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高校纳米压印联系电话

来源: 发布时间:2019-12-29

SmartNIL是行业**的NIL技术,可对小于40 nm *的极小特征进行图案化,并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合,可实现****的吞吐量,并具有显着的拥有成本优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景,即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本,大批量替代光刻技术。

*分辨率取决于过程和模板


如果需要详细的信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 步进重复纳米压印光刻可以从比较大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。高校纳米压印联系电话

EVG610特征:

顶部和底部对准能力

高精度对准台

自动楔形误差补偿机制

电动和程序控制的曝光间隙

支持***的UV-LED技术

**小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)

敏捷处理和光刻工艺之间的转换

台式或带防震花岗岩台的单机版


EVG610附加功能:

键对准

红外对准

纳米压印光刻 

μ接触印刷


EVG610技术数据:

晶圆直径(基板尺寸)

标准光刻:比较大150毫米的碎片

柔软的UV-NIL:比较大150毫米的碎片

解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:柔软的UV-NIL

曝光源:汞光源或紫外线LED光源

自动分离:不支持

工作印章制作:外部


四川纳米压印微流控应用EVG ? 520 HE是热压印系统。

EVG ® 770分步重复纳米压印光刻系统

分步重复纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作


EVG770是用于步进式纳米压印光刻的通用平台,可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从**

大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入方法相结合,分步重复刻印通常用于有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。

EVG770的主要功能包括精确的对准功能,完整的过程控制以及可满足各种设备和应用需求的灵活性。

IQ Aligner UV-NIL特征:

用于光学元件的微成型应用

用于全场纳米压印应用

三个**控制的Z轴,可在印模和基材之间实现出色的楔形补偿

三个**控制的Z轴,用于压印抗蚀剂的总厚度变化(TTV)控制

利用柔软的印章进行柔软的UV-NIL工艺

EVG专有的全自动浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合对准和紫外线粘合功能


IQ Aligner UV-NIL技术数据:

晶圆直径(基板尺寸):150至300毫米

解析度:≤50 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:柔软的UV-NIL,镜片成型


曝光源:汞光源

对准:≤±0.5微米

自动分离:支持的

前处理:涂层:水坑点胶(可选)

迷你环境和气候控制:可选的


工作印章制作:支持的


SmartNIL是基于紫外线曝光的全域型压印技术。

UV纳米压印光刻

EV Group提供完整的UV纳米压印光刻(UV-NIL)产品线,包括不同的***积压印系统,大面积压印机,微透镜成型设备以及用于高 效母版制作的分步重复系统。除了柔软的UV-NIL,EVG还提供其专有的SmartNIL技术以及多种用途的聚合物印模技术。高 效,强大的SmartNIL工艺可提供高图案保真度,高度均匀的图案层和**少的残留层,并具有易于扩展的晶圆尺寸和产量。EVG的SmartNI技术达到了纳米压印的长期预期,即纳米压印是一种用于大规模生产微米和纳米级结构的高性能,低成本和具有批量生产能力的技术。


EVG770是用于步进重复纳米压印光刻的通用平台,可用于进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。青海纳米压印可以免税吗

EVG提供不同的***积压印系统,大面积压印机,微透镜成型设备以及用于高 效母版制作的分步重复系统。高校纳米压印联系电话

IQ Aligner®:用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统

■用于光学元件的微成型应用

■用于全场纳米压印应用

■三个**控制的Z轴,用于控制压印光刻胶的总厚度变化(TTV),并在压模和基材之间实现出色的楔形补偿

■粘合对准和紫外线粘合功能


紫外线压印_紫外线固化


印章

防紫外线基材

附加印记压印纳米结构分离印记

用紫外线可固化的光刻胶旋涂或滴涂基材。随后,将压模压入光刻胶并在仍然接触的情况下通过UV光交联。

μ-接触印刷

软印章

基板上的材料

领取物料,物料转移,删除印章


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