其包含含有钾盐的第1液、和含有溶纤剂的第2液。再者，本发明涉及印刷布线板、半导体基板、平板显示器或引线框的制造方法，其特征在于，在包括从施加有抗蚀剂的基材除去抗蚀剂的工序的印刷布线板、半导体基板、平板显示器或引线框的制造方法中，使用上述抗蚀剂的剥离液进行抗蚀剂的除去。发明效果本发明的抗蚀剂的剥离液即使是微细的布线间的抗蚀剂也能细小地粉碎。因此，本发明的抗蚀剂的剥离液适合于包括从施加有抗蚀剂的基材除去抗蚀剂的工序的印刷布线板、半导体基板、平板显示器或引线框的制造方法。具体实施方式本发明的抗蚀剂的剥离液(以下，称为“本发明剥离液”)含有氢氧化钾和溶纤剂。本发明剥离液中的钾盐没有特别限定，例如，可以举出氢氧化钾、碳酸钾等。需要说明的是，钾盐中不含相当于后述的硅酸盐的硅酸钾。这些之中推荐氢氧化钾。另外，本发明剥离液中的钾盐的含量没有特别限定，例如，推荐，更推荐，特别推荐。本发明剥离液中使用的溶纤剂是指乙二醇的醚类，例如，可以举出异丙基溶纤剂、丁基溶纤剂、二甲基溶纤剂、苯基丁基溶纤剂、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、苯基溶纤剂、苄基溶纤剂、卡必醇溶纤剂、二乙基溶纤剂等。这些之中推荐异丙基溶纤剂。另外。如何挑选一款适合自己公司的剥离液？绍兴天马用的蚀刻液剥离液批量定制

随着电子元器件制作要求的提高，相关行业应用对湿电子化学品纯度的要求也 不断提高。为了适应电子信息产业微处理工艺技术水平不断提高的趋势，并规范世 界超净高纯试剂的标准，国际半导体设备与材料组织（SEMI）将湿电子化学品按金 属杂质、控制粒径、颗粒个数和应用范围等指标制定国际等级分类标准。湿电子化 学品在各应用领域的产品标准有所不同，光伏太阳能电池领域一般只需要 G1 级水平；平板显示和 LED 领域对湿电子化学品的等级要求为 G2、G3 水平；半导体领域中， 集成电路用湿电子化学品的纯度要求较高，基本集中在 G3、G4 水平，分立器件对 湿电子化学品纯度的要求低于集成电路，基本集中在 G2 级水平。一般认为，产生集 成电路断丝、短路等物理性故障的杂质分子大小为**小线宽的 1/10。因此随着集成 电路电线宽的尺寸减少，对工艺中所需的湿电子化学品纯度的要求也不断提高。从 技术趋势上看，满足纳米级集成电路加工需求是超净高纯试剂今后发展方向之一。苏州天马用的蚀刻液剥离液产品介绍剥离液适用于哪些行业。

    缩短了某些领域与发达国家技术上的差距.腾田化学技术团队具有丰富分析及研发经验，彻底解决了化工领域如金属表面处理剂、清洗剂、金属加工液、橡胶、塑料、胶黏剂、涂料、水处理药剂、纺织印染助剂等企业配方改进、新产品研发的切实问题；正是腾田化学质量的口碑，赢得多个领域**企业关注，成功地建立精细化学品研发平台；在腾田化学共同努力下，民营企业不断技术创新，有利于化工行业的良好发展.腾田化学温馨提示：当你有产品分析数据，但是无法后期生产的时候，可以联系腾田化学科技（上海）有限公司。腾田化学的业务范围：1.各类胶粘剂产品配方分析以及产品研发，为客户提供产品配方及生产；2.涂料及油墨产品配方分析，为客户提供产品配方及生产；3.塑料和橡胶制品配方分析，包括各种助剂，如增塑剂、抗氧剂、阻燃剂等，为客户提供产品配方及生产；4.水泥缓凝剂分析：民用和各类工业用水泥缓凝剂，金属表面处理剂等，为客户提供产品配方及生产；5.工业故障分析诊断，提供解决方案；未知物剖析，各种未知固体和液体，膏体等，为客户提供产品配方及生产；6.日化产品：洗发、护发、护肤产品等；光亮剂、杀虫剂、空气清新剂等，为客户提供产品配方及生产。

