内凸台的中心形成有沿厚度方向贯穿内凸台的凸台孔，调平件8的中心形成有沿厚度方向贯穿调平件8的调平孔，驱动轴3上形成有调平螺纹孔，中心螺钉依次穿过调平孔、凸台孔和调平螺纹孔，以将调平件8和驱动轴3固定在内凸台上，调平件8能够调整中心螺钉与传动筒4之间的角度。本实用新型对调平件8与驱动轴3如何夹持内凸台结构41不做具体限定，例如，如图3所示，调平件8中形成有多个沿轴向延伸的调平通道，调平通道中设置有调平球，调平件8还包括多个调平螺钉，调平螺钉与调平球一一对应，调平螺钉能够推动调平球沿调平通道移动；调平件8中还形成有多个径向延伸的楔形通道，楔形通道与调平通道一一对应，且楔形通道沿径向贯穿调平件8的调平通道外侧的外壁，楔形通道中设置有楔形块，楔形块能够在调平球移动至楔形通道位置时被调平球顶入楔形通道，与传动筒4的内壁接触。在发现工艺盘转轴1或工艺盘01的角度出现偏差时，将工艺盘01偏高一侧对应的调平螺钉拧入对应的调平通道，该调平螺钉顶部推动对应的调平球靠近楔形通道，调平球将对应的楔形块推出楔形通道，从而增加调平件8与传动筒4在该侧内壁之间的距离，进而使工艺盘转轴1的轴线向该侧转动，实现将工艺盘01偏高的一侧调低。因此具有更佳的设计 能力和用自动化的更高可行性。江西HIPS半导体与电子工程塑料零件定制加工要求

    本实用新型涉及半导体设备领域，具体地，涉及一种半导体设备中的工艺盘组件，以及一种包括该工艺盘组件的半导体设备。背景技术：半导体设备通常由工艺腔和设置在工艺腔内的工艺盘组成，工艺盘用于承载待加工的工件，工件与工艺腔中通入的工艺气体发生化学反应或者由工艺气体形成沉积物沉积在工件表面，完成晶片的外延等半导体工艺。为了保证工艺盘上热量的均匀性，通常采用电机等设备驱动工艺盘旋转，目前的工艺盘驱动机构通常包括滑动轴、衬套和石英转轴。其中，石英转轴用于驱动工艺盘旋转，衬套套设在滑动轴上，石英转轴套设在衬套上，且滑动轴、衬套和石英转轴三者轴线重合，衬套通过贴合面之间的摩擦作用将滑动轴的扭矩传递至石英转轴上。然而，基于这种结构目前的半导体设备经常出现工件放偏、工艺效果不佳、工艺盘旋转卡顿等问题。技术实现要素：本实用新型旨在提供一种用于半导体设备的工艺盘组件，该工艺盘组件能够解决上述技术问题中的至少一者。为实现上述目的，作为本实用新型的***个方面，提供一种半导体设备中的工艺盘组件，包括工艺盘和工艺盘转轴，所述工艺盘转轴用于驱动所述工艺盘旋转，所述工艺盘组件还包括驱动轴和驱动衬套。天津电木半导体与电子工程塑料零件定制加工厚度生产集成电路芯片需要高度专业化的设备，可在多重苛刻环境下工作。

    表1实施例和对比例的碳化硅陶瓷的力学性能数据从上表1中可以看出，实施例得到的碳化硅陶瓷的抗弯强度均在400mpa左右，实施例2得到的碳化硅陶瓷的抗弯强度甚至高达451mpa，远高于对比例得到的碳化硅陶瓷的抗弯强度。实施例得到的碳化硅陶瓷的显微硬度至少为2441hv，致密度均在3g/cm3以上，而对比例得到的碳化硅陶瓷的抗显微硬度和致密度均较低。由此可以看出，采用实施例中的碳化硅陶瓷的制备方法得到的碳化硅陶瓷的力学性能较好。以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。以上所述实施例*表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

