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江苏纳米压印当地价格

来源: 发布时间:2020-10-20

EVG ® 7200 LA特征:

专有SmartNIL ®技术,提供了****的印迹形大面积

经过验证的技术,具有出色的复制保真度和均匀性

多次使用的聚合物工作印模技术可延长母版使用寿命并节省大量成本

强大且精确可控的处理

与所有市售的压印材料兼容


EVG ® 7200 LA技术数据:

晶圆直径(基板尺寸):直径200毫米(比较大Gen3)(550 x 650毫米)

解析度:40 nm-10 μm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率窄带(> 400 mW /cm2)

对准:可选的光学对准:≤±15 μm

自动分离:支持的

迷你环境和气候控制:可选的


工作印章制作:支持的


EVG770是用于步进重复纳米压印光刻的通用平台,可用于进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。江苏纳米压印当地价格

       EVG公司技术开发和IP总监Markus Wimplinger补充说:“我们开发新技术和工艺以应对*复杂的挑战,帮助我们的客户成功地将其新产品创意商业化。技术,我们创建了我们的NILPhotonics能力中心。“在具有保护客户IP的强大政策的框架内,我们为客户提供了从可行性到生产阶段的产品开发和商业化支持。这正是我们***与AR领域的**者WaveOptics合作所要做的,以为*终客户提供真正可扩展的解决方案。”

      EVG的NILPhotonics®能力中心框架内的协作开发工作旨在支持WaveOptics的承诺,即在工业,企业和消费者等所有主要市场领域释放AR在大众市场的应用,并遵循公司模块计划的推出。 全域纳米压印应用EVG提供不同的***积压印系统,大面积压印机,微透镜成型设备以及用于高 效母版制作的分步重复系统。

IQ Aligner UV-NIL特征:

用于光学元件的微成型应用

用于全场纳米压印应用

三个**控制的Z轴,可在印模和基材之间实现出色的楔形补偿

三个**控制的Z轴,用于压印抗蚀剂的总厚度变化(TTV)控制

利用柔软的印章进行柔软的UV-NIL工艺

EVG专有的全自动浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合对准和紫外线粘合功能


IQ Aligner UV-NIL技术数据:

晶圆直径(基板尺寸):150至300毫米

解析度:≤50 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:柔软的UV-NIL,镜片成型


曝光源:汞光源

对准:≤±0.5微米

自动分离:支持的

前处理:涂层:水坑点胶(可选)

迷你环境和气候控制:可选的


工作印章制作:支持的


    NIL300mmEV集团企业技术开发和知识产权总监MarkusWimplinger表示:“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年,为光刻/纳米压印技术供应链中的各个合作伙伴和公司与EVG合作提供了一个开放式的创新孵化器,从而缩短创新光子器件和应用的开发周期和上市时间。我们很高兴与肖特公司合作,证明EVG光刻/纳米压印技术解决方案的价值,不仅有助于新技术和新工艺的开发,还能够加速新技术和新工艺在大众市场中的采用。我们正在携手肖特开展的工作,彰显了光刻/纳米压印技术设备和工艺的成熟性,为各种令人兴奋的基于光子学的新产品和新应用的300-mm制造奠定了基础。”SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圆是**AR/MR设备的关键组件,已经实现了批量生产。产品组合提供了高达,支持深度沉浸的AR/MR应用,视野更广,高达65度。在与增强现实硬件制造商进行多年研发之后,肖特在2018年推出了***代SCHOTTRealView?。这款**产品在上市一年后便荣获了享有盛誉的2019年SID显示行业奖(SIDDisplayIndustryAward2019)。关于肖特肖特是特种玻璃、微晶玻璃和相关高科技材料领域的**国际技术集团。公司积累了超过130年的经验,是众多行业的创新合作伙伴。纳米压印设备可用来进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。

HERCULES ® NIL完全模块化和集成SmartNIL ® UV-NIL系统达300毫米

结合EVG的SmartNIL一个完全模块化平台®技术支持AR / VR,3D传感器,光子和生物技术生产应用


EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个完全集成的跟 踪系统,将清洁,抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤与EVG专有的SmartNIL大面积纳米压印光刻(NIL)工艺结合在一个平台上,用于直径比较大为300 mm的晶圆。它是***个基于EVG的全模块化设备平台和可交换模块的NIL系统,可为客户提供比较大的自由度来配置他们的系统,以比较好地满足其生产需求,包括200 mm和300 mm晶圆的桥接功能。


**小外形尺寸和大体积创新型光子结构提供了更多的自由度,这对于实现衍射光学元件(DOE)至关重要。芯片纳米压印有哪些品牌

SmartNIL的主要技术是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印结果。江苏纳米压印当地价格

纳米压印光刻设备-处理结果:

新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案,并在显示器,生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。HRI SmartNIL®压印上的单个像素的1.AFM图像压印全息结构的AFM图像

资料来源:EVG与SwissLitho

AG合作(欧盟项目SNM)

2.通过热压花在PMMA中复制微流控芯片

资料来源:EVG

3.高纵横比(7:1)的10 μm柱阵列

由加拿大国家研究委 员会提供

4.L / S光栅具有优化的残留层,厚度约为10 nm

资料来源:EVG

5.紫外线成型镜片300 μm

资料来源:EVG

6.光子晶体用于LED的光提取

多晶硅的蜂窝织构化(mc-Si)

由Fraunhofer ISE提供

7.金字塔形结构50 μm

资料来源:EVG

8.**小尺寸的光模块晶圆级封装

资料来源:EVG

9.光子带隙传感器光栅

资料来源:EVG(欧盟Saphely项目)

10.在强光照射下对HRISmartNIL®烙印进行完整的晶圆照相

资料来源:EVG 江苏纳米压印当地价格

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