场效应管工作原理用一句话说，就是“漏极-源极间流经沟道的ID， 用栅极与沟道间的pn结形成的反偏的栅极电压进行控制”。更正确地说，ID流经通路的宽度，即沟道截面积，它是由pn结反偏的变化，产生耗尽层扩展变化控制的缘故。在VGS=0的非饱和区域，表示的过渡层的扩展因为不很大，根据漏极-源极间所加VDS的电场，源极区域的某些电子被漏极拉去，即从漏极向源极有电流ID流动。从门极向漏极扩展的过度层将沟道的一部分构成堵塞型，ID饱和。将这种状态称为夹断。这意味着过渡层将沟道的一部分阻挡，并不是电流被切断。场效应管需遵循正确的电路连接方式，通常包括源极、栅极和漏极三个引脚，根据不同类型选择合适的偏置电压。徐州半导体场效应管尺寸

场效应管与双极型晶体管比，它的体积小，重量轻，寿命长等优点，而且输入回路的内阻特别高，噪声低、热稳定性好（因为几乎只利用多子导电）、防辐射能力强以及省电等优点，几乎场效应管占据的绝大部分市场。有利就有弊，而场效应管的放大倍数要小于双极型晶体管的放大倍数（原因后续详解）。根据制作主要工艺主要分为结型场效应管(Junction Field Effect Transistor，JFET)和绝缘栅型场效应管(MOS管)，下面来具体来看这两种管子。场效应管(FET)基础知识：名称，场效应晶体管（Field Effect Transistor 缩写(FET)），简称场效应管。结型场效应管（junction FET-JFET)，金属 - 氧化物半导体场效应管 （metal-oxide semiconductor FET，简称MOS-FET），由多数载流子参与导电，也称为单极型晶体管，属于电压控制型半导体器件。与之对应的是由两种载流子参与导电的双极型晶体管，三极管(BJT)，属于电流控制型半导体器件。徐州半导体场效应管尺寸在选择场效应管时，要考虑其成本效益，根据实际需求选择合适的性价比产品。

众所周知，传统的MOS场效应管的栅极、源极和漏极较大程度上致处于同一水平面的芯片上，其工作电流基本上是沿水平方向流动。VMOS管则不同，其两大结构特点:头一，金属栅极采用V型槽结构；第二，具有垂直导电性。由于漏极是从芯片的背面引出，所以ID不是沿芯片水平流动，而是自重掺杂N+区（源极S）出发，经过P沟道流入轻掺杂N-漂移区，然后垂直向下到达漏极D。因为流通截面积增大，所以能通过大电流。由于在栅极与芯片之间有二氧化硅绝缘层，因此它仍属于绝缘栅型MOS场效应管。

判断源极S、漏极D，将万用表拨至R×1k档分别丈量三个管脚之间的电阻。用交换表笔法测两次电阻，其中电阻值较低（一般为几千欧至十几千欧）的一次为正向电阻，此时黑表笔的是S极，红表笔接D极。因为测试前提不同，测出的RDS（on）值比手册中给出的典型值要高一些。丈量漏-源通态电阻RDS（on），在源-漏之间有一个PN结，因此根据PN结正、反向电阻存在差异，可识别S极与D极。例如用500型万用表R×1档实测一只IRFPC50型VMOS管，RDS（on）=3.2W，大于0.58W（典型值）。场效应管作为音频放大器，具有低失真、高保真的特点，提升音质效果。

在二极管加上正向电压（P端接正极，N端接负极）时，二极管导通，其PN结有电流通过。这是因为在P型半导体端为正电压时，N型半导体内的负电子被吸引而涌向加有正电压的P型半导体端，而P型半导体端内的正电子则朝N型半导体端运动，从而形成导通电流。同理，当二极管加上反向电压（P端接负极，N端接正极）时，这时在P型半导体端为负电压，正电子被聚集在P型半导体端，负电子则聚集在N型半导体端，电子不移动，其PN结没有电流通过，二极管截止。在栅极没有电压时，由前面分析可知，在源极与漏极之间不会有电流流过，此时场效应管处与截止状态（图7a）。当有一个正电压加在N沟道的MOS场效应管栅极上时，由于电场的作用，此时N型半导体的源极和漏极的负电子被吸引出来而涌向栅极，但由于氧化膜的阻挡，使得电子聚集在两个N沟道之间的P型半导体中，从而形成电流，使源极和漏极之间导通。可以想像为两个N型半导体之间为一条沟，栅极电压的建立相当于为它们之间搭了一座桥梁，该桥的大小由栅压的大小决定。使用场效应管时需要注意静电放电问题，避免对器件造成损坏。肇庆单极型场效应管测量方法

场效应管的表示特性是输入电阻高、输入电容小、开关速度快和功耗低。徐州半导体场效应管尺寸

MOS管参数：功率MOSFET的一定较大额定值：注①：漏源较大电压VDSS，可视为反向施加在体二极管两端的电压值，故只有一个方向。注②：栅源较大电压VGSS，即施加在栅极电极与源极电极之间的电压，由于栅极与P型半导体衬底中加了SiO2绝缘层，只要电压一定值超过绝缘层耐压均会击穿，故有两个方向“±”。注③：漏级较大电流ID与体二极管流过的反向漏级较大电流IDR（或称为IS）一般规格书中数值一致，均为流过N型半导体与P型半导体衬底形成的PN结的较大电流。注④：ID（pulse）需要看施加电流的脉冲宽度，脉宽不一致的不能沿用规格书数据。注⑤：雪崩电流IAP同样需要关注脉冲宽度。徐州半导体场效应管尺寸