网站导航
RPS远程等离子源技术的优势与应用
一、RPS远程等离子源工作原理
RPS远程等离子源是一款基于电感耦合等离子体技术的自成一体的原子发生器，它的功能是用于半导体设备工艺腔体原子级别的清洁，使用工艺气体三氟化氮（NF3）/O2，在交变电场和磁场作用下，原材料气体会被解离，从而释放出自由基，活性离子进入工艺室与工艺室上沉积的污染材料（SIO/SIN）或者残余气体（H2O、O2、H2、N2）等物质产生化学反应，聚合为高活性气态分子经过真空泵组抽出处理腔室，提高处理腔室内部洁净度；
利用原子的高活性强氧化特性，达到清洗CVD或其他腔室后生产工艺的目的，为了避免不必要的污染和工作人员的高风险的湿式清洗工作，提高生产效率。
二、RPS远程等离子源应用原理
1.远程等离子的处理作用，是非常轻微的刻蚀，有一定的活性作用，主要与腔室内部的残余气体发生作用。但是对腔室内部的固体物质，例如：腔室内壁的金属材料与腔室内部的零配件，在工作时间较短（几十分钟）的情况下，一般只会发生浅表层的反应，几十纳米至几微米，因为腔室内部的材质一般是铝合金、不锈钢等，不容易被氧离子所刻蚀。
2.远程等离子工作时，用户本身的镀膜工艺是不工作的，所有没有直接接触到有机发光材料，就不会对有机发光材质造成损伤。即使是直接接触，其发生的轻微的表面作用，也不会造成损伤。
三、晟鼎RPS的九大优势
四、应用领域与典型案例
1.CVD腔室清洁
①清洁HDP-CVD腔（使用F原子）
②清洁PECVD腔（使用F原子）
③清洁Low-k CVD腔（使用O原子、F原子）
④清洁WCVD腔（使用F原子）
2.表面处理、反应性刻蚀和等离子体辅助沉积
①通过反应替代 （表 面氧化）进行表面改性
②辅助PECVD
③使用预活化氧气和氮气辅助低压反应性溅射沉积
④使用预活化氧气和氮气进行反应性蒸发沉积
⑤等离子体增强原子层沉积（PEALD）
公司信息
访问官网
我要咨询
每日热词
