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HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光纳米压印系统。 EVG的HERCULES ? NIL产品系列 HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ? UV-NIL系统达200毫米 对于大批量制造的完全集成的纳米压印光刻解决方案，具有EVG's专有SmartNIL ?印迹技术 HERCULES NIL是完全集成的UV纳米压印光刻跟 踪解决方案，适用于比较大200 mm的晶圆，是EVG的NIL产品组合的***成员。HERCULES NIL基于模块化平台，将EVG专有的SmartNIL压印技...

EVG ? 7200 LA特征： 专有SmartNIL ?技术，提供了****的印迹形大面积 经过验证的技术，具有出色的复制保真度和均匀性 多次使用的聚合物工作印模技术可延长母版使用寿命并节省大量成本 强大且精确可控的处理 与所有市售的压印材料兼容 EVG ? 7200 LA技术数据： 晶圆直径（基板尺寸）：直径200毫米（比较大Gen3）（550 x 650毫米） 解析度：40 nm-10 μm（分辨率取决于模板和工艺） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率窄带（> 400 mW /cm2） 对准：可选的...

EVG ? 510 HE热压印系统 应用：高度灵活的热压印系统，用于研发和小批量生产 EVG510 HE半自动热压印系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。该设备配置有通用压花室以及真空和接触力功能，并管理适用于热压印的全部聚合物。结合高纵横比压印和多种脱压选项，提供了许多用于高质量纳米图案转印的工艺。 EVG ? 510 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用 自动化压花工艺 EVG专有的**对准工艺，用于光学对准的压印和压印 完全由软件控制的流程执行 闭环冷却水供应选项 外部浮雕和冷却站 SmartNIL技术可提...

IQ Aligner UV-NIL 自动化紫外线纳米压印光刻系统 应用：用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统 IQ Aligner UV-NIL系统允许使用直径从150 mm至300 mm的压模和晶片进行微成型和纳米压印工艺，非常适合高度平行地制造聚合物微透镜。该系统从从晶圆尺寸的主图章复制的软性图章开始，提供了混合和整体式微透镜成型工艺，可以轻松地将其与工作图章和微透镜材料的各种材料组合相适应。此外，EV Group提供合格的微透镜成型工艺，包括所有相关的材料专业知识。EV Group专有的卡盘设计可为高产量大面积印刷提供均匀的接触力。配置包括从压印基材上释放印章的释...

EVG ? 720特征： 体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度 专有SmartNIL ?技术，多使用聚合物印模技术 集成式压印，UV固化脱模和工作印模制造 盒带到盒带自动处理以及半自动研发模式 可选的顶部对准 可选的迷你环境 适用于所有市售压印材料的开放平台 从研发到生产的可扩展性 系统外壳，可实现比较好过程稳定性和可靠性技术数据 晶圆直径（基板尺寸） 75至150毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率LED（i线）> 400 mW /cm2...

纳米压印应用二：面板尺寸的大面积纳米压印 EVG专有的且经过大量证明的SmartNIL技术的***进展，已使纳米图案能够在面板尺寸比较大为Gen 3（550 mm x 650 mm）的基板上实现。对于不能减小尺寸的显示器，线栅偏振器，生物技术和光子元件等应用，至关重要的是通过增加图案面积来提高基板利用率。 NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济、高 效的方法，因为它不受光学系统的限制，并且可以为**小的结构提供比较好的图案保真度。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。 EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV纳米...

EVG610特征： 顶部和底部对准能力 高精度对准台 自动楔形误差补偿机制 电动和程序控制的曝光间隙 支持***的UV-LED技术 **小化系统占地面积和设施要求 分步流程指导 远程技术支持 多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言） 敏捷处理和光刻工艺之间的转换 台式或带防震花岗岩台的单机版 EVG610附加功能： 键对准 红外对准 纳米压印光刻 μ接触印刷 EVG610技术数据： 晶圆直径（基板尺寸） 标准光刻：比较大150...

纳米压印应用二：面板尺寸的大面积纳米压印 EVG专有的且经过大量证明的SmartNIL技术的***进展，已使纳米图案能够在面板尺寸比较大为Gen 3（550 mm x 650 mm）的基板上实现。对于不能减小尺寸的显示器，线栅偏振器，生物技术和光子元件等应用，至关重要的是通过增加图案面积来提高基板利用率。 NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济、高 效的方法，因为它不受光学系统的限制，并且可以为**小的结构提供比较好的图案保真度。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。 EVG620 NT支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和...

