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RPS远程等离子源-用于半导体设备工艺腔体原子级别的清洁
RPS远程等离子源-用于半导体设备工艺腔体原子级别的清洁
薄膜沉积技术通过在基底上沉积特定材料形成薄膜，以实现表面功能化与性能优化。
在半导体制造中，用于沉积绝缘层、导电层及介质层，构成集成电路结构；在光伏产业中，通过制备透明导电层与光吸收层，优化太阳能电池的转化效率与稳定性。
然而，薄膜沉积后的腔室、石墨舟及石英管等组件容易因残留膜层导致工艺异常与安全隐患，直接影响薄膜均匀性、设备稳定性及产品良率。
RPS远程等离子源解决方案
RPS远程等离子源是基于电感耦合等离子体技术的自成一体的原子发生器，利用原子的高活性强氧化特性，达到清洗CVD或其他腔室后生产工艺的目的。
产品优势
1.自研PEO表面处理工艺，可提升腔体内部洁净度，增加PEO膜层使用寿命，降低维护成本
2.晟鼎P L A SMA BLOCK更耐腐蚀，可提高使用寿命
3.高可靠点火方式，确保点火能量稳定
4.气体解离率高，效果可媲美进口设备
应用案例
1.薄膜设备腔室清洗
薄膜设备腔室通常材质包括不锈钢、铝合金、钛合金等金属材料，以及石英等非金属材料。在薄膜沉积过程中，腔室内壁易附着残留膜层，引发颗粒污染或膜层不均匀，需通过定期清洗以维护工艺稳定性。
腔体处理效果
RPS通过高活性的自由基和粒子轰击，处理腔室内壁表面膜层，且不损伤内壁镀层，可延长设备寿命、降低维护频率，保障稳定性。
*石英腔体处理效果对比
2.石墨舟膜层处理
石墨舟在LPCVD、扩散工艺中作为承载晶圆的工具，其表面覆盖的膜层会随着工艺次数的增加逐渐增厚，导致热导率降低，影响温度均匀性，造成薄膜厚度不均匀。
处理效果
RPS远程等离子可去除膜层，同时避免高温氧化腐蚀石墨材料，确保舟体结构完整，减少批次间交叉污染，提升承载重复性。
*石墨舟处理效果对比
3.光伏石英管膜层处理
石英管在长期沉积工艺中会持续附着薄膜。随着膜层增厚，易引发以下问题：
①应力导致硅裂产生颗粒污染
②引发石英管端部下垂，影响膜厚均匀性
处理效果
RPS远程等离子源可剥离石英管孔隙内的膜层，恢复其光学和热稳定性，保障工艺稳定性并提高使用寿命，降低维护成本。
*光伏石英管膜层处理效果对比
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