除了热辐射，电子设备在出现故障或异常时，还可能伴随微弱的光发射增强。热红外显微镜搭载高灵敏度的光学探测器，如光电倍增管（PMT）或电荷耦合器件（CCD），能够有效捕捉这些低强度的光信号。这类光发射通常源自电子在半导体材料中发生的能级跃迁、载流子复合或其他物理过程。通过对光发射信号的成像和分析，热红外显微镜不仅能够进一步验证热点区域的存在，还可辅助判断异常的具体机制，为故障定位和性能评估提供更精确的信息。监测微流控芯片、生物传感器的局部热反应，研究生物分子相互作用的热效应。惠阳区热红外显微镜

热红外显微镜（Thermal EMMI) 也是科研与教学领域的利器，其设备能捕捉微观世界的热信号。它将红外探测与显微技术结合，呈现物体表面温度分布，分辨率达微米级，可观察半导体芯片热点、电子器件热分布等。非接触式测量是其一大优势，无需与被测物体直接接触，避免了对样品的干扰，适用于多种类型的样品检测。实时成像功能可追踪动态热变化，如材料相变、化学反应热释放。在高校，热红外显微镜助力多学科实验；在企业，为产品研发和质量检测提供支持，推动各领域创新突破。 科研用热红外显微镜规格尺寸热红外显微镜能够探测到亚微米级别的热异常，检测精度极高 。

热红外显微镜是半导体失效分析与缺陷定位的三大主流手段之一（EMMI、THERMAL、OBIRCH），通过捕捉故障点产生的异常热辐射，实现精细定位。存在缺陷或性能退化的器件通常表现为局部功耗异常，导致微区温度升高。显微热分布测试系统结合热点锁定技术，能够高效识别这些区域。热点锁定是一种动态红外热成像方法，通过调节电压提升分辨率与灵敏度，并借助算法优化信噪比。在集成电路（IC）分析中，该技术广泛应用于定位短路、ESD损伤、缺陷晶体管、二极管失效及闩锁问题等关键故障。

非破坏性分析（NDA）以非侵入方式分析样品内部结构和性能，无需切割、拆解或化学处理，能保留样品完整性，为后续研究留有余地，在高精度、高成本的半导体领域作用突出。

无损分析，通过捕捉样品自身红外热辐射成像，全程无接触，无需对晶圆、芯片等进行破坏性处理。在半导体制造中，可识别晶圆晶体缺陷；封装阶段，能检测焊接点完整性或封装层粘结质量；失效分析时，可定位内部短路或断裂区域的隐性热信号，为根源分析提供依据，完美适配半导体行业对高价值样品的保护需求。 热红外显微镜对集成电路进行热检测，排查内部隐藏故障 。

热红外显微镜（Thermal EMMI) 作为一种能够捕捉微观尺度热辐射信号的精密仪器，其优势在于对材料、器件局部温度分布的高空间分辨率观测。

然而，在面对微弱热信号（如纳米尺度结构的热辐射、低功耗器件的散热特性等）时，传统热成像方法易受环境噪声、背景辐射的干扰，难以实现精细测量。锁相热成像技术的引入，为热红外显微镜突破这一局限提供了关键解决方案。通过锁相热成像技术的赋能，热红外显微镜从 “可见” 微观热分布升级为 “可测” 纳米级热特性，为微观尺度热科学研究与工业检测提供了不可或缺的工具。 热红外显微镜突破光学衍射极限，以纳米级分辨率呈现样品微观结构与热特性。检测用热红外显微镜探测器

区分 LED、激光二极管的电致发光热点与热辐射异常，优化光电转换效率。惠阳区热红外显微镜

致晟光电自主研发的热红外显微镜 Thermal EMMI P系列，是电子工业中不可或缺的精密检测工具，在半导体芯片、先进封装技术、功率电子器件以及印刷电路板（PCB）等领域的失效分析中发挥着举足轻重的作用。

该设备搭载——实时瞬态锁相红外热分析（RTTLIT）系统，并集成高灵敏度红外相机、多倍率可选显微镜镜头、精确高低压源表等技术组件，赋予其三大特性：超凡灵敏度与亚微米级检测精度，可捕捉微弱热信号与光子发射；高精度温度测量能力（锁相灵敏度达0.001℃），支持动态功耗分析；无损故障定位特性，无需破坏器件即可锁定短路、开路等缺陷。凭借技术集成优势，ThermaEMMIP系列不仅能快速定位故障点，更能通过失效分析优化产品质量与可靠性，为半导体制造、先进封装及电子器件研发提供关键技术支撑。 惠阳区热红外显微镜

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