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EVG ? 7200 LA特征： 专有SmartNIL ?技术，提供了****的印迹形大面积 经过验证的技术，具有出色的复制保真度和均匀性 多次使用的聚合物工作印模技术可延长母版使用寿命并节省大量成本 强大且精确可控的处理 与所有市售的压印材料兼容 EVG ? 7200 LA技术数据： 晶圆直径（基板尺寸）：直径200毫米（比较大Gen3）（550 x 650毫米） 解析度：40 nm-10 μm（分辨率取决于模板和工艺） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率窄带（> 400 mW /cm2） 对准：可选的...

EVG ? 770特征： 微透镜用于晶片级光学器件的高 效率制造主下降到纳米结构为SmartNIL ? 简单实施不同种类的大师 可变抗蚀剂分配模式 分配，压印和脱模过程中的实时图像 用于压印和脱模的原位力控制 可选的光学楔形误差补偿 可选的自动盒带间处理 EVG ? 770技术数据： 晶圆直径（基板尺寸）：100至300毫米 解析度：≤50 nm（分辨率取决于模板和工艺） 支持流程：柔软的UV-NIL 曝光源：大功率LED（i线）> 100 mW /cm2 对准：顶侧显微镜，用于实时重叠校准≤±500 n...

IQ Aligner UV-NIL特征： 用于光学元件的微成型应用 用于全场纳米压印应用 三个**控制的Z轴，可在印模和基材之间实现出色的楔形补偿 三个**控制的Z轴，用于压印抗蚀剂的总厚度变化（TTV）控制 利用柔软的印章进行柔软的UV-NIL工艺 EVG专有的全自动浮雕功能 抵抗分配站集成 粘合对准和紫外线粘合功能 IQ Aligner UV-NIL技术数据： 晶圆直径（基板尺寸）：150至300毫米 解析度：≤50 nm（分辨率取决于模板和工艺） 支持流程：柔软的UV-NIL，镜片成型 曝光...

HERCULES NIL 300 mm提供了市场上**的纳米压印功能，具有较低的力和保形压印，快速的高功率曝光和平滑的压模分离。该系统支持各种设备和应用程序的生产，包括用于增强/虚拟现实（AR / VR）头戴式耳机的光学设备，3D传感器，生物医学设备，纳米光子学和等离激元学。 HERCULES ? NIL特征： 全自动UV-NIL压印和低力剥离 **多300毫米的基材 完全模块化的平台，具有多达八个可交换过程模块（压印和预处理） 200毫米/ 300毫米桥接工具能力 全区域烙印覆盖 批量生产**小40 nm或更小的结构 支持各种结构...

SmartNIL是行业**的NIL技术，可对小于40 nm *的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现****的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景，即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本，大批量替代光刻技术。 注：*分辨率取决于过程和模板 如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 EVG高达300 mm的高精度聚合物透镜成型和堆叠设备支持晶圆级光学（WLO）的制造。图像传感器纳米压印免税价...

EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV纳米压印光刻系统。 用UV纳米压印能力为特色的EVG's专有SmartNIL通用掩模对准系统?技术，在100毫米范围内。 EVG620 NT以其灵活性和可靠性而闻名，它以**小的占位面积提供了***的掩模对准技术。操作员友好型软件，**短的掩模和模具更换时间以及有效的全球服务支持使它们成为任何研发环境（半自动批量生产）的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，以及背面对准选项。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻。此外，半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNI...

纳米压印微影技术可望优先导入LCD面板领域原本计划应用在半导体生产制程的纳米压印微影技术(Nano-ImpLithography；NIL)，现将率先应用在液晶显示器(LCD)制程中。NIL为次世代图样形成技术。据ETNews报导，南韩显示器面板企业LCD制程研发小组，未确认NIL设备实际图样形成能力，直接参访海外NIL设备厂。该制程研发小组透露，若引进相关设备，将可提升面板性能。并已展开具体供货协商。NIL是以刻印图样的压印机，像盖章般在玻璃基板上形成图样的制程。在基板上涂布UV感光液后，再以压印机接触施加压力，印出面板图样。之后再经过蚀刻制程形成图样。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出...

