EVG ® 7200 LA特征:
专有SmartNIL ®技术,提供了****的印迹形大面积
经过验证的技术,具有出色的复制保真度和均匀性
多次使用的聚合物工作印模技术可延长母版使用寿命并节省大量成本
强大且精确可控的处理
与所有市售的压印材料兼容
EVG ® 7200 LA技术数据:
晶圆直径(基板尺寸):直径200毫米(比较大Gen3)(550 x 650毫米)
解析度:40 nm-10 μm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程:SmartNIL ®
曝光源:大功率窄带(> 400 mW /cm2)
对准:可选的光学对准:≤±15 μm
自动分离:支持的
迷你环境和气候控制:可选的
工作印章制作:支持的
SmartNIL技术可提供功能强大的下一代光刻技术,几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。安徽中科院纳米压印
UV纳米压印光刻系统
EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT:具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统
■高精度对准台
■自动楔形误差补偿机制
■电动和程序控制的曝光间隙
■支持***的UV-LED技术
■**小化系统占地面积和设施要求
EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA:自动化的全场纳米压印解决方案,适用于第3代基材
■体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度
■专有的SmartNIL®技术和多用途聚合物印章技术
■集成式压印,UV固化,脱模和工作印模制作
■盒带间自动处理以及半自动研发模式
■适用于所有市售压印材料的开放平台
实验室纳米压印有谁在用岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。
EV Group的一系列高精度热压花系统基于该公司市场**的晶圆键合技术。出色的压力和温度控制以及大面积上的均匀性可实现高精度的压印。热压印是一种经济高 效且灵活的制造技术,具有非常高的复制精度,可用于**小50 nm的特征尺寸。该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高长宽比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。
NILPhotonics®能力中心-支持和开发
NILPhotonics能力中心是经过验证的创新孵化器。
欢迎各位客户来样制作,验证EVG的纳米压印设备的性能。
纳米压印光刻(NIL) -SmartNIL ®
用于大批量生产的大面积软UV纳米压印光刻工艺
介绍:
EVG是纳米压印光刻(NIL)的市场**设备供应商。EVG开拓了这种非常规光刻技术多年,掌握了NIL并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。EVG的专有SmartNIL技术通过多年的研究,开发和现场经验进行了优化,以解决常规光刻无法满足的纳米图案要求。SmartNIL可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印结果。
如果要获得详细信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司或者访问官网。
纳米压印设备哪个好?预墨印章可用于将材料以明显的图案转移到基材上。
EVG ® 770特征:
微透镜用于晶片级光学器件的高 效率制造主下降到纳米结构为SmartNIL ®
简单实施不同种类的大师
可变抗蚀剂分配模式
分配,压印和脱模过程中的实时图像
用于压印和脱模的原位力控制
可选的光学楔形误差补偿
可选的自动盒带间处理
EVG ® 770技术数据:
晶圆直径(基板尺寸):100至300毫米
解析度:≤50 nm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程:柔软的UV-NIL
曝光源:大功率LED(i线)> 100 mW /cm2
对准:顶侧显微镜,用于实时重叠校准≤±500 nm和精细校准≤±300 nm
较早印刷模具到模具的放置精度:≤1微米
有效印记区域:长达50 x 50毫米
自动分离:支持的
前处理:涂层:液滴分配(可选)
EVG先进的多用户概念可以适应从初学者到**级别的所有需求,因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。EVG7200LA纳米压印美元报价
SmartNIL的主要技术是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印结果。安徽中科院纳米压印
EVG ® 510 HE是EVG500系列的热压印系统
EV Group的一系列高精度热压印系统基于该公司市场**的晶圆键合技术。出色的压力和温度控制以及大面积的均匀性可实现高精度的压印。热压印是一种经济高
效且灵活的制造技术,对于尺寸低至50 nm的特征,其复制精度非常高。该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高纵横比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。压模与基板对准的组合可将热压纹与预处理的基板结构对准。这个系列包含的型号有:EVG®510HE,EVG®520HE。 安徽中科院纳米压印
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