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    可通过蒸发或蒸馏或者通过对比给定温度下的泡点或的蒸气压来实施共沸型化合物的确定。在工业应用的情况下使用共沸物是特别有利的，以使组合物再生，例如当其饱和有污染物的时候。简单蒸馏可回收初的共沸组合物，而没有各组分的任何分馏。而且，2-甲基四氢呋喃(2-MeTHF)具有得自可再生原料(例如得自纤维素材料的糠醛)的优点。因此，半纤维素多糖是含有5个碳原子的基于糖的聚合物。当在硫酸的存在下加热半纤维素时，得到戊糖(含有5个碳原子的糖)，例如木糖。当进行木糖的热脱水时，该木糖转化为糠醛。除了低的GWP和它们的可生物降解性之外，根据本发明的一些组合物是不可燃的(根据ASTMD3828标准，闭杯闪点高于55°C)并且特别适合作为清洗溶剂或作为用于加热和冷却应用的制冷剂。它们也可用作发泡剂。实验部分实施例1通过使用沸点测定技术测量液体混合物的沸点。首先，将适量的九氟丁基甲基醚装料到沸点测定仪中，然后，使其沸腾。在达到平衡状态之后，记录在大气压下的沸点。然后，将甲基四氢呋喃的等分试样引入到所述沸点测定仪中并且在已达到平衡状态之后再次记录温度。表I给出九氟丁基甲基醚和甲基四氢呋喃的各种混合物在。

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    所述的磷酸浓度为82-87％。进一步地，本发明涉及上述蚀刻液，醇醚类的含量为％。进一步地，本发明涉及上述蚀刻液，表面活性剂的含量为％。进一步地，本发明涉及上述蚀刻液，所述的醇醚类为选自二乙二醇单甲醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚、二乙二醇丁醚、三乙二醇乙醚、三丙二醇单甲醚、三甘醇单丁醚等中的至少一种；表面活性剂为选自脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p、壬基酚聚氧乙烯醚np-10、聚乙二醇硬脂酸酯egms、烷基酚聚氧乙烯醚硫酸钠、月桂酰氨乙基硫酸钠、醇醚羧酸盐等中的至少一种。进一步地，在使用本发明的蚀刻液进行氮化硅层蚀刻时，蚀刻温度为152-165℃，蚀刻时间为5-60min。通过在磷酸中添加醇醚类和表面活性剂，改善了磷酸的浸润性和表面张力，明显提高了蚀刻液对氮化硅层的润湿和蚀刻均匀性。为了便于验证氮化硅薄膜层的蚀刻均匀性，本发明使用淀积了氮化硅薄膜的晶圆样片(初始厚度约为)。蚀刻液配制完成后，先使用表面张力仪检测该蚀刻液的表面张力；然后将氮化硅晶圆片切割成1cm*3cm的小样片，采用超纯水清洗和氮气吹干后，使用接触角测量仪检测蚀刻液对氮化硅层的接触角大小。在蚀刻前，使用椭圆偏振光谱仪对氮化硅样片取不同位置共6个点进行厚度的测量。江苏电子级BOE蚀刻液商家