关于WaveOptics WaveOptics是衍射波导的全球**设计商和制造商，衍射波导是可穿戴AR设备中的关键光学组件。 诸如智能眼镜之类的AR可穿戴设备使用户能够观看覆盖在现实世界之上的数字图像。有两个关键元素可让您看到这些图像-微型投影仪之类的光源，以及将图像从投影仪传递到用户眼睛中的一种方式。 WaveOptics的波导技术可传输来自光源的光波并将其投射到用户的眼睛中。该技术可产生大的眼框，双目观察和高视野。眼图框（查看窗口）是从中可以看到完整图像的AR显示器的尺寸-请参见下图。WaveOptics的波导提供清晰，无失真的...

NIL300mmEV集团企业技术开发和知识产权总监MarkusWimplinger表示：“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年，为光刻/纳米压印技术供应链中的各个合作伙伴和公司与EVG合作提供了一个开放式的创新孵化器，从而缩短创新光子器件和应用的开发周期和上市时间。我们很高兴与肖特公司合作，证明EVG光刻/纳米压印技术解决方案的价值，不仅有助于新技术和新工艺的开发，还能够加速新技术和新工艺在大众市场中的采用。我们正在携手肖特开展的工作，彰显了光刻/纳米压印技术设备和工艺的成熟性，为各种令人兴奋的基于光子学的新产品和新应用的300-mm制造奠定了基础。”SCHOTTR...

EVG公司技术开发和IP总监Markus Wimplinger补充说：“我们开发新技术和工艺以应对*复杂的挑战，帮助我们的客户成功地将其新产品创意商业化。技术，我们创建了我们的NILPhotonics能力中心。“在具有保护客户IP的强大政策的框架内，我们为客户提供了从可行性到生产阶段的产品开发和商业化支持。这正是我们***与AR领域的**者WaveOptics合作所要做的，以为*终客户提供真正可扩展的解决方案。” EVG的NILPhotonics?能力中心框架内的协作开发工作旨在支持WaveOptics的承诺，即在工业，企业和消费者等所有主要市场领...

SmartNIL技术简介 SmartNIL是基于紫外线曝光的全域型压印技术，可提供功能强大的下一代光刻技术，几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能，因此还可以实现****的吞吐量，并具有显着的拥有成本的优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作功能。另外，主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。 分步重复刻印通常用于高 效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的Smart NIL工艺所需的母版。紫外光纳米压印联系电话 EVG ?...

纳米压印应用一：镜片成型 晶圆级光学（WLO）的制造得到EVG高达300 mm的高精度聚合物透镜成型和堆叠设备的支持。使用从晶片尺寸的主印模复制来的工作印模，通过软UV压印光刻将透镜图案转移到光学聚合物材料中。EV Group提供混合和单片微透镜成型工艺，可以轻松地适应各种材料组合，以用于工作印模和微透镜材料。EVG系统是客户进行大批量晶圆级镜头复制的优先。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。 EVG是纳米压印光刻（NIL）的市场**设备供应商。步进重复纳米压印研发生产 ”EV集团的技术研发与IP主管Ma...

在EVG的NILPhotonics?解决方案支援中心，双方合作研发用于制造光学传感器的新材料，以及适用于大众化市场的晶圆级光学元件。（奥地利）与WINDACH（德国），2019年11月27日――EV集团(EVG)这一全球**的为微机电系统、纳米技术与半导体市场提供晶圆键合与光刻设备的供应商，***宣布与高科技工业粘合剂制造商DELO在晶圆级光学元件(WLO)领域开展合作。这两家公司均在光学传感器制造领域处于**地位。它们的合作将充分利用EVG的透镜注塑成型与纳米压印光刻(NIL)加工设备与DELO先进的粘合剂与抗蚀材料，在工业，汽车，消费类电子产品市场开发与应用新型光学设备，例如生物特...

EVG ? 520 HE热压印系统 特色：经通用生产验证的热压印系统，可满足比较高要求 EVG520 HE半自动热压印系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。EVG的这种经过生产验证的系统可以接受直径比较大为200 mm的基板，并且与标准的半导体制造技术兼容。热压印系统配置有通用压花腔室以及高真空和高接触力功能，并管理适用于热压印的整个聚合物范围。结合高纵横比压印和多种脱压选项，提供了许多用于高质量图案转印和纳米分辨率的工艺。 如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 EVG620 NT是以其灵活性和可靠性而闻名的，因为它以**小的占位面积提供了**...

