离散的互连结构限定连接至图2的存储器阵列102的列内的相应存储单元的两条字线wl1至wl2以及连接至图2的存储器阵列102的行内的相应存储单元的位线bl1。在一些实施例中，存储单元202a,1的工作mtj器件106、调节mtj器件204和第二调节mtj器件206可以通过第二多个通孔412b连接至第三互连层406c。在一些实施例中，一个或多个附加存储单元可以布置在存储单元202a,1上方。在这样的实施例中，第四互连层406d在第二存储单元202b,1的工作mtj器件106、调节mtj器件204和第二调节mtj器件206正下方延伸为连续结构。第四互连层406d通过第五互连层406e和第三多个通孔412c连接至第二存储单元202b,1的工作mtj器件106、调节mtj器件204和第二调节mtj器件206。第六互连层406f限定连接至图2的存储器阵列102的列内的相应存储单元的两条字线wl3至wl4以及连接至图2的存储器阵列102的行内的相应存储单元的位线bl2。在一些实施例中，第二存储单元202a,2的工作mtj器件106、调节mtj器件204和第二调节mtj器件206可以通过第四多个通孔412d连接至第六互连层406f。在其它实施例(未示出)中，一个或多个附加存储单元可以横向地布置为邻近存储单元202a,1。在一些这样的实施例中。上海海谷电子有限公司为您提供回收，有想法的可以来电咨询！浙江废弃电子料回收收购

导电覆盖层可以由金属氮化物(例如，tin、tan、它们的组合等)形成。间隙填充金属层可以填充有源区ac之间的空间并且在导电覆盖层上延伸。间隙填充金属层可以由w(例如，钨)层形成。间隙填充金属层可以例如通过使用ald方法、cvd方法或物相沉积(pvd)方法形成。多个导电接触件ca和cb可以位于有源区ac上的层ly1上。多个导电接触件ca和cb包括连接到有源区ac的源区/漏区116的多个接触件ca21、22、23、24、25、31、32、33、34和35(参见图12b)和连接到栅极线pc11、12、13、14、15和16的多个第二接触件cb41、42和43(参见图12a和12c)。多个导电接触件ca和cb可以通过覆盖有源区ac和栅极线pc的层间绝缘层132彼此绝缘。多个导电接触件ca和cb可以具有与层间绝缘层132的上表面基本处于同一水平处的上表面。层间绝缘层132可以是氧化硅层。第二层间绝缘层134和穿过第二层间绝缘层134的多个下通孔接触件v051、52、53、54、55、56、57、58、59、60、61和62位于层间绝缘层132上。第二层间绝缘层134可以是氧化硅层。在高于层ly1(例如，沿着第三方向z距基底110更远)的第二层ly2上沿方向x延伸的多条线路m171、72、73、74、75、76、77和78可以位于第二层间绝缘层134上。甘肃集成电路回收中心上海海谷电子有限公司是一家专业提供回收的公司，欢迎新老客户来电！

并且也可以包括在部件和第二部件之间可以形成额外的部件，从而使得部件和第二部件可以不直接接触的实施例。此外，本发明可在各个实施例中重复参考标号和/或字符。该重复是为了简单和清楚的目的，并且其本身不指示所讨论的各个实施例和/或配置之间的关系。而且，为便于描述，在此可以使用诸如“且，为便于描述，在此可以使用诸如个实施例和和布置的具体实例等空间相对术语，以描述如图所示的一个元件或部件与另一个(或另一些)原件或部件的关系。除了图中所示的方位外，空间相对术语旨在包括器件在使用或操作中的不同方位。装置可以以其它方式定向(旋转90度或在其它方位上)，而本文使用的空间相对描述符可以同样地做出相应的解释。磁阻式随机存取存储器(mram)单元包括垂直布置在导电电极之间的磁隧道结(mtj)。mtj包括通过隧穿阻挡层与自由层分隔开的固定层。固定层的磁取向是静态的(即，固定的)，而自由层的磁取向能够在相对于固定层的磁取向的平行配置和反平行配置之间切换。平行配置提供低电阻状态，低电阻状态数字化地将数据存储为位值(例如，逻辑“1”)。反平行配置提供高电阻状态，高电阻状态数字化地将数据存储为第二位值(例如，逻辑“0”)。随着集成芯片的功能增多。