面板厂为补偿较低的开口率，多运用在背光?？榇钤亟隙郘ED的技术，但此作法的缺点是用电量较高。若运用NIL制程，可确保适当的开口率，降低用电量。利用一般曝光设备也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光设备一次可形成的图样面积较小。若要制造55吋面板，需要经过数十次的曝光制程。不仅制程时间长，经过多次曝光后，在图样间会形成细微的缝隙，无法完整显示影像。若将NIL技术应用在5代设备，可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜图样。在8代基板可制造6片55吋面板，6次的压印接触可处理完1片8代基板。南韩业者表示，在玻璃基板上形成偏光图样以提升质量的生产制程，是LCD领域中***一个创新任务。若加速NI...

UV纳米压印光刻系统 EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT：具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统 ■高精度对准台 ■自动楔形误差补偿机制 ■电动和程序控制的曝光间隙 ■支持***的UV-LED技术 ■**小化系统占地面积和设施要求 EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA：自动化的全场纳米压印解决方案，适用于第3代基材 ■体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度 ■专有的SmartNIL?技术和多用途聚合物印章技术 ■集成式压印，UV固化，脱模和工作印模制作 ■盒带间自动处理以及...

EVG ? 610 紫外线纳米压印光刻系统 具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从碎片到比较大150毫米。 该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并且可以选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻（NIL）。EVG610提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间*为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到**级别的所有需求，因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。 EVG620 NT支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，以及背面对准选项。四川纳米压印...

EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV纳米压印光刻系统。 用UV纳米压印能力为特色的EVG's专有SmartNIL通用掩模对准系统?技术，在100毫米范围内。 EVG620 NT以其灵活性和可靠性而闻名，它以**小的占位面积提供了***的掩模对准技术。操作员友好型软件，**短的掩模和模具更换时间以及有效的全球服务支持使它们成为任何研发环境（半自动批量生产）的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，以及背面对准选项。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻。此外，半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNI...

EVG公司技术开发和IP总监Markus Wimplinger补充说：“我们开发新技术和工艺以应对*复杂的挑战，帮助我们的客户成功地将其新产品创意商业化。技术，我们创建了我们的NILPhotonics能力中心?！霸诰哂斜；た突P的强大政策的框架内，我们为客户提供了从可行性到生产阶段的产品开发和商业化支持。这正是我们***与AR领域的**者WaveOptics合作所要做的，以为*终客户提供真正可扩展的解决方案?！? EVG的NILPhotonics?能力中心框架内的协作开发工作旨在支持WaveOptics的承诺，即在工业，企业和消费者等所有主要市场领...

它为晶圆级光学元件开发、原型设计和制造提供了一种独特的方法，可以方便地接触***研发技术与材料。晶圆级纳米压印光刻和透镜注塑成型技术确保在如3D感应的应用中使用小尺寸的高 分辨率光学传感器供应链合作推动晶圆级光学元件应用要在下一代光学传感器的大众化市场中推广晶圆级生产，先进的粘合剂与抗蚀材料发挥着不可取代的作用?？⑾冉墓庋Р牧?，需要充分地研究化学、机械与光学特性，以及已被证实的大规模生产（HVM）的可扩展性。拥有在NIL图形压印和抗蚀工艺方面的材料兼容性，以及自动化模制和脱模的专业知识，才能在已验证的大规模生产中，以**小的形状因子达到晶圆级光学元件的比较好性能。材料供应商与加工设备...

HERCULES NIL 300 mm提供了市场上**的纳米压印功能，具有较低的力和保形压印，快速的高功率曝光和平滑的压模分离。该系统支持各种设备和应用程序的生产，包括用于增强/虚拟现实（AR / VR）头戴式耳机的光学设备，3D传感器，生物医学设备，纳米光子学和等离激元学。 HERCULES ? NIL特征： 全自动UV-NIL压印和低力剥离 **多300毫米的基材 完全?？榛钠教?，具有多达八个可交换过程?？椋ㄑ褂『驮ご恚? 200毫米/ 300毫米桥接工具能力 全区域烙印覆盖 批量生产**小40 nm或更小的结构 支持各种结构...