HERCULES ? NIL完全模块化和集成SmartNIL ? UV-NIL系统达300毫米 结合EVG的SmartNIL一个完全模块化平台?技术支持AR / VR，3D传感器，光子和生物技术生产应用 EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个完全集成的跟 踪系统，将清洁，抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤与EVG专有的SmartNIL大面积纳米压印光刻（NIL）工艺结合在一个平台上，用于直径比较大为300 mm的晶圆。它是***个基于EVG的全模块化设备平台和可交换模块的NIL系统，可为客户提供比较大的自由度来配置他们的系统，以比较好地满足其生产需求，包括200 ...

EVG ? 770特征： 微透镜用于晶片级光学器件的高 效率制造主下降到纳米结构为SmartNIL ? 简单实施不同种类的大师 可变抗蚀剂分配模式 分配，压印和脱模过程中的实时图像 用于压印和脱模的原位力控制 可选的光学楔形误差补偿 可选的自动盒带间处理 EVG ? 770技术数据： 晶圆直径（基板尺寸）：100至300毫米 解析度：≤50 nm（分辨率取决于模板和工艺） 支持流程：柔软的UV-NIL 曝光源：大功率LED（i线）> 100 mW /cm2 对准：顶侧显微镜，用于实时重叠校准≤±500 n...

SmartNIL技术简介 SmartNIL是基于紫外线曝光的全域型压印技术，可提供功能强大的下一代光刻技术，几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能，因此还可以实现****的吞吐量，并具有显着的拥有成本的优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作功能。另外，主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。 EV Group的一系列高精度热压花系统是基于该公司市场**的晶圆键合技术。EVG610纳米压印优惠价格 UV纳米压印光刻 ...

HERCULES ? NIL特征： 全自动UV-NIL压印和低力剥离 **多300毫米的基材 完全模块化的平台，具有多达八个可交换过程模块（压印和预处理） 200毫米/ 300毫米桥接工具能力 全区域烙印覆盖 批量生产**小40 nm或更小的结构 支持各种结构尺寸和形状，包括3D 适用于高地形（粗糙）表面 *分辨率取决于过程和模板 HERCULES ? NIL技术数据： 晶圆直径（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺） 支持流程：SmartNIL ...

关于WaveOptics WaveOptics是衍射波导的全球**设计商和制造商，衍射波导是可穿戴AR设备中的关键光学组件。 诸如智能眼镜之类的AR可穿戴设备使用户能够观看覆盖在现实世界之上的数字图像。有两个关键元素可让您看到这些图像-微型投影仪之类的光源，以及将图像从投影仪传递到用户眼睛中的一种方式。 WaveOptics的波导技术可传输来自光源的光波并将其投射到用户的眼睛中。该技术可产生大的眼框，双目观察和高视野。眼图框（查看窗口）是从中可以看到完整图像的AR显示器的尺寸-请参见下图。WaveOptics的波导提供清晰，无失真的...

SmartNIL技术简介 SmartNIL是基于紫外线曝光的全域型压印技术，可提供功能强大的下一代光刻技术，几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能，因此还可以实现****的吞吐量，并具有显着的拥有成本的优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作功能。另外，主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。 EVG紫外光纳米压印系统还有：EVG?7200LA，HERCULES?NIL，EVG?770，IQAligner?等。纳米压印优惠...

EVG ? 6200 NT特征： 顶部和底部对准能力 高精度对准台 自动楔形补偿序列 电动和程序控制的曝光间隙 支持***的UV-LED技术 **小化系统占地面积和设施要求 分步流程指导 远程技术支持 多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言） 敏捷处理和转换工具 台式或带防震花岗岩台的单机版 EVG ? 6200 NT附加功能： 键对准 红外对准 智能NIL ? μ接触印刷技术数据 晶圆直径（基板尺寸） 标准光刻：75至200 mm 柔...

纳米压印光刻设备-处理结果： 新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案，并在显示器，生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。HRI SmartNIL?压印上的单个像素的1.AFM图像压印全息结构的AFM图像 资料来源：EVG与SwissLitho AG合作（欧盟项目SNM） 2.通过热压花在PMMA中复制微流控芯片 资料来源：EVG 3.高纵横比（7：1）的10 μm柱阵列 由加拿大国家研究委 员会提供 4.L / S光栅具有优化的残留层，厚度约为10 nm ...

EVG ? 7200 LA特征： 专有SmartNIL ?技术，提供了****的印迹形大面积 经过验证的技术，具有出色的复制保真度和均匀性 多次使用的聚合物工作印模技术可延长母版使用寿命并节省大量成本 强大且精确可控的处理 与所有市售的压印材料兼容 EVG ? 7200 LA技术数据： 晶圆直径（基板尺寸）：直径200毫米（比较大Gen3）（550 x 650毫米） 解析度：40 nm-10 μm（分辨率取决于模板和工艺） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率窄带（> 400 mW /cm2） 对准：可选的...

