PbS）很早就用于无线电检波，氧化亚铜（Cu2O）用作固体整流器，闪锌矿（ZnS）是熟知的固体发光材料，碳化硅（SiC）的整流检波作用也较早被利用。硒（Se）是**早发现并被利用的元素半导体，曾是固体整流器和光电池的重要材料。元素半导体锗（Ge）放大作用的发现开辟了半导体历史新的一页，从此电子设备开始实现晶体管化。中国的半导体研究和生产是从1957年***制备出高纯度（～）的锗开始的。采用元素半导体硅（Si）以后，不仅使晶体管的类型和品种增加、性能提高，而且迎来了大规模和超大规模集成电路的时代。以砷化镓（GaAs）为**的Ⅲ－Ⅴ族化合物的发现促进了微波器件和光电器件的迅速发展。半导体材料有哪些半导体材料很多，按化学成分可分为元素半导体和化合物半导体两大类。锗和硅是**常用的元素半导体;化合物半导体包括第Ⅲ和第Ⅴ族化合物（砷化镓、磷化镓等）、第Ⅱ和第Ⅵ族化合物（硫化镉、硫化锌等）、氧化物（锰、铬、铁、铜的氧化物），以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物组成的固溶体（镓铝砷、镓砷磷等）。除上述晶态半导体外，还有非晶态的玻璃半导体、有机半导体等。半导体的分类，按照其制造技术可以分为：集成电路器件。工程塑料，绝缘材料板、棒，片材。江苏HIPS半导体与电子工程塑料零件定制加工加工件

    上述碳化硅陶瓷的制备方法能够获得具有较好的力学性能的碳化硅陶瓷。附图说明图1为一实施方式的碳化硅陶瓷的制备方法的工艺流程图。具体实施方式为了便于理解本发明，下面将结合具体实施方式对本发明进行更***的描述。具体实施方式中给出了本发明的较佳的实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻***。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体地实施例的目的，不是旨在于限制本发明。请参阅图1，一实施方式的碳化硅陶瓷的制备方法，包括如下步骤：步骤s110：将碳化硅微粉、金属元素的氯化物、环氧丙烷、***分散剂及***溶剂混合，并在真空条件、700℃～900℃下进行加热处理，得到预处理颗粒，其中，金属元素为稀土元素或锶元素。具体地，碳化硅微粉的粒径为μm～μm。选择上述粒径的碳化硅微粉有利于控制得到的碳化硅陶瓷的晶粒尺寸，从而提高碳化硅陶瓷的力学性能。稀土元素包括钇(y)、钕(nd)、铈(ce)、镧(la)及钐(sm)中的至少一种。江苏半导体与电子工程塑料零件定制加工与高度研磨液接触，暴露于多种高腐蚀性化学品。

    表1实施例和对比例的碳化硅陶瓷的力学性能数据从上表1中可以看出，实施例得到的碳化硅陶瓷的抗弯强度均在400mpa左右，实施例2得到的碳化硅陶瓷的抗弯强度甚至高达451mpa，远高于对比例得到的碳化硅陶瓷的抗弯强度。实施例得到的碳化硅陶瓷的显微硬度至少为2441hv，致密度均在3g/cm3以上，而对比例得到的碳化硅陶瓷的抗显微硬度和致密度均较低。由此可以看出，采用实施例中的碳化硅陶瓷的制备方法得到的碳化硅陶瓷的力学性能较好。以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。以上所述实施例*表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

有些塑料本身已经有很好的耐磨性，加入各种耐磨添加剂之后，可以更加改善其耐磨性。这些添加剂像聚四氟乙烯，二硫化钼，石墨，硅利康油，玻纤，碳纤和芳香族聚酰胺纤维的添加剂制成的塑料复合材料具有自润性(selflubricating)，并可降低配合零件的压力，从而提高材料的耐磨性。下面就来看看可以提高材料耐磨性的材料。1、聚四氟乙烯（PTFE，铁氟龙）PTFE是所有耐加剂中有比较低的磨擦系数。在磨擦过程中磨出来的PTFE分子会在零件表面形成润滑的薄膜。PTFE在磨擦剪力下有很好的润滑性及耐磨性能，在高负荷应中，PTFE是比较好的耐磨添加剂。这些高负荷用包括液压式活塞环封、推力垫圈。**适当的PTFE含量为非结晶性含15%PTFE、而结晶性塑料含20%PTFE。PE板及零件加工(聚乙烯板)。

    步骤s160：将第二预制坯以℃/min～℃/min的速率升温至900℃，保温2h～4h，进行排胶。对第二预制坯进行排胶能够将第二预制坯中的第二碳源转化为碳，从而在后续步骤中与液态硅反应得到碳化硅。步骤s170：将第二预制坯和硅粉进行反应烧结，得到碳化硅陶瓷。其中，反应烧结的温度为1400℃～1800℃，反应烧结的时间为1h～5h。第二预制坯和硅粉的质量比为1∶(～4)。进一步地，反应烧结的温度为1700℃～1800℃。具体地，步骤s170在真空高温烧结炉中进行。将第二预制坯和硅粉进行反应烧结，第二预制坯中的碳与渗入的硅反应，生成锌的碳化硅，并与原有的颗粒碳化硅相结合，游离硅填充了气孔，从而得到高致密性的碳化硅陶瓷。上述碳化硅陶瓷的制备方法至少具有以下优点：(1)上述碳化硅陶瓷的制备方法采用高温压力浸渗二次补充碳源的方式，提高了预制坯密度，降低孔隙率，也降低了游离硅的尺寸和数量，从而提高了反应烧结碳化硅材料的力学性能。(2)上述碳化硅陶瓷的制备方法通过预处理碳化硅微粉，让金属元素均匀沉降在碳化硅颗粒表面，**终会存在于晶界处，具有促进烧结，降低气孔率，提高抗弯强度和高温性能的作用。高耐磨，抗冲击，耐腐蚀塑胶零部件加工。山东PF 半导体与电子工程塑料零件定制加工规格尺寸

工程塑料,绝缘材料板机加工零件。江苏HIPS半导体与电子工程塑料零件定制加工加工件

    2.汽车光电子市场。目前汽车防撞雷达已在很多***车上得到了实用，将来肯定会越来越普及。汽车防撞雷达一般工作在毫米波段，所以肯定离不开砷化镓甚至磷化铟，它的中频部分才会用到锗硅。由于全球汽车工业十分庞大，因此这是一个必定会并发的巨大市场。3.半导体照明技术的迅猛发展。基于半导体发光二极管（LED）的半导体光源具有体积小、发热量低、耗电量小、寿命长、反应速度快、环保、耐冲击不易破、废弃物可回收，没有污染，可平面封装、易开发成轻薄短小产品等优点，具有重大的经济技术价值和市场前景。特别是基于LED的半导体照明产品具有高效节能、绿色环保优点，在全球能源资源有限和保护环境可持续发展的双重背景下，将在世界范围内引发一场划时代的照明**，成为继白炽灯、荧光灯之后的新一代电光源，进入到千家万户。目前LED已***用于大屏幕显示、交通信号灯、手机背光源等，开始应用于城市夜景美化亮化、景观灯、地灯、手电筒、指示牌等，随着单个LED亮度和发光效率的提高，即将进入普通室内照明、台灯、笔记本电脑背光源、LCD显示器背光源等，因而具有广阔的应用前景和巨大的商机。4.新一代光纤通信技术。新一代的40Gbps光通信设备不久将会推向市场。江苏HIPS半导体与电子工程塑料零件定制加工加工件

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