微光显微镜（EMMI）无法探测到亮点的情况:

一、不会产生亮点的故障有欧姆接触（OhmicContact）金属互联短路（MetalInterconnectShort）表面反型层（SurfaceInversionLayer）硅导电通路（SiliconConductingPath）等。

二、亮点被遮蔽的情况有掩埋结（BuriedJunctions）及金属下方的漏电点（LeakageSitesunderMetal）。此类情况可采用背面观测模式（backsidemode），但该模式*能探测近红外波段的发光，且需对样品进行减薄及抛光处理等。 电路验证中出现闩锁效应及漏电，微光显微镜可定位位置，为电路设计优化提供依据，保障系统稳定运行。制造微光显微镜原理

当芯片内部存在漏电缺陷，如结漏电、氧化层漏电时，电子-空穴对复合会释放光子，微光显微镜(EMMI)能捕捉并定位。对于载流子复合异常情况，像闩锁效应、热电子效应引发的失效，以及器件在饱和态晶体管、正向偏置二极管等工作状态下的固有发光，它也能有效探测，为这类与光子释放相关的失效提供关键分析依据。

而热红外显微镜则主要用于排查与热量异常相关的芯片问题。金属互联短路、电源与地短接会导致局部过热，其可通过检测红外辐射差异定位。对于高功耗区域因设计缺陷引发的电流集中导致的热分布异常，以及封装或散热结构失效造成的整体温度异常等情况，它能生成温度分布图像，助力找出热量异常根源。 红外光谱微光显微镜24小时服务与原子力显微镜联用时，微光显微镜可同步获取样品的表面形貌和发光信息，便于关联材料的结构与电气缺陷。

可探测到亮点的情况

一、由缺陷导致的亮点结漏电（Junction Leakage）接触毛刺（Contact Spiking）热电子效应（Hot Electrons）闩锁效应（Latch-Up）氧化层漏电（Gate Oxide Defects / Leakage (F-N Current)）多晶硅晶须（Poly-silicon Filaments）衬底损伤（Substrate Damage）物理损伤（Mechanical Damage）等。

二、器件本身固有的亮点饱和 / 有源状态的双极晶体管（Saturated/Active Bipolar Transistors）饱和状态的 MOS 管 / 动态 CMOS（Saturated MOS/Dynamic CMOS）正向偏置二极管 / 反向偏置二极管（击穿状态）（Forward Biased Diodes / Reverse Biased Diodes (Breakdown)）等。

考虑到部分客户的特殊应用场景，我们还提供Thermal&EMMI的个性化定制服务。无论是设备的功能?？榈髡?、性能参数优化，还是外观结构适配，我们都能根据您的具体需求进行专属设计与研发。凭借高效的研发团队和成熟的生产体系，定制项目通常在 2-3 个月内即可完成交付，在保证定制灵活性的同时，充分兼顾了交付效率，让您的特殊需求得到及时且满意的答案。致晟光电始终致力于为客户提供更可靠、更贴心的服务，期待与您携手共进，共创佳绩。微光显微镜的快速预热功能，可缩短设备启动至正常工作的时间，提高检测效率。

OBIRCH与EMMI技术在集成电路失效分析领域中扮演着互补的角色，其主要差异体现在检测原理及应用领域。具体而言，EMMI技术通过光子检测手段来精确定位漏电或发光故障点，而OBIRCH技术则依赖于激光诱导电阻变化来识别短路或阻值异常区域。这两种技术通常被整合于同一检测系统（即PEM系统）中，其中EMMI技术在探测光子发射类缺陷，如漏电流方面表现出色，而OBIRCH技术则对金属层遮蔽下的短路现象具有更高的敏感度。例如，EMMI技术能够有效检测未开封芯片中的失效点，而OBIRCH技术则能有效解决低阻抗（<10 ohm）短路问题。支持自定义检测参数，测试人员可根据特殊样品特性调整设置，获得较为准确的检测结果。非制冷微光显微镜品牌排行

当金属层遮挡导致 OBIRCH 等无法侦测故障时，微光显微镜可进行补充检测。制造微光显微镜原理

同时，我们诚挚欢迎各位客户莅临苏州实验室进行深入交流。在这里，我们的专业技术团队将为您详细演示微光显微镜、热红外显微镜的全套操作流程，从基础功能到高级应用，一一讲解其中的技术原理与操作技巧。针对您在设备选型、使用场景、技术参数等方面的疑问，我们也会给予细致入微的解答，让您对失效分析领域掌握设备优势与适用范围。

这种面对面的深度沟通，旨在让合作过程更加透明，让您对我们的产品与服务更有信心，合作也更显安心。 制造微光显微镜原理