比较TiN和TiAlN涂层刀具加工铝锂合金的切削性能和表面质量。方法使用硬质合金、TiN涂层和TiAlN涂层三种刀具,对2198-T8型铝锂合金进行干式铣削试验。改变切削因素的水平,比较刀具磨损、铝锂合金的表面粗糙度、切削力和切屑形态。结果铣削铝锂合金时,刀具主要磨损为粘附磨损,TiN涂层的粘附程度比较低,硬质合金次之,TiAlN涂层表面粘附较好严重,切削效能比较低。粘附磨损严重影响铣削成形的表面粗糙度,并使铣削力增加。铣削速度是影响工件表面粗糙度的主要因素,通过提高铣削速度可明显降低材料的粘结程度,降低表面粗糙度与铣削力,TiN涂层在铣削铝锂合金时较好小表面粗糙度可达到0.5μm以下。在相同的切削参数下,TiN涂层断屑均匀,切屑表面较为光滑,切屑塑性变形较好小。硬质合金刀具产生的切屑尺寸较短,切屑表面有少量带状条纹,TiAlN涂层刀具产生的切屑发生了严重的塑性变形。结论与TiAlN涂层和硬质合金刀具相比,TiN涂层刀具在铣削铝锂合金时的切削效能比较好,可以达到比较好的表面粗糙度和加工效果氮化钛具有金属光泽，可作为仿真的金色装饰材料，在代金装饰行业中具有良好的应用前景。南京镀钛氮化钛加工中心

口腔是有生物化学和电化学因素影响的复杂环境，具有较强的腐蚀性。因而对应用于口腔中的金属材料也提出了更高的要求。在磁性附着体的研究及临床应用中，我们发现磁性附着体在口腔中长期使用后所出现的腐蚀和磨损是导致磁性附着体的固位力下降的主要原因，也是影响磁性附着体远期应用效果的主要问题。进一步提高磁性附着体的耐腐蚀性和耐磨损性是解决这一问题的适合途径。近年来，随着当今各种镀膜技术，如化学气相沉积(chemicalvapordepositionCVD)、物物理相沉积(physicalvapordepositionPVD)、等离子体辅助化学气相沉积(physicalchemicalvapordepositionPCVD)、激光辅助化学气相沉积(laserchemicalvapordepositionLCVD)、离子镀(ionplateIP)和离子束辅助沉积技术(ionbeamassisteddepositionIBAD)等不断完善和发展，使具有高硬度、高耐磨性、良好耐腐蚀性的氮化钛纳米膜在国际和国内都得到了适合研究与应用。无锡镀黑氮化钛加工中心采用离子镀技术与多弧磁控耦合镀膜技术分别在柱塞上涂覆了TiN涂层和DLC涂层。

1.(1)氮化钛生物兼容性高，可以应用于临床医学和口腔医学方面。(2)氨化钛摩擦系数较低，可作为高温润滑剂。(3)氮化钛具有金属光泽，可作为仿真的金色装饰材料，在代金装饰行业中具有良好的应用前景;氮化钛还可以作为金色涂料应用于首饰行业;可以作为替代WC的潜在材料，使材料的应用成本大幅度降低。(4)有较为的硬度和耐磨性，可用于开发新型刀具，这种新型的刀具比普通硬质合金刀具的耐用度和使用寿命都显著提高。(5)氮化钛是一种新型的多功能陶瓷材料。在TiC-Mo-Ni系列的金属陶瓷中加入一定量的氮化钛，会使硬质相晶粒明显细化，从而使陶瓷的理学性能不管是在室温还是在高温条件下都有了很大程度的改善，继而使金属陶瓷的高温耐腐蚀性和抗氧化性得到很大提高;将TiN粉末按一定比例添加到陶瓷中，可增强陶瓷的强度、韧性和硬度;将纳米氮化钛添加到TiN/AI2O3复相纳米陶瓷中，通过各种方法(如机械混合法)等将其混合均匀，得到的这种含有纳米氨化钛颗粒的陶瓷材料内部便形成导电网络。这种材料可作为电子元件应用于半导体工业中。(6)在镁碳砖中添加一定量的TiN能够使镁碳砖的抗渣侵蚀性得到很大程度的提高。(7)氮化钛是一种优良的结构材料，可用于喷汽推进器以及火箭等。

