关键工艺流程
涂布与前烘:
? 旋涂或喷涂负性胶,厚度可达1-100μm(远厚于正性胶),前烘温度60-90℃,去除溶剂并增强附着力。
曝光:
? 光源以**汞灯G线(436nm)**为主,适用于≥1μm线宽,曝光能量较高(约200-500mJ/cm2),需注意掩膜版与胶膜的贴合精度。
显影:
? 使用有机溶剂显影液(如二甲苯、醋酸丁酯),未曝光的未交联胶膜溶解,曝光的交联胶膜保留。
后处理:
? 后烘(Post-Bake):加热(100-150℃)进一步固化交联结构,提升耐干法蚀刻或湿法腐蚀的能力。
聚焦封装需求,吉田公司提供从光刻胶到配套材料的一站式服务。西安3微米光刻胶
光伏电池(半导体级延伸)
? HJT/TOPCon电池:在硅片表面图形化金属电极,使用高灵敏度光刻胶(曝光能量≤50mJ/cm2),线宽≤20μm,降低遮光损失。
? 钙钛矿电池:用于电极图案化和层间隔离,需耐有机溶剂(适应溶液涂布工艺)。
纳米压印技术(下一代光刻)
? 纳米压印光刻胶:通过模具压印实现10nm级分辨率,用于3D NAND存储孔阵列(直径≤20nm)、量子点显示阵列等。
微流控与生物医疗
? 微流控芯片:制造微米级流道(宽度10-100μm),材料需生物相容性(如PDMS基材适配)。
? 生物检测芯片:通过光刻胶图案化抗体/抗原固定位点,精度≤5μm。
武汉水性光刻胶品牌吉田公司以无卤无铅配方与低 VOC 工艺打造环保光刻胶。
广东吉田半导体材料有限公司,坐落于松山湖经济技术开发区,是半导体材料领域的一颗璀璨明珠。公司注册资本 2000 万元,专注于半导体材料的研发、生产与销售,是国家高新技术企业、广东省专精特新企业以及广东省创新型中小企业。
强大的产品阵容:吉田半导体产品丰富且实力强劲。芯片光刻胶、纳米压印光刻胶、LCD 光刻胶精细满足芯片制造、微纳加工等关键环节需求;半导体锡膏、焊片在电子焊接领域性能;靶材更是在材料溅射沉积工艺中发挥关键作用。这些产品远销全球,与众多世界 500 强企业及电子加工企业建立了长期稳固的合作关系。
雄厚的研发生产实力:作为一家拥有 23 年研发与生产经验的综合性企业,吉田半导体具备行业前列规模与先进的全自动化生产设备。23 年的深耕细作,使其在技术研发、工艺优化等方面积累了深厚底蕴,能够快速响应市场需求,不断推出创新性产品。
严格的质量管控:公司始终将品质视为生命线,严格按照 ISO9001:2008 质量体系标准监控生产制程。生产环境执行 8S 现场管理,从源头抓起,所有生产材料均选用美国、德国、日本等国家进口的高质量原料,确保客户使用到超高质量且稳定的产品。
关键应用领域
半导体制造:
? 在晶圆表面涂覆光刻胶,通过掩膜曝光、显影,刻蚀出晶体管、电路等纳米级结构(如EUV光刻胶用于7nm以下制程)。
印刷电路板(PCB):
? 保护电路图形或作为蚀刻抗蚀层,制作线路和焊盘。
显示面板(LCD/OLED):
? 用于制备彩色滤光片、电极图案等。
微机电系统(MEMS):
? 加工微结构(如传感器、执行器)。
工作原理(以正性胶为例)
1. 涂胶:在基材(如硅片)表面均匀旋涂光刻胶,烘干形成薄膜。
2. 曝光:通过掩膜版,用特定波长光线照射,曝光区域的光敏剂分解,使树脂变得易溶于显影液。
3. 显影:用显影液溶解曝光区域,留下未曝光的光刻胶图案,作为后续刻蚀或离子注入的掩蔽层。
4. 后续工艺:刻蚀基材(保留未被光刻胶保护的区域),或去除光刻胶(剥离工艺)。
水性感光胶推荐吉田 JT-1200,水油兼容配方,钢片加工精度 ±5μm!
聚焦先进封装需求,吉田半导体提供从光刻胶到配套材料的一站式服务,助力高性能芯片制造。
在 5G 芯片与 AI 处理器封装领域,吉田半导体研发的 SU-3 负性光刻胶支持 3μm 厚膜加工,抗深蚀刻速率 > 500nm/min,为高密度金属互连提供可靠支撑。其 BGA 助焊膏采用低温固化技术(180℃),焊接空洞率 < 5%;针筒锡膏适用于 01005 超微型元件,印刷精度达 ±5μm。通过标准化实验室与快速响应团队,公司为客户提供工艺优化建议,帮助降低生产成本,增强市场竞争力。吉田技术自主化与技术领域突破!甘肃负性光刻胶厂家
吉田半导体产品矩阵。西安3微米光刻胶
感光机制
? 重氮型(双液型):需混合光敏剂(如二叠氮二苯乙烯二磺酸钠),曝光后通过交联反应固化,适用于精细图案(如PCB电路线宽≤0.15mm)。
? SBQ型(单液型):预混光敏剂,无需调配,感光度高(曝光时间缩短30%),适合快速制版(如服装印花)。
? 环保型:采用无铬配方(如CN10243143A),通过多元固化体系(热固化+光固化)实现12-15mJ/cm2快速曝光,分辨率达2μm,符合欧盟REACH标准。
功能细分
? 耐溶剂型:如日本村上AD20,耐酒精、甲苯等溶剂,适用于电子油墨印刷。
? 耐水型:如瑞士科特1711,抗水性强,适合纺织品水性浆料。
? 厚版型:如德国K?ppen厚版胶,单次涂布可达50μm,用于立体印刷。
典型应用场景:
? PCB制造:使用360目尼龙网+重氮感光胶,配合LED曝光(405nm波长),实现0.15mm线宽,耐酸性蚀刻液。
? 纺织印花:圆网制版采用9806A型感光胶,涂布厚度20μm,耐碱性染料色浆,耐印率超10万次。
? 包装印刷:柔版制版选用杜邦赛丽® Lightning LFH版材,UV-LED曝光+无溶剂工艺,碳排放降低40%。
西安3微米光刻胶