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上海高精度氮化铝陶瓷盘

来源: 发布时间:2023-05-12

    氮化铝陶瓷是一种高技术新型陶瓷。氮化铝陶瓷基片具有极高的热导率,无毒、耐腐蚀、耐高温,热化学稳定性好等特点,是大规模集成电路,半导体模块电路和大功率器件的理想封装材料、散热材料、电路元件及互连线承载体。也是提高高分子材料热导率和力学性能的比较好添加料,氮化铝陶瓷还可用作熔炼有色金属和半导体材料砷化镓的坩埚、热电偶的保护管、高温绝缘件、微波介电材料、耐高温、耐腐蚀结构陶瓷及透明氮化铝微波陶瓷制品,用作高导热陶瓷生产原料及树脂填料等。氮化铝是电绝缘体,介电性能良好。砷化镓表面的氮化铝涂层,能保护它在退火时免受离子的注入。高质量氮化铝陶瓷零件厂家--鑫鼎精密陶瓷。上海高精度氮化铝陶瓷盘

       氮化铝陶瓷AIN晶体以〔AIN4〕四面体为结构单元共价键化合物,具有纤锌矿型结构,属六方晶系。化学组成 AI 65.81%,N 34.19%,比重3.261g/cm3,白色或灰白色,单晶无色透明,常压下的升华分解温度为2450℃。为一种高温耐热材料。热膨胀系数(4.0-6.0)X10-6/℃。多晶AIN热导率达260W/(m.k),比氧化铝高5-8倍,所以耐热冲击好,能耐2200℃的极热。此外,氮化铝具有不受铝液和其它熔融金属及砷化镓侵蚀的特性,特别是对熔融铝液具有极好的耐侵蚀性。四川硬度高隔热氮化铝陶瓷滚轮电子陶瓷--氮化铝陶瓷零件源头厂家--鑫鼎陶瓷。

      氮化铝陶瓷摩擦系数较小,在高温高速的条件下,摩擦系数提高幅度也较小,因此能保证机构的正常运行,这是它一个突出的优点,氮化铝陶瓷开始对磨时滑动摩擦系数达到1.0至1.5,经精密磨合后,摩擦系数就会大幅下降,保持在0.5以下,所以氮化铝陶瓷被认为是具有自润滑性的材料。这种自润滑性产生的主要原因,不同于石墨,氮化硼,滑石等在于材料组织的鳞片层状结构。它是在压力作用下,摩擦表面微量分解形成薄薄得气膜,从而使摩擦面之间的滑动阻力减少,摩擦面得光洁度增加。这样越摩擦,阻力越小,磨损量也特别小,而大多数材料在不断摩擦后,因表面磨损或温度升高软化,摩擦系数往往逐渐增大。

       氮化铝陶瓷可用于制造能够在高温或者存在一定辐射的场景下使用的高频大功率器件, 如高功率电子器件、高密度固态存储器等。作为第三代半导体材料之一的氮化铝,具 有宽带隙、高热导率、高电阻率、良好的紫外透过率、高击穿场强等优良性能。氮化铝的禁带宽度为 6.2 eV,极化作用较强,在机械、微电子、光学以及声表面波 器件(SAW)制造、高频宽带通信等领域都有应用,如氮化铝压电陶瓷及薄膜等。另外, 高纯度的 氮化铝陶瓷是透明的,具有优良的光学性能,再结合其电学性能,可制作红外 导流罩、传感器等功能器件。精密氮化铝陶瓷螺纹加工源头厂家--鑫鼎陶瓷。

      氮化铝(AlN)陶瓷是一种综合性能优良的新型陶瓷材料,具有优良的热传导性,可靠的申绝缘性,低的介电常数和介电损耗.无毒以及与硅相匹配的热膨胀系教等一系列优良特性.被认为是新-代高集程度半导体基片和电子器件封装的理想材料,受到了国内外研究者的高度重视.理论上,氮化铝的热导率为320W/(m)工业上实际制备的多晶氮化铝的热导率也可达100~250 W/(m).该数值是传统基片材料氧化铝热导离的5倍~10倍,接近于氧化铍的热导率,但由于氧化铍有剧毒,在工业生产中逐渐被停止使用.与其它几种陶瓷材料相比较,氮化铝陶瓷综合性能优良,非常适用于半导体基片和结构封装材料,在电子工业中的应用潜力非常巨大.另外,氮化铝陶瓷可用作熔炼有色金属和半导体材料砷化镓的坩埚、蒸发舟、热电偶的保护管、高温绝缘件,同时可作为耐高温耐腐蚀结构陶瓷、透明氮化铝陶瓷制品,因而成为一种具有很大应用前景的无机材料.找技术支持、服务至上的氮化铝零件厂家--推荐鑫鼎。济南高精度氮化铝陶瓷杆

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      氮化铝粉末纯度高,粒径小,活性大,是制造高导热氮化铝陶瓷基片的主要原料。用氮化铝陶瓷做成的基片,其热导率高,膨胀系数低,强度高,耐高温,耐化学腐蚀,电阻率高,介电损耗小,是理想的大规模集成电路散热基板和封装材料。

      氮化铝硬度高,超过传统氧化铝,是新型的耐磨陶瓷材料,但由于造价高,只能用于磨损严重的部位.利用AIN陶瓷耐热耐熔体侵蚀和热震性,可制作GaAs晶体坩埚、Al蒸发皿、磁流体发电装置及高温透平机耐蚀部件,利用其光学性能可作红外线窗口。氮化铝薄膜可制成高频压电元件、超大规模集成电路基片等。

   氮化铝耐热、耐熔融金属的侵蚀,对酸稳定,但在碱性溶液中易被侵蚀。AIN新生表面暴露在湿空气中会反应生成极薄的氧化膜。利用此特性,可用作铝、铜、银、铅等金属熔炼的坩埚和烧铸模具材料。AIN陶瓷的金属化性能较好,可替代有毒性的氧化铍瓷在电子工业中广泛应用。折叠编 上海高精度氮化铝陶瓷盘

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