EVG ? 7200 LA特征： 专有SmartNIL ?技术，提供了****的印迹形大面积 经过验证的技术，具有出色的复制保真度和均匀性 多次使用的聚合物工作印模技术可延长母版使用寿命并节省大量成本 强大且精确可控的处理 与所有市售的压印材料兼容 EVG ? 7200 LA技术数据： 晶圆直径（基板尺寸）：直径200毫米（比较大Gen3）（550 x 650毫米） 解析度：40 nm-10 μm（分辨率取决于模板和工艺） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率窄带（> 400 mW /cm2） 对准：可选的...

它为晶圆级光学元件开发、原型设计和制造提供了一种独特的方法，可以方便地接触***研发技术与材料。晶圆级纳米压印光刻和透镜注塑成型技术确保在如3D感应的应用中使用小尺寸的高 分辨率光学传感器供应链合作推动晶圆级光学元件应用要在下一代光学传感器的大众化市场中推广晶圆级生产，先进的粘合剂与抗蚀材料发挥着不可取代的作用?？⑾冉墓庋Р牧?，需要充分地研究化学、机械与光学特性，以及已被证实的大规模生产（HVM）的可扩展性。拥有在NIL图形压印和抗蚀工艺方面的材料兼容性，以及自动化模制和脱模的专业知识，才能在已验证的大规模生产中，以**小的形状因子达到晶圆级光学元件的比较好性能。材料供应商与加工设备...

EV Group的一系列高精度热压花系统基于该公司市场**的晶圆键合技术。出色的压力和温度控制以及大面积上的均匀性可实现高精度的压印。热压印是一种经济高 效且灵活的制造技术，具有非常高的复制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高长宽比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。 NILPhotonics?能力中心-支持和开发 NILPhotonics能力中心是经过验证的创新孵化器。 欢迎各位客户来样制作，验证EVG的纳米压印设备的性能。 EV Group提供混合和单片微透镜成型工艺，能够轻松地适应各种材料组合，以用...

EV集团和肖特携手合作，证明300-MM光刻/纳米压印技术在大体积增强现实/混合现实玻璃制造中已就绪联合工作将在EVG的NILPhotonics?能力中心开展，这是一个开放式的光刻/纳米压印（NIL）技术创新孵化器，同时也是全球***可及的300-mm光刻/纳米压印技术线2019年8月28日，奥地利，圣弗洛里安――微机电系统（MEMS）、纳米技术和半导体市场晶圆键合与光刻设备**供应商EV集团（EVG）***宣布，与特种玻璃和微晶玻璃领域的**技术集团肖特携手合作，证明300-mm（12英寸）光刻/纳米压印（NIL）技术在下一代增强现实/混合现实（AR/MR）头戴显示设备的波导/...

NIL已被证明是在大面积上实现纳米级图案的相当有成本效益的方法，因为它不受光学光刻所需的复杂光学器件的限制，并且它可以为极小尺寸（小于100分）提供比较好图案保真度nm）结构。 EVG的SmartNIL是基于紫外线曝光的全场压印技术，可提供功能强大的下一代光刻技术，几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能，因此还可以实现****的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。另外，主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。 新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的纳米压印设备括不同的单步...

据外媒报道，美国威斯康星大学麦迪逊分校（UWMadison）的研究人员们，已经同合作伙伴联手实现了一种突破性的方法。不仅**简化了低成本高性能、无线灵活的金属氧化物半导体场效应晶体管（MOSFET）的制造工艺，还克服了许多使用标准技术制造设备时所遇到的操作上的问题。该技术可用于制造大卷的柔性塑料印刷线路板，并在可穿戴电子设备和弯曲传感器等领域派上大用场。研究人员称，这项突破性的纳米压印平板印刷制造工艺，可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶体管。由于出色的低电流需求和更好的高频性能，MOSFET已经迅速取代了电子电路中常见的双极晶体管。为了满足不断缩小的集成电路需求，MOSFE...

HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光纳米压印系统。 EVG的HERCULES ? NIL产品系列 HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ? UV-NIL系统达200毫米 对于大批量制造的完全集成的纳米压印光刻解决方案，具有EVG's专有SmartNIL ?印迹技术 HERCULES NIL是完全集成的UV纳米压印光刻跟 踪解决方案，适用于比较大200 mm的晶圆，是EVG的NIL产品组合的***成员。HERCULES NIL基于?？榛教?，将EVG专有的SmartNIL压印技...