如参考图5详细描述的。在训练阶段之后，mlc42进入推理/分类阶段，如参考图5详细描述的，以控制src电路104以调整信号dout的回转率。接下来，mlc42进入预测阶段316，如参考图5详细描述的以执行预测。一旦进入预测阶段316并且在完成mlc42的训练之后，就不再需要人力。使用mlc42来调整回转率是相对方便的。图4是根据本公开的一些实施例的神经网络32的网络示意图，其中神经网络32通过图3的机器学习电路42执行任务。虽然作为示例详细描述了神经网络32，但是可以使用任何合适的机器学习方法和技术。神经网络32包括一输入34、一经加权值36和一结果值38。输入34经一权重加权后决定出经加权值36。基于经加权值36产生结果值38。虽然示出了一个输入，但这是说明性的，任何输入、权重和其之间的连接的合适组合都可以使用。图5是根据本公开的一些实施例的通过图3的机器学习电路42执行的一程序310的流程图。参考图3，程序310包括一训练阶段312、一推理/分类阶段314和一预测阶段316。在训练阶段312中，mlc42执行一训练，在该训练中，决定及/或调整图4的经加权值36。在训练图4的神经网络32之后，在推理/分类阶段314中，mlc42可以对验证数据执行推断及/或分类。在涉及调整回转率的本实施例中。上海海谷电子有限公司为您提供回收，欢迎您的来电哦！

在介电层220以及心轴图案231、232和233的上方设置间隔层260。间隔层260包括与介电层220和心轴图案231、232和233不同的一种或更多种材料，使得间隔层260针对蚀刻工艺具有不同的蚀刻选择性。可以通过cvd工艺、pvd工艺、原子层沉积(ald)工艺或其他合适的沉积技术形成间隔层260。参照图4e，针对间隔层260执行蚀刻工艺，因此定义侧壁间隔件261至266。侧壁间隔件261(类似地，262至266)在此可以称为第二心轴图案。如图4e中所示，心轴图案231在蚀刻之前存在。图4f中示出蚀刻掉心轴图案231后的结果(例如，侧壁间隔件261和262保留)。在一些实施例中，在261与262之间获得的节距(在一些实施例中也称为距离、间隔、分辨率、特征分辨率或特征分隔距离)比使用提供图4b的抗蚀剂图案pr1、pr2和pr3的光刻可获得的节距小或精确。参照图4f，执行具有合适的蚀刻选择性的蚀刻工艺以去除心轴图案231、232和233，并且保留侧壁间隔件261至266。261形成为侧壁，并且在一些实施例中，将在后面的工艺步骤中被蚀刻掉，因此它是间隔件。总而言之，261可以被称为侧壁间隔件。侧壁间隔件261至266在方向x上具有节距p3和p4以及宽度w3。与一个心轴图案对应的两个侧壁间隔件(例如。上海海谷电子有限公司是一家专业提供回收的公司，有想法的可以来电咨询！福建电容电阻回收服务

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根据示例实施例的集成电路以及制造和设计所述集成电路的方法可以通过单元线路结构提高集成电路的设计效率和性能。实施例可以应用于任何电子装置和系统。例如，实施例可以应用于诸如存储器卡、固态驱动器(ssd)、嵌入式多媒体卡(emmc)、移动电话、智能电话、个人数字助理(pda)、便携式多媒体播放器(pmp)、数码相机、便携式摄像机、个人计算机(pc)、服务器计算机、工作站、膝上型计算机、数字tv、机顶盒、便携式、导航系统、可穿戴装置、物联网(iot)装置、万物网(ioe)装置、电子书、虚拟现实(vr)装置、增强现实(ar)装置等的系统。前述内容是对示例实施例的说明，而不应被解释为对其进行限制。尽管已经描述了一些示例实施例，但是本领域技术人员将容易理解，在实质上不脱离本发明构思的情况下，可以在示例实施例中进行许多修改。浙江废弃电子料回收收购

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