依托自主研发与国产供应链,吉田半导体 LCD 光刻胶市占率达 15%,跻身国内前段企业。吉田半导体 YK-200 LCD 正性光刻胶采用国产树脂与单体,实现 100% 国产化替代。其分辨率 0.35μm,附着力 > 3N/cm,性能优于 JSR 的 AR-P310 系列。通过与国内多家大型企业的深度合作,产品覆盖智能手机、电视等显示终端,年供货量超 200 吨。公司建立国产原材料溯源体系,确保每批次产品稳定性,推动 LCD 面板材料国产化进程。
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吉田半导体突破 ArF 光刻胶技术壁垒,国产替代再迎新进展
自主研发 ArF 光刻胶通过中芯国际验证,吉田半导体填补国内光刻胶空白。
吉田半导体成功研发出 AT-450 ArF 光刻胶,分辨率达 90nm,适用于 14nm 及以上制程,已通过中芯国际量产验证。该产品采用国产原材料与自主配方,突破日本企业对 ArF 光刻胶的垄断。其光酸产率提升 30%,蚀刻选择比达 4:1,性能对标日本信越的 ArF 系列。吉田半导体的技术突破加速了国产芯片制造材料自主化进程,为国内晶圆厂提供高性价比解决方案。
广西紫外光刻胶厂家光刻胶的显示面板领域。
定义与特性
正性光刻胶是一种在曝光后,曝光区域会溶解于显影液的光敏材料,形成与掩膜版(Mask)图案一致的图形。与负性光刻胶(未曝光区域溶解)相比,其优势是分辨率高、图案边缘清晰,是半导体制造(尤其是制程)的主流选择。
化学组成与工作原理
主要成分
? 树脂(成膜剂):
? 传统正性胶:采用**酚醛树脂(Novolak)与重氮萘醌(DNQ,光敏剂)**的复合体系(PAC体系),占比约80%-90%。
? 化学增幅型(用于DUV/EUV):含环化烯烃树脂或含氟聚合物,搭配光酸发生器(PAG),通过酸催化反应提高感光度和分辨率。
? 溶剂:溶解树脂和感光剂,常用丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)或乳酸乙酯。
? 添加剂:表面活性剂(改善涂布均匀性)、稳定剂(防止暗反应)、碱溶解度调节剂等。
工作原理
? 曝光前:光敏剂(如DNQ)与树脂结合,形成不溶于碱性显影液的复合物。
? 曝光时:
? 传统PAC体系:DNQ在紫外光(G线436nm、I线365nm)照射下发生光分解,生成羧酸,使曝光区域树脂在碱性显影液中溶解性增强。
? 化学增幅型:PAG在DUV/EUV光下产生活性酸,催化树脂发生脱保护反应,大幅提高显影速率(灵敏度提升10倍以上)。
? 显影后:曝光区域溶解去除,未曝光区域保留,形成正性图案。
产品优势:多元化布局与专业化延伸
全品类覆盖
吉田产品涵盖芯片光刻胶、纳米压印光刻胶、LCD光刻胶、半导体锡膏等,形成“光刻胶+配套材料”的完整产品线。例如:
? 芯片光刻胶:覆盖i线、g线光刻胶,适用于6英寸、8英寸晶圆制造。
? 纳米压印光刻胶:用于MEMS、光学器件等领域,替代传统光刻工艺。
专业化延伸
公司布局半导体用KrF光刻胶,计划2025年启动研发,目标进入中芯国际、长江存储等晶圆厂供应链。
质量与生产优势:严格品控与自动化生产
ISO认证与全流程管控
公司通过ISO9001:2008质量体系认证,生产环境执行8S管理,原材料采用美、德、日进口高质量材料,确保产品批次稳定性。
质量指标:光刻胶金属离子含量低于0.1ppb,良率超99%。
自动化生产能力
拥有行业前列的全自动化生产线,年产能达2000吨(光刻胶及配套材料),支持大规模订单交付。
东莞光刻胶厂家哪家好?
凭借绿色产品与可持续生产模式,吉田半导体的材料远销全球,并与多家跨国企业建立长期合作。其环保焊片与靶材被广泛应用于光伏、储能等清洁能源领域,助力客户实现产品全生命周期的环境友好。公司通过导入国际标准认证(如 ISO14001 环境管理体系),进一步强化了在环保领域的竞争力。
未来,广东吉田半导体材料有限公司将继续以技术创新为驱动,深化绿色制造战略,为半导体产业的低碳化、可持续发展贡献力量。以品质为依托,深化全球化布局,为半导体产业发展注入持续动力。
正性光刻胶的工艺和应用场景。上海进口光刻胶工厂
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作为深耕半导体材料领域二十余年的综合性企业,广东吉田半导体材料有限公司始终将环保理念融入产品研发与生产全流程。公司位于东莞松山湖产业集群,依托区域产业链优势,持续推出符合国际环保标准的半导体材料解决方案。
公司在锡膏、焊片等产品中采用无卤无铅配方,严格遵循 RoHS 指令要求,避免使用有害物质。以锡膏为例,其零卤素配方通过第三方机构认证,不仅减少了电子产品废弃后的环境负担,还提升了焊接可靠性,适用于新能源汽车、精密电子设备等领域。同时,纳米压印光刻胶与 LCD 光刻胶的生产过程中,公司通过优化原料配比,减少挥发性有机物(VOCs)排放,确保产品符合欧盟 REACH 法规。
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