1.氯化钛的超导临界温度较高，可作为优良的超导材料。氮化钛的熔点高于大多数过渡金属氮化物，密度低于大多数金属氮化物，从而成为一种独特的耐火材料。氮化钛可以作为一种膜镀在玻璃上，在红外线反射率大于75%的情况下，当氮化钛薄膜厚度大于90nm时能有效提高玻璃的保温性能。另外，调整氮化钛中氮元素的百分含量，可以改变氮化钛薄膜的颜色，从而达到理想的美观效果。氮化钛(TiN)是相当稳定的化台物，在高温下不与铁、铬、钙和镁等金属反应，TiN坩埚在CO与N2气氛下也不与酸性渣和碱性渣起作用，因此TiN坩埚是研究钢液与一些元素相互作用的优良容器。TiN在真空中加热失去氮，生成氮含量较低的氮化钛。TiN有着诱人的金黄色、熔点高、硬度大、化学稳定性好、与金属的润湿小的结构材料、并具有较高的导电性和超导性，可应用于高温结构材料和超导材料。国际上代金装饰技术发展相当快氮化钛在这方面的应用具有十分广阔的前景。

目前，国内外制备氮化钛涂层一般采用镀膜工艺，传统制备tin涂层方法为物物理相沉积(pvd)和化学气相沉积(cvd)工艺。这些方法制备氮化钛涂层纯度高、致密性好。但其沉积效率低，涂层厚度过薄(适合几个μm)，严重限制了氮化钛涂层在磨、蚀服役条件下的应用。为满足不断提高的氮化钛工业需求，高沉积效率的等离子喷涂工艺被用于氮化钛涂层的制备。采用大气反应等离子喷涂制备的tin涂层，厚度超过了500μm，但涂层疏松多孔，且含有杂质ti3o，一定程度上降低了tin涂层硬度。随着等离子喷涂技术不断发展，采用低压反应等离子喷涂技术(f4-vb)制备了氮化钛涂层，涂层呈致密层状结构，厚度能够达到70μm左右，但是其涂层物相组成为tin0.3、ti2n和tin相，涂层中存在未被氮化的钛颗粒，涂层氮化率适合为25％左右，影响tin涂层的硬度及耐磨性。因此，如何提高低压等离子喷涂制备氮化钛涂层中的涂层氮化率是亟需解决的问题。400℃下制备的碳掺杂氮化钛涂层(C-TiN-400℃),其导电性与耐蚀性均得到明显提升。烟台防锈氮化钛镀黑钛

TiN作催化剂载体，可通过提高贵金属铂利用率、增强金属-载体间相互作用、促进质量/电荷转移及增强耐腐蚀。南京镀钛氮化钛加工中心

50.本实验应用离子束辅助沉积技术在磁性附着体衔铁铁铬钼合金表面制备氮化钛纳米膜，希望通过氮化钛纳米膜优异的理化性能，增强磁性附着体的耐蚀性和耐磨性，从而改进磁性附着体的性能，并且对铁铬钼合金材料本体特性没有影响。实验结果表明：第四军医大学硕土学垃论文1．离子束辅助沉积技术可以在铁铬铜软磁合金表面获得非常致密与基体结合力极强的氮化钛纳米膜，膜与基体界面的结合力在65N—75N之间，完全能够满足实验及临床长期应用。2．铁铬钥合金表面镀氮化钛纳米膜处理前后磁性附着体磁力数值无明显改变，方差分析统计学处理，p劝．05，无统计学差别。即镀膜后磁固位力无改变。对磁性附着体的衔铁软磁合金进行镀膜处理，来研究改进磁性附着体性能是可行的c3．由自腐蚀电位所反映的腐蚀倾向；极化曲线反映的耐腐蚀性能；极化电阻、腐蚀电流密度反映的腐蚀速度等电化学指标均表明经IBAD制备氮化钛纳米膜的铁铬铝合金较未做表面镀膜处理的合金耐腐蚀性高。4．制备氮化钛纳米膜组显微硬度值明显高于未镀膜组有明显性差异，氮化钛纳米膜能够明显提高铁铬用合金的显微硬度，增强其耐磨性能。南京镀钛氮化钛加工中心