    半导体材料是什么？半导体材料（semiconductormaterial）是一类具有半导体性能（导电能力介于导体与绝缘体之间，电阻率约在1mΩ·cm～1GΩ·cm范围内）、可用来制作半导体器件和集成电路的电子材料。自然界的物质、材料按导电能力大小可分为导体、半导体和绝缘体三大类。半导体的电阻率在1mΩ·cm～1GΩ·cm范围（上限按谢嘉奎《电子线路》取值，还有取其1/10或10倍的；因角标不可用，暂用当前描述）。在一般情况下，半导体电导率随温度的升高而升高，这与金属导体恰好相反。凡具有上述两种特征的材料都可归入半导体材料的范围。反映半导体半导体材料内在基本性质的却是各种外界因素如光、热、磁、电等作用于半导体而引起的物理效应和现象，这些可统称为半导体材料的半导体性质。构成固态电子器件的基体材料绝大多数是半导体，正是这些半导体材料的各种半导体性质赋予各种不同类型半导体器件以不同的功能和特性。半导体的基本化学特征在于原子间存在饱和的共价键。作为共价键特征的典型是在晶格结构上表现为四面体结构，所以典型的半导体材料具有金刚石或闪锌矿（ZnS）的结构。由于地球的矿藏多半是化合物，所以**早得到利用的半导体材料都是化合物，例如方铅矿。磨削、铣削、钻孔、车削和制造都可以很好地运用在半导体零件加工上。

    半导体材料的应用半导体材料的早期应用：半导体的***个应用就是利用它的整流效应作为检波器，就是点接触二极管（也俗称猫胡子检波器，即将一个金属探针接触在一块半导体上以检测电磁波）。除了检波器之外，在早期，半导体还用来做整流器、光伏电池、红外探测器等，半导体的四个效应都用到了。从1907年到1927年，美国的物理学家研制成功晶体整流器、硒整流器和氧化亚铜整流器。1931年，兰治和伯格曼研制成功硒光伏电池。1932年，德国先后研制成功硫化铅、硒化铅和碲化铅等半导体红外探测器，在二战中用于侦测飞机和舰船。二战时盟军在半导体方面的研究也取得了很大成效，英国就利用红外探测器多次侦测到了德国的飞机。***，半导体已***地用于家电、通讯、工业制造、航空、航天等领域。1994年，电子工业的世界市场份额为6910亿美元，1998年增加到9358亿美元。而其中由于美国经济的衰退，导致了半导体市场的下滑，即由1995年的1500多亿美元，下降到1998年的1300多亿美元。经过几年的徘徊，目前半导体市场已有所回升。制备不同的半导体器件对半导体材料有不同的形态要求，包括单晶的切片、磨片、抛光片、薄膜等。半导体材料的不同形态要求对应不同的加工工艺。由于该材料的线性热膨胀系数（CLTE）较低、公差配置可更紧。湖北环保半导体与电子工程塑料零件定制加工特质

机加工能力，支持仿真系统NPI应用发展。江西HIPS半导体与电子工程塑料零件定制加工要求

    水平定向结晶法主要用于制备砷化镓单晶，而垂直定向结晶法用于制备碲化镉、砷化镓。用各种方法生产的体单晶再经过晶体定向、滚磨、作参考面、切片、磨片、倒角、抛光、腐蚀、清洗、检测、封装等全部或部分工序以提供相应的晶片。在单晶衬底上生长单晶薄膜称为外延。外延的方法有气相、液相、固相、分子束外延等。工业生产使用的主要是化学气相外延，其次是液相外延。金属有机化合物气相外延和分子束外延则用于制备量子阱及超晶格等微结构。非晶、微晶、多晶薄膜多在玻璃、陶瓷、金属等衬底上用不同类型的化学气相沉积、磁控溅射等方法制成。1、元素半导体材料硅在当前的应用相当***，他不仅是半导体集成电路，半导体器件和硅太阳能电池的基础材料，而且用半导体制作的电子器件和产品已经大范围的进入到人们的生活，人们的家用电器中所用到的电子器件80%以上与案件都离不开硅材料。锗是稀有元素，地壳中的含量较少，由于锗的特有性质，使得它的应用主要集中与制作各种二极管，三极管等。而以锗制作的其他钱江如探测器，也具有着许多的优点，***的应用于多个领域。2、有机半导体材料有机半导体材料具有热***电导率，如萘蒽，聚丙烯和聚二乙烯苯以及碱金属和蒽的络合物。江西HIPS半导体与电子工程塑料零件定制加工要求