入30mL封闭溶液（MultiBlot为15毫升）。向下按框架并转动系统旋钮施加真空。当框架完全为空时，关闭真空。注意：如果使用抗体回收托盘，请在步骤5之后插入托盘。有关详细信息，请参阅“抗体恢复”部分。 6.在整个表面上涂适量的一抗吸墨纸架的数量（对于MultiBlot为2.5毫升，对于迷你吸墨纸为5毫升，或10mL用于Midi印迹）。7.在室温下孵育10分钟。解决方案将是吸收到污点固定器中，表面可能会变干。重要提示：请勿在吸尘器清洁后再使用真空吸尘器。孵育10分钟。8.向WB实验加速器可同时操作4个WB实验加速。金山区Merck实验加速器WB实验加速器联系方式

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升），慢慢散布整个印迹中的抗体。应用至少2.5mL（用于MultBlot），5mL（用于Miniblot）或10mL（用于Midi印迹）抗体。抗体体积低没有抗体回收盘确保抗体中的孔，回收托盘algn恢复正确放置戴姆·贝叶'底部的针脚。'处理了两帧首先对一帧施加真空，然后再对另一帧施加真空，以确保同时在每个框架上施加足够的真空力。MultiBlot框架用于在MuHBlot框架中进行单点印迹时，放置正确汉克处理一次印迹，然后空白卡在空井。未放入空白卡空井。 规格方面底座（长x宽x金山区Merck实验加速器WB实验加速器联系方式