掩膜版的种类 透明基板 1、透明玻璃 。石英玻璃（Quartz Glass）苏打玻璃（Soda-lime Glass）低膨胀玻璃（Low Expansion Glass） 2、透明树脂 遮光膜 （1）硬质遮光膜：铬膜氧化铁硅化钼硅。 （2）乳胶。 掩膜版的制作方法 溅镀法（Sputtering）： （1）上平行板：装载溅镀金属的靶材； 下平行板：作为溅镀对象的玻璃基板。 （2）将氩气（Ar 2 ）通入反应舱中形成等离子体； 氩离子（Ar + ）在电场中被加速后冲撞靶材； 受冲击的靶材原子会沉积在玻璃基板上从而形成薄膜。重庆直销掩膜版哪家强

光刻掩膜版的工艺过程： 1） 绘制生成设备可以识别的掩膜版版图文件（GDS格式） 2） 使用无掩模光刻机读取版图文件，对带胶的空白掩膜版进行非接触式曝光（曝光波长405nm），照射掩膜版上所需图形区域，使该区域的光刻胶（通常为正胶）发生光化学反应 3） 经过显影、定影后，曝光区域的光刻胶溶解脱落，暴露出下面的铬层 4） 使用铬刻蚀液进行湿法刻蚀，将暴露出的铬层刻蚀掉形成透光区域，而受光刻胶保护的铬层不会被刻蚀，形成不透光区域。这样便在掩膜版上形成透光率不同的平面图形结构。 5） 在有必要的情况下，使用湿法或干法方式去除掩膜版上的光刻胶层，并对掩膜版进行清洗。 其中掩膜版图形数据由用户自行设计并提交，后续加工工艺由工程师完成。由于图形数据准备是掩膜版加工中的关键步骤，要求用户对所提交的版图文件仔细核对，确保图形正确性。中国香港直销掩膜版质量放心可靠

光掩膜除了应用于芯片制造外，还***的应用与像LCD，PCB等方面。常见的光掩膜的种类有四种，铬版(chrome)、干版，凸版、液体凸版。主要分两个组成部分，基板和不透光材料?；逋ǔＪ歉叽慷?，低反射率，低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。铬的硬度比玻璃略小，虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。应用于芯片制造的光掩膜为高敏感度的铬版。干版涂附的乳胶，硬度小且易吸附灰尘，不过干版还有包膜和超微颗粒干版，其中后者可以应用于芯片制造。(顺便提一下，通常讲的菲林即film，底片或胶片的意思，感光为微小晶体颗粒)。

光掩膜版行业的发展主要受下游平板显示行业、触控行业、半导体行业和电路板行业的影响，与下游终端行业的发展趋势密切相关。 在光刻掩膜版领域，国内厂商与国外先进技术存在一定差距。目前，光罩的核心技术主要掌握在日本的HOYA、SKE，韩国的LG Micron、PKL以及我国台湾地区的AIPC等企业手中，由于其对于光掩膜版的关键技术与设备进行了较为严格的***，所以导致国内厂商在技术上与国外专业厂商相比存在一定的差距。 未来几年我国掩膜版行业将向大尺寸、精细化、全产业链方向发展，因此在需求持续增加的情况下，影响光掩膜行业发展的比较大因素还是技术的研究情况。

掩膜版，又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是下***业产品制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。通俗点理解，掩膜版的功能类似于传统照相机的“底片”。 掩膜版主要用于下游电子元器件制造业的批量生产，是下***业生产流程衔接的关键部分，是下游产品精度和质量的决定因素之一。 公司根据客户所需要的图形，用光刻机在原材料上光刻出相应的图形，将不需要的金属层和胶层洗去，即得到掩膜版产成品。北京专业掩膜版值得信赖

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