为了优化工艺链，HERCULES NIL中包括多次使用的软印章的制造，这是大批量生产的基石，不需要额外的压印印章制造设备。作为一项特殊功能，该工具可以升级为具有ISO 3 *功能的微型环境，以确保比较低的缺 陷率和比较高质量的原版复制。 通过为大批量生产提供完整的NIL解决方案，HERCULES NIL增强了EVG在***积NIL设备解决方案中的领导地位。 *根据ISO 14644 HERCULES ? NIL特征： 批量生产**小40 nm *或更小的结构 联合预处理（清洁/涂层/烘烤/寒意）和SmartNIL ? 体积验证的压印技术，具有出色的...

它为晶圆级光学元件开发、原型设计和制造提供了一种独特的方法，可以方便地接触***研发技术与材料。晶圆级纳米压印光刻和透镜注塑成型技术确保在如3D感应的应用中使用小尺寸的高 分辨率光学传感器供应链合作推动晶圆级光学元件应用要在下一代光学传感器的大众化市场中推广晶圆级生产，先进的粘合剂与抗蚀材料发挥着不可取代的作用。开发先进的光学材料，需要充分地研究化学、机械与光学特性，以及已被证实的大规模生产（HVM）的可扩展性。拥有在NIL图形压印和抗蚀工艺方面的材料兼容性，以及自动化模制和脱模的专业知识，才能在已验证的大规模生产中，以**小的形状因子达到晶圆级光学元件的比较好性能。材料供应商与加工设备...

HERCULES ? NIL特征： 全自动UV-NIL压印和低力剥离 **多300毫米的基材 完全模块化的平台，具有多达八个可交换过程模块（压印和预处理） 200毫米/ 300毫米桥接工具能力 全区域烙印覆盖 批量生产**小40 nm或更小的结构 支持各种结构尺寸和形状，包括3D 适用于高地形（粗糙）表面 *分辨率取决于过程和模板 HERCULES ? NIL技术数据： 晶圆直径（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺） 支持流程：SmartNIL ...

SmartNIL技术简介 SmartNIL是基于紫外线曝光的全域型压印技术，可提供功能强大的下一代光刻技术，几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能，因此还可以实现****的吞吐量，并具有显着的拥有成本的优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作功能。另外，主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。 EVG的热压印是一种经济高 效且灵活的制造技术，具有非常高的复制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。掩模对准纳米压印参数 ...

EVG ? 720特征： 体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度 专有SmartNIL ?技术，多使用聚合物印模技术 集成式压印，UV固化脱模和工作印模制造 盒带到盒带自动处理以及半自动研发模式 可选的顶部对准 可选的迷你环境 适用于所有市售压印材料的开放平台 从研发到生产的可扩展性 系统外壳，可实现比较好过程稳定性和可靠性技术数据 晶圆直径（基板尺寸） 75至150毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率LED（i线）> 400 mW /cm2...

IQ Aligner UV-NIL特征： 用于光学元件的微成型应用 用于全场纳米压印应用 三个**控制的Z轴，可在印模和基材之间实现出色的楔形补偿 三个**控制的Z轴，用于压印抗蚀剂的总厚度变化（TTV）控制 利用柔软的印章进行柔软的UV-NIL工艺 EVG专有的全自动浮雕功能 抵抗分配站集成 粘合对准和紫外线粘合功能 IQ Aligner UV-NIL技术数据： 晶圆直径（基板尺寸）：150至300毫米 解析度：≤50 nm（分辨率取决于模板和工艺） 支持流程：柔软的UV-NIL，镜片成型 曝光...

HERCULES NIL 300 mm提供了市场上**的纳米压印功能，具有较低的力和保形压印，快速的高功率曝光和平滑的压模分离。该系统支持各种设备和应用程序的生产，包括用于增强/虚拟现实（AR / VR）头戴式耳机的光学设备，3D传感器，生物医学设备，纳米光子学和等离激元学。 HERCULES ? NIL特征： 全自动UV-NIL压印和低力剥离 **多300毫米的基材 完全模块化的平台，具有多达八个可交换过程模块（压印和预处理） 200毫米/ 300毫米桥接工具能力 全区域烙印覆盖 批量生产**小40 nm或更小的结构 支持各种结构...