HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

®的 UV-NIL紫外光纳米压印系统。

EVG的HERCULES ® NIL产品系列

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

® UV-NIL系统达200毫米

对于大批量制造的完全集成的纳米压印光刻解决方案，具有EVG's专有SmartNIL ®印迹技术

HERCULES NIL是完全集成的UV纳米压印光刻跟 踪解决方案，适用于比较大200 mm的晶圆，是EVG的NIL产品组合的***成员。HERCULES

NIL基于模块化平台，将EVG专有的SmartNIL压印技术与清洁，抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤相结合。这将HERCULES NIL变成了“一站式服务”，将裸露的晶圆装载到工具中，然后将经过完全处理的纳米结构晶圆退回。 EV Group的一系列高精度热压花系统是基于该公司市场**的晶圆键合技术。安徽纳米压印有哪些应用

为了优化工艺链，HERCULES NIL中包括多次使用的软印章的制造，这是大批量生产的基石，不需要额外的压印印章制造设备。作为一项特殊功能，该工具可以升级为具有ISO 3 *功能的微型环境，以确保比较低的缺 陷率和比较高质量的原版复制。

通过为大批量生产提供完整的NIL解决方案，HERCULES NIL增强了EVG在***积NIL设备解决方案中的领导地位。

*根据ISO 14644

HERCULES ® NIL特征：

批量生产**小40 nm *或更小的结构

联合预处理（清洁/涂层/烘烤/寒意）和SmartNIL ®

体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度

全自动压印和受控的低力分离，可很大程度地重复使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源，固化时间**快

优化的模块化平台可实现高吞吐量

*分辨率取决于过程和模板 台积电纳米压印质量怎么样 NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济、高 效的方法。

纳米压印设备哪个好？预墨印章用于将材料以明显的图案转移到基材上。该技术用于表面化学的局部修饰或捕获分子在生物传感器制造中的精确放置。

纳米压印设备可以进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。

将聚合物片或旋涂聚合物加热到其玻璃化转变温度以上，从而将材料转变为粘性状态。然后以足够的力将压模压入聚合物中。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。

    据外媒报道，美国威斯康星大学麦迪逊分校（UWMadison）的研究人员们，已经同合作伙伴联手实现了一种突破性的方法。不仅**简化了低成本高性能、无线灵活的金属氧化物半导体场效应晶体管（MOSFET）的制造工艺，还克服了许多使用标准技术制造设备时所遇到的操作上的问题。该技术可用于制造大卷的柔性塑料印刷线路板，并在可穿戴电子设备和弯曲传感器等领域派上大用场。研究人员称，这项突破性的纳米压印平板印刷制造工艺，可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶体管。由于出色的低电流需求和更好的高频性能，MOSFET已经迅速取代了电子电路中常见的双极晶体管。为了满足不断缩小的集成电路需求，MOSFET尺寸也在不断变小，然而这也引发了一些问题。EVG的纳米压印光刻（NIL） - SmartNIL ? 是用于大批量生产的大面积软UV纳米压印光刻工艺。

EVG ® 7200 LA特征：

专有SmartNIL ®技术，提供了****的印迹形大面积

经过验证的技术，具有出色的复制保真度和均匀性

多次使用的聚合物工作印模技术可延长母版使用寿命并节省大量成本

强大且精确可控的处理

与所有市售的压印材料兼容

EVG ® 7200 LA技术数据：

晶圆直径（基板尺寸）：直径200毫米（比较大Gen3）（550 x 650毫米）

解析度：40 nm-10 μm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率窄带（> 400 mW /cm2）

对准：可选的光学对准：≤±15 μm

自动分离：支持的

迷你环境和气候控制：可选的

工作印章制作：支持的

HERCULES?NIL是完全集成的纳米压印光刻解决方案，可实现300 mm的大批量生产。天津纳米压印当地价格

步进重复纳米压印光刻可以从比较大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。安徽纳米压印有哪些应用

曲面基底上的纳米结构在许多领域都有着重要应用，例如仿生学、柔性电子学和光学器件等。传统的纳米压印技术通常采用刚性模板，可以实现亚10nm的分辨率，但是模板不能弯折，无法在曲面基底上压印制备纳米结构。而采用弹性模板的软压印技术可以在无外界提供压力下与曲面保形接触，实现结构在非平面基底上的压印复制，但是由于弹性模板的杨氏模量较低，所以压印结构的分辨率和精度都受到限制。基于目前纳米压印的发展现状，结合传统的纳米压印技术和软压印技术，中国科学院光电技术研究所团队发展了一种基于紫外光固化巯基-烯材料的亚100nm分辨率的复合软压印模板的制备方法，该模板包含刚性结构层和弹性基底层。（来自网络，侵权请联系我们进行删除，谢谢！） 安徽纳米压印有哪些应用

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