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天津FRP半导体与电子工程塑料零件定制加工定制

来源: 发布时间:2023-07-19

    为提高上述包括工艺盘转轴1、驱动衬套2和驱动轴3在内的传动结构的密闭性,推荐地,工艺盘组件还包括传动筒4,驱动轴3和驱动衬套2设置在传动筒4内,且驱动轴3背离工艺盘转轴1的一端与传动筒4固定连接,传动筒4用于带动驱动轴3转动。需要说明的是,上述传动筒4的方案即为前面所述的“驱动轴体部320与其它在轴承中固定的转轴结构固定连接”的方案,如图3、图13所示,传动筒4的外壁上可以包括外凸台结构42,外凸台结构42环绕设置在传动筒4的外壁上,在实际使用中,外凸台结构42的上下两面(这里的上下是指图中的上下关系)分别用于与滚针轴承连接,以实现轴向定位;外凸台结构42的外侧面用于与深沟球轴承的内圈连接,从而实现对传动筒4轴线角度的固定,减小传动筒4的轴线在其转动过程中的径向跳动。在本实用新型的实施例中,采用传动筒4代替驱动轴3与轴承接触,并将驱动轴3和驱动衬套2设置在传动筒4内部,从而在保证驱动轴3的正常传动功能的同时,提高了传动结构的密闭性,避免了润滑液等物质进入包括驱动轴3和驱动衬套2在内的传动结构对其造成腐蚀,保证了传动结构的精度。本实用新型对如何定位传动筒4及与其接触的轴承不做具体限定,例如,可选地,如图2至3所示。为行业的关键部件提高N倍寿命、免维护。天津FRP半导体与电子工程塑料零件定制加工定制

    对比例1对比例1的碳化硅陶瓷的制备过程与实施例2的碳化硅陶瓷的制备过程相似,区别在于:对比例1中不含有步骤(5)和步骤(6)。对比例2对比例2的碳化硅陶瓷的制备过程与实施例2的碳化硅陶瓷的制备过程相似,区别在于:步骤(5)为:将排胶后的***预制坯升温至300℃,加入第二碳源酚醛树脂,加热2h,然后抽真空1h,降温得到第二预制坯。对比例3对比例3的碳化硅陶瓷的制备过程与实施例2的碳化硅陶瓷的制备过程相似,区别在于:步骤(5)中,压力为8mpa。对比例4对比例4的碳化硅陶瓷的制备过程与实施例2的碳化硅陶瓷的制备过程相似,区别在于:步骤(1)为:将氧化钇溶解在水和酒精的混合溶液中,氧化钇与碳化硅微粉的质量比为3∶100,溶解完全后加入分散剂四甲基氢氧化铵,然后加入碳化硅微粉,搅拌均匀,得到预处理颗粒。对比例5对比例5的碳化硅陶瓷的制备过程与实施例2的碳化硅陶瓷的制备过程相似,区别在于:不含有步骤(1)。对比例6对比例6的碳化硅陶瓷的制备过程与实施例2的碳化硅陶瓷的制备过程相似,区别在于:步骤(1)中,氧化钇与碳化硅微粉的质量比为6∶100。对比例7对比例7的碳化硅陶瓷的制备过程与实施例2的碳化硅陶瓷的制备过程相似,区别在于:步骤。浙江FRP半导体与电子工程塑料零件定制加工推荐厂家提高生产率及产品寿命。

    并实现对工艺盘的角度进行调整,进一步推荐地,当采用上述配合面轴向错开的设计时,驱动通孔211与驱动连接部310之间为过盈配合,第二衬套部220的圆柱面与安装孔之间为过盈配合。在本实用新型的实施例中,设置工艺盘转轴1、驱动衬套2与驱动轴3之间均为过盈配合,从而使得工艺盘转轴1和驱动衬套2能够在安装后保持与驱动轴3之间的同轴度。并且,*通过调整驱动轴3的朝向即可微调工艺盘转轴1的角度,并**终实现对工艺盘的角度进行调整。为避免驱动通孔211与驱动连接部310之间的配合面尺寸的偏差导致零件损坏,推荐地,如图6所示,驱动通孔211的内壁上形成有避让槽211a,避让槽211a与驱动通孔211内壁上圆柱面与平面的相贯线位置匹配。在本实用新型的实施例中,驱动通孔211内壁上形成有避让槽211a,驱动通孔211与驱动连接部310连接时,驱动连接部310侧面的棱插入避让槽211a中,从而能够将驱动通孔211与驱动连接部310之间的平面配合面与圆柱面配合面分离。在驱动通孔211与驱动连接部310为过盈配合时,平面配合面与圆柱面配合面可以分别向外发生微小形变,而驱动连接部310侧面上的棱始终位于避让槽211a中,从而不会因两种配合面形变程度的不同而与驱动通孔211的内壁之间发生刮擦。

