶液达150毫米，设有EVG's专有SmartNIL ?技术 EVG720系统利用EVG的创新SmartNIL技术和材料专业知识，能够大规模制造微米和纳米级结构。具有SmartNIL技术的EVG720系统能够在大面积上印刷小至40 nm *的纳米结构，具有****的吞吐量，非常适合批量生产下一代微流控和光子器件，例如衍射光学元件（ DOEs）。 *分辨率取决于过程和模板 如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。也可以访问官网，获得更多信息。...

EVG ? 510 HE是EVG500系列的热压印系统 EV Group的一系列高精度热压印系统基于该公司市场**的晶圆键合技术。出色的压力和温度控制以及大面积的均匀性可实现高精度的压印。热压印是一种经济高 效且灵活的制造技术，对于尺寸低至50 nm的特征，其复制精度非常高。该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高纵横比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。压模与基板对准的组合可将热压纹与预处理的基板结构对准。这个系列包含的型号有：EVG?510HE，EVG?520HE。 SmartNIL是基于紫外线曝光的全域型压印技术。中科院纳米压印供应商 纳米压印应用二：...

EVG ? 6200 NT特征： 顶部和底部对准能力 高精度对准台 自动楔形补偿序列 电动和程序控制的曝光间隙 支持***的UV-LED技术 **小化系统占地面积和设施要求 分步流程指导 远程技术支持 多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言） 敏捷处理和转换工具 台式或带防震花岗岩台的单机版 EVG ? 6200 NT附加功能： 键对准 红外对准 智能NIL ? μ接触印刷技术数据 晶圆直径（基板尺寸） 标准光刻：75至200 mm 柔...

SmartNIL是行业**的NIL技术，可对小于40 nm *的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现****的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景，即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本，大批量替代光刻技术。 *分辨率取决于过程和模板 如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 HERCULES?NIL是完全集成的纳米压印光刻解决方案，可实现300 mm的大批量生产。广西纳米压印三维芯片应用...

曲面基底上的纳米结构在许多领域都有着重要应用，例如仿生学、柔性电子学和光学器件等。传统的纳米压印技术通常采用刚性模板，可以实现亚10nm的分辨率，但是模板不能弯折，无法在曲面基底上压印制备纳米结构。而采用弹性模板的软压印技术可以在无外界提供压力下与曲面保形接触，实现结构在非平面基底上的压印复制，但是由于弹性模板的杨氏模量较低，所以压印结构的分辨率和精度都受到限制。基于目前纳米压印的发展现状，结合传统的纳米压印技术和软压印技术，中国科学院光电技术研究所团队发展了一种基于紫外光固化巯基-烯材料的亚100nm分辨率的复合软压印模板的制备方法，该模板包含刚性结构层和弹性基底层。（来自网络，侵权请联...

EVG ? 610 紫外线纳米压印光刻系统 具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从碎片到比较大150毫米。 该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并且可以选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻（NIL）。EVG610提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间*为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到**级别的所有需求，因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。 HERCULES?NIL是完全集成的纳米压印光刻解决方案，可实现300 mm的大批量生产。内蒙古纳米压...

EVG ? 520 HE热压印系统 特色：经通用生产验证的热压印系统，可满足比较高要求 EVG520 HE半自动热压印系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。EVG的这种经过生产验证的系统可以接受直径比较大为200 mm的基板，并且与标准的半导体制造技术兼容。热压印系统配置有通用压花腔室以及高真空和高接触力功能，并管理适用于热压印的整个聚合物范围。结合高纵横比压印和多种脱压选项，提供了许多用于高质量图案转印和纳米分辨率的工艺。 如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 EVG620 NT是以其灵活性和可靠性而闻名的，因为它以**小的占位面积提供了**...