场效应管工作原理用一句话说，就是“漏极-源极间流经沟道的ID， 用栅极与沟道间的pn结形成的反偏的栅极电压进行控制”。更正确地说，ID流经通路的宽度，即沟道截面积，它是由pn结反偏的变化，产生耗尽层扩展变化控制的缘故。在VGS=0的非饱和区域，表示的过渡层的扩展因为不很大，根据漏极-源极间所加VDS的电场，源极区域的某些电子被漏极拉去，即从漏极向源极有电流ID流动。从门极向漏极扩展的过度层将沟道的一部分构成堵塞型，ID饱和。将这种状态称为夹断。这意味着过渡层将沟道的一部分阻挡，并不是电流被切断。场效应管也可以用作开关，可以控制电路的通断。温州氧化物场效应管

场效应管由源极（Source）、漏极（Drain）和栅极（Gate）三个主要部分组成。在JFET中，栅极和通道之间通过PN结隔离；而在MOSFET中，栅极和通道之间由一层绝缘材料（通常是二氧化硅）隔离。当在栅极施加适当的电压时，会在栅极下方的半导体中形成一个导电沟道，从而控制漏极和源极之间的电流流动。主要参数阈值电压（Vth）：使场效应管开始导电的较小栅极电压。阈值电压是场效应管从截止区（Cutoff Region）过渡到饱和区（Saturation Region）的临界电压。当栅极-源极电压（VGS）低于Vth时，场效应管处于关闭状态，通道不导电；当VGS超过Vth时，通道形成，电流开始流动。温州氧化物场效应管场效应管是一种半导体器件，用于放大或开关电路中的信号。

MOS管三个极分别是什么及判定方法：mos管的三个极分别是：G（栅极），D（漏极）s（源及），要求栅极和源及之间电压大于某一特定值，漏极和源及才能导通。判断栅极G，MOS驱动器主要起波形整形和加强驱动的作用：假如MOS管的G信号波形不够陡峭，在点评切换阶段会造成大量电能损耗其副作用是降低电路转换效率，MOS管发烧严峻，易热损坏MOS管GS间存在一定电容，假如G信号驱动能力不够，将严峻影响波形跳变的时间。将G-S极短路，选择万用表的R×1档，黑表笔接S极，红表笔接D极，阻值应为几欧至十几欧。若发现某脚与其字两脚的电阻均呈无限大，并且交换表笔后仍为无限大，则证实此脚为G极，由于它和另外两个管脚是绝缘的。

我们经常看MOS管的PDF参数，MOS管制造商采用RDS(ON)参数来定义导通阻抗，对开关应用来说，RDS(ON)也是较重要的器件特性。数据手册定义RDS(ON)与栅极(或驱动)电压VGS以及流经开关的电流有关，但对于充分的栅极驱动，RDS(ON)是一个相对静态参数。一直处于导通的MOS管很容易发热。另外，慢慢升高的结温也会导致RDS(ON)的增加。MOS管数据手册规定了热阻抗参数，其定义为MOS管封装的半导体结散热能力。RθJC的较简单的定义是结到管壳的热阻抗。场效应管具有较长的使用寿命，可靠性高，降低了设备的维护成本。

场效应管（Field-Effect Transistor，简称FET）是电子技术中普遍使用的一种半导体器件，具有高输入阻抗、噪声低和低功耗等优点。场效应管的用途：一、场效应管可应用于放大。由于场效应管放大器的输入阻抗很高，因此耦合电容可以容量较小，不必使用电解电容器。二、场效应管很高的输入阻抗非常适合作阻抗变换。常用于多级放大器的输入级作阻抗变换。三、场效应管可以用作可变电阻。四、场效应管可以方便地用作恒流源。五、场效应管可以用作电子开关。总结场效应管在电子应用中非常普遍，了解基础知识之后我们接下来就可以运用它做一些电子开发了。在开关电路中，场效应管可以实现快速的开关操作，普遍应用于数字电路和电源控制中。温州氧化物场效应管

场效应管是一种半导体器件，可以控制电流的流动。温州氧化物场效应管

场效应晶体管：截止区：当 UGS 小于开启电压 UGSTH时，MOS 不导通。可变电阻区：UDS 很小，I_DID 随UDS 增大而增大。恒流区：UDS 变化，I_DID 变化很小。击穿区：UDS 达到一定值时，MOS 被击穿，I_DID 突然增大，如果没有限流电阻，将被烧坏。过损耗区：功率较大，需要加强散热，注意较大功率。场效应管主要参数。场效应管的参数很多，包括直流参数、交流参数和极限参数，但普通运用时主要关注以下一些重点参数：饱和漏源电流IDSS，夹断电压Up，（结型管和耗尽型绝缘栅管，或开启电压UT（加强型绝缘栅管）、跨导gm、漏源击穿电压BUDS、较大耗散功率PDSM和较大漏源电流IDSM。温州氧化物场效应管