    上述组分中，酰胺是用于溶解光刻胶；醇醚是用于润湿、膨润、溶解光刻胶的；环胺与链胺，用于渗透、断开光刻胶分子间弱结合力；缓蚀剂，用于降低对金属的腐蚀速度；润湿剂，能够增强亲水性，使得剥离液亲水性良好，能快速高效地剥离溶解光刻胶。进一步技术方案中，所述的步骤s3中重新制备剥离液新液，制备过程中加入酰胺化合物或醇醚化合物，其中重新制备新液时，加入的纯化液体质量分数为：70％-95％，加入的添加剂质量分数为：5％-10％；加入的酰胺化合物质量分数为：0-15％；加入的醇醚化合物质量分数为0-5％。在制备过程中额外加入酰胺化合物以及醇醚化合物是为了调节中心制备的剥离液新液中各组分的质量分数，将配比调节到更优的比例，使得剥离液新液的效果更好。经由上述的技术方案可知，与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：本发明对剥离液废液进行加压、蒸馏等处理，得出纯化液体，该纯化液体中所含的物质是剥离液新液中所含有的某些组分，而通过预先制备添加剂，可以在得出纯化液体后直接加入添加剂以及原材料，重新配备剥离液新液，使得剥离液废液得以循环再生，减少资源的浪费以及对环境的危害。苏州口碑好的剥离液公司。

    用显微镜观察也难以看出的程度)3：有少量残渣4：基本能剥离，但一部分残渣多5：一半以上能剥离，但一部分残渣多6：基本不能剥离，但一部分剥离7：不能剥离【表2】由该结果可知，在含有溶纤剂的抗蚀剂的剥离液中使用氢氧化钾代替氢氧化钠的本发明组成，与使用氢氧化钠的比较组成相比，即使l/s狭窄，也能除去抗蚀剂。(3)剥离性能的评价方法将液温设为50℃的各剥离液使用喷涂装置向上述试验片实施剥离处理，将试验片的粘性部分的dfr以目视全部面积的90％以上被剥离的时刻作为剥离时间。另外，剥离片尺寸(长边)是采集喷涂停止后附着于设置于试验基板固定用的台上的排渣用网眼的剥离片以目视实施的。此时的喷涂装置的条件设为全锥喷嘴且流量5l/min、压力。将其结果示于表3。(4)金属的浸蚀性的评价方法利用上述评价方法实施将喷涂运行时间固定在10分钟的处理。其后，将基板的镀铜部位通过电子显微镜(日立高新技术制：s-3400n)按照以下的评价基准评价表面形状。其结果也示于表3。<金属浸蚀性的评价基准>(分数)(内容)1：没有变化2：极略微有变化(用显微镜观察也难以看出的程度)3：略有变化4：发生***变色【表3】剥离时间(sec)剥离片尺寸。剥离液的主要成分是什么？绍兴天马用的蚀刻液剥离液批量定制

龙腾光电用的哪家的剥离液？绍兴天马用的蚀刻液剥离液批量定制

    光电行业的大力发展，致使剥离液被国内外研究人员所关注及研究，虽然在**网及技术网上对剥离液的阐述较少，但当前国内与国外均在剥离液废液如何利用及处置方面有了一定的成果，。美国专利US7273560公布了包含单乙醇胺与二乙二醇单丁醚组合的光刻胶剥离液废液中含有、77%的二乙二醇单丁醚、3%的光刻胶和。现有技术***采用的光刻胶剥离液废液回收方法通常是通过薄膜蒸发器回收大部分的有机成分，回收得到的有机组分或再经脱色脱水等处理后可再次作为光刻胶剥离液应用。这种方法虽然流程简便，但在使用薄膜蒸发器蒸发溶剂过程中，光刻胶浓度达到一定程度后其传热传质效率快速下降，使溶剂回收效率大为降低，处理能耗***升高。且除去溶剂后残留的光刻胶等物质需要定期将其***干净，进而影响工艺操作效率。另外，美国专利US公布了在蚀刻产线上设置过滤回收装置，通过粗孔和细孔过滤器的两步组合过滤法除去光刻胶，将光刻胶剥离液在产线上循环使用。 绍兴天马用的蚀刻液剥离液批量定制

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