    所述工艺盘组件为前面所述的工艺盘组件,所述工艺盘组件的工艺盘设置在所述工艺腔中。在本实用新型提供的工艺盘组件以及半导体设备中,工艺盘转轴通过驱动衬套、驱动连接部与驱动轴体部连接,驱动连接部的横截面为非圆形,而驱动衬套的套孔与驱动连接部相匹配,工艺盘转轴的安装孔与驱动衬套相匹配。从而通过非圆柱体的驱动连接部与驱动衬套上的异形孔之间的配合将扭矩传递至驱动衬套,进而基于安装孔与驱动衬套的配合关系传递至工艺盘转轴,从而能够避免驱动轴与驱动衬套之间发生相对滑动,提高了工艺盘转轴旋转角度的控制精度,进而提高了工件的放置精度。附图说明附图是用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本实用新型,但并不构成对本实用新型的限制。在附图中:图1是本实用新型提供的工艺盘组件的结构示意图;图2是图1所示的工艺盘组件的a-a向剖视图;图3是图2中虚线圈出部分的放大示意图;图4是图3的局部放大示意图;图5是本实用新型提供的工艺盘组件中驱动轴的结构示意图;图6是本实用新型提供的工艺盘组件中驱动衬套的结构示意图;图7是本实用新型提供的工艺盘组件中驱动衬套与驱动轴连接后的结构示意图。我们的零件被设计用于整个晶圆加工制程。

    传统的制备方法中将金属元素的氧化物直接与碳化硅微粉及分散剂、粘结剂等混合,能够使金属元素的分布更均匀,不会出现聚集区域,对力学性能的提升效果也更好。一实施方式的碳化硅陶瓷,由上述实施方式的碳化硅陶瓷的制备方法制备得到。一实施方式的半导体零件,由上述实施方式的碳化硅陶瓷加工处理得到。上述半导体零件由反应烧结碳化硅材料制成。具体地,上述半导体零件的形状为非标。具体地,半导体零件的形状可以为板状、柱状、环状或其他不规则形状。在其中一个实施例中,半导体零件为吸盘底座、晶圆承载盘、半导体用机械手臂或异形件密封圈。可以理解,在其他实施例中,半导体零件不限于上述零件,还可以为其他零件。以下为具体实施例部分:实施例1本实施例的碳化硅陶瓷的制备过程具体如下:(1)以氧化镧与碳化硅微粉的质量比为∶100,得到氯化镧与碳化硅微粉的质量比为∶100,然后将氯化镧溶解在水和酒精的混合溶液中,溶解完全后加入***分散剂丙烯酸铵,然后加入粒径为μm的碳化硅微粉,搅拌均匀,得到***浆料。在冰浴条件下加入与***浆料的质量比为,搅拌均匀得第二浆料。将第二浆料在闭式喷雾塔中喷雾,得到表面覆盖有氧化镧的碳化硅颗粒。CMP环材料的制造商,包括Techtron? PPS(CMP应用)。天津FRP半导体与电子工程塑料零件定制加工定制

磨削、铣削、钻孔、车削和制造都可以很好地运用在半导体零件加工上。天津FRP半导体与电子工程塑料零件定制加工定制

    以避免轴承座10与工艺腔碰撞导致传送组件精度下降。为进一步提高传动筒4的稳定性,避免外界物质进入轴承座10,推荐地,如图3、图4所示,工艺盘组件还包括密封衬套5,密封衬套5环绕设置在传动筒4的外壁上。需要说明的是,密封衬套5与轴承座之间为固定连接关系,如图4所示,推荐地,密封衬套5的内壁上还设置有用于容纳密封圈的密封圈槽,在传动筒4转动时,与轴承座固定连接的密封衬套5持续地与传动筒4摩擦。为提高密封衬套5的耐磨性能,推荐地,密封衬套5为不锈钢材料。在实验研究中,发明人还发现,现有的半导体设备工艺效果不佳的原因在于,个别轴套类部件上的密封件在传动机构的运动过程中会逐渐沿轴向移动,偏离预定位置,造成半导体设备的气密性下降。为解决上述技术问题,推荐地,如图3、图4、图13所示,工艺盘组件还包括挡环7,传动筒4的外壁上形成有挡环槽43,挡环7环绕传动筒4设置在挡环槽43中,挡环7的外径大于密封衬套5朝向工艺盘01一端的内径,以使得密封衬套5无法沿轴向运动通过挡环槽43所在的位置。在本实用新型的实施例中,传动筒4的外壁上形成有挡环槽43,并在挡环槽43中设置挡环7,从而可以阻止密封衬套5轴向偏离,进而避免了避免外界物质进入轴承座10。天津FRP半导体与电子工程塑料零件定制加工定制

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