德国公司Nanoscribe是高精度增材制造技术的排名在前的开发商，也是BICO集团（前身为Cellin）的一部分，推出了一款新型高精度3D打印机，用于制造微纳米级的精细结构。据该公司称，新的QuantumX形状加入了该公司屡获殊荣的QuantumX产品线，其晶圆处理能力使“3D微型零件的批量处理和小批量生产变得容易”。它有望显着提高生命科学、材料工程、微流体、微光学、微机械和微机电系统(MEMS)应用的精度、输出和可用性?；谒庾泳酆?2PP)，一种提供比较高精度和完整设计自由度的增材制造方法和Nanoscribe专有的双光子灰度光刻(2GL)技术，Nanoscribe认为直接激光写入系统是微加工的比较好选择几乎任何2.5D或3D形状的结构，在面积达25cm2的区域上都具有亚微米级精度、增材制造轮能够针对不同的应用场景进行优化设计。湖北实验室增材制造Quantum X shape

Nanoscribe在2021年6月30日推出了头一个用于熔融石英玻璃微结构的3D微加工商用高精度增材制造工艺和材料——GlassPrintingExplorerSet。新型光树脂GP-Silica是GlassPrintingExplorerSet的中心，与Glassomer联合研究开发。据说这是目前只有一种用于熔融石英玻璃微细加工的光树脂，因为高光学透明度以及出色的热、机械和化学性能脱颖而出，为探索生命科学、微流体、微光学、材料工程和其他微技术领域的新应用开辟了机会。GlassPrintingExplorerSet能够高精度3D打印，并且具有耐高温性、机械和化学稳定性以及光学透明度。熔融石英玻璃的双光子聚合(2PP)技术展现了玻璃产品的出色性能，推动了对生命科学、微流体、微光学和其他领域的探索。瑞士弗里堡工程与建筑学院助理教授兼图形打印系主任NicolasMuller称，GP-Silica研究制造复杂微流体系统方面具有巨大潜力，尽管所需的热后处理要求很高。广东实验室增材制造设备增材制造技术已经应用于多个领域，譬如航天、新材料、先进制造。

如今，金属增材制造正在急剧地改变产品制造的方式。传统的制造是将完整的金属材料用数控机床来进行减材加工，后续得到实体零件，其过程去除了大量的材料；而金属增材制造是使用三维数字模型直接打印产品的一种生产方式，将金属粉末材料，按照烧结、熔融、喷射等方式逐层堆积，制造出实体物品。增材制造与传统制造有着巨大的不同，简化后的生产方式突破传统结构设计的限制，将生产复杂结构与优化产品性能成为可能。这提升了厂家的生产弹性、缩短生产周期，并将真正的创新思维带入产品之中。有了增材制造技术，过去只存在于想象中、被视为不可能生产的各种产品，终于能够被实现。

Nanoscribe的双光子聚合技术具有极高设计自由度和超高精度的特点，结合具备生物兼容特点的光敏树脂和生物材料，开发并制作真正意义上的高精度3D微纳结构，适用于生命科学领域的应用，如设计和定制微型生物医学设备的原型制作。布鲁塞尔自由大学的光子学研究小组（B-PHOT）的科学家们正在通过使用Nanoscribe双光子聚合技术（2PP）将光波导漏斗3D打印到光纤末端上来攻克将具有不同模场几何形状的两个元件之间的光束进行高效和稳健耦合这个难题。这些锥形光束漏斗可调整SMF的模式场，以匹配光子芯片上光波导模式场。Nanoscribe的2PP技术将可调整模场的锥形体作为阶跃折射率光波导光束。增材制造可实现复杂结构的快速制造。

QuantumX新型超高速无掩模光刻技术的中心是Nanoscribe独有的双光子灰度光刻技术（2GL®）。该技术将灰度光刻的出色性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合，使其同时具备高速打印，完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高级复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺很大程度缩短了企业的设计迭代，打印样品结构既可以用作技术验证原型，也可以用作工业生产上的加工模具。另外，Nanoscribe双光子灰度光刻微纳打印系统技术要点，这项技术的关键是在高速扫描下使激光功率调制和动态聚焦定位达到精细同步，这种智能方法能够轻松控制每个扫描平面的体素大小，并在不影响速度的情况下，使得样品精密部件能具有出色的形状精度和超光滑表面。该技术将灰度光刻的出色性能与双光子聚合的精确性和灵活性*结合，使其同时具备高速打印，完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高级复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。3D打印技术正在改变制造业。广东实验室增材制造设备

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻，刻蚀和对准工艺，衍射光学元件（DOE）的传统制造耗时长且成本高.湖北实验室增材制造Quantum X shape