EVG610特征： 顶部和底部对准能力 高精度对准台 自动楔形误差补偿机制 电动和程序控制的曝光间隙 支持***的UV-LED技术 **小化系统占地面积和设施要求 分步流程指导 远程技术支持 多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言） 敏捷处理和光刻工艺之间的转换 台式或带防震花岗岩台的单机版 EVG610附加功能： 键对准 红外对准 纳米压印光刻 μ接触印刷 EVG610技术数据： 晶圆直径（基板尺寸） 标准光刻：比较大150...

具体说来就是，MOSFET能够有效地产生电流流动，因为标准的半导体制造技术旺旺不能精确控制住掺杂的水平（硅中掺杂以带来或正或负的电荷），以确保跨各组件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一层二氧化硅（SiO2）衬底上，然后沉积一层金属或多晶硅制成的。然而这种方法可以不精确且难以完全掌控，掺杂有时会泄到别的不需要的地方，那样就创造出了所谓的“短沟道效应”区域，并导致性能下降。一个典型MOSFET不同层级的剖面图。不过威斯康星大学麦迪逊分校已经同全美多个合作伙伴携手（包括密歇根大学、德克萨斯大学、以及加州大学伯克利分校等），开发出了能够降低掺杂剂泄露以提升半导体品质的新技术。研究人员通...

EVG公司技术开发和IP总监Markus Wimplinger补充说：“我们开发新技术和工艺以应对*复杂的挑战，帮助我们的客户成功地将其新产品创意商业化。技术，我们创建了我们的NILPhotonics能力中心?！霸诰哂斜；た突P的强大政策的框架内，我们为客户提供了从可行性到生产阶段的产品开发和商业化支持。这正是我们***与AR领域的**者WaveOptics合作所要做的，以为*终客户提供真正可扩展的解决方案。” EVG的NILPhotonics?能力中心框架内的协作开发工作旨在支持WaveOptics的承诺，即在工业，企业和消费者等所有主要市场领...

SmartNIL技术简介 SmartNIL是基于紫外线曝光的全域型压印技术，可提供功能强大的下一代光刻技术，几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能，因此还可以实现****的吞吐量，并具有显着的拥有成本的优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作功能。另外，主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。 EVG紫外光纳米压印系统有： EVG?610，EVG?620NT，EVG?6200NT，EVG?720，EVG?7200等。**纳...

EVG ? 510 HE热压印系统 应用：高度灵活的热压印系统，用于研发和小批量生产 EVG510 HE半自动热压印系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。该设备配置有通用压花室以及真空和接触力功能，并管理适用于热压印的全部聚合物。结合高纵横比压印和多种脱压选项，提供了许多用于高质量纳米图案转印的工艺。 EVG ? 510 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用 自动化压花工艺 EVG专有的**对准工艺，用于光学对准的压印和压印 完全由软件控制的流程执行 闭环冷却水供应选项 外部浮雕和冷却站 SmartNIL技术可提...

纳米压印光刻（NIL）技术 EVG是纳米压印光刻（NIL）设备和集成工艺的市场**供应商。EVG从19年前的研究方法中率先并掌握了NIL，并实现了从2英寸化合物半导体晶圆到300 mm晶圆甚至大面积面板的各种尺寸基板的批量生产。NIL是产生纳米尺度分辨率图案的**有前途且相当有成本效益的工艺，可用于生物MEMS，微流体，电子学以及**近各种衍射光学元件的各种商业应用。 其中EVG紫外光纳米压印系统型号包含： EVG?610 EVG?620NT EVG?6200NT EVG?720 EVG?7200 EVG?7200LA HERCUL...

纳米压印应用三：连续性UV纳米压印 EVG770是用于步进重复纳米压印光刻的通用平台，可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从比较大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入方法相结合，分步重复刻印通常用于高 效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。 EVG ? 770是分步重复纳米压印光刻系统，使用分步重复纳米压印光刻技术，可进行有效的母版制作。芯片纳米...

IQ Aligner?：用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统 ■用于光学元件的微成型应用 ■用于全场纳米压印应用 ■三个**控制的Z轴，用于控制压印光刻胶的总厚度变化（TTV），并在压模和基材之间实现出色的楔形补偿 ■粘合对准和紫外线粘合功能 紫外线压印_紫外线固化 印章 防紫外线基材 附加印记压印纳米结构分离印记 用紫外线可固化的光刻胶旋涂或滴涂基材。随后，将压模压入光刻胶并在仍然接触的情况下通过UV光交联。 μ-接触印刷 软印章 基板上的材料 领取物料，物料转移，删除印章 EV...