针对植入式医疗设备的长期安全性问题,某生物电子实验室利用 Polos 光刻机在聚乳酸()基底上制备可降解电极。其无掩模技术避免了传统掩模污染,使电极的金属残留量低于 0.01μg/mm2,生物相容性测试显示细胞存活率达 99%。通过自定义螺旋状天线图案,开发出的可降解心率监测器,在体内降解周期可控制在 3-12 个月,信号传输稳定性较同类产品提升 50%,相关技术已进入临床前生物相容性评价阶段。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。POLOS μ 光刻机:微型化机身,纳米级曝光精度,微流体芯片制备周期缩短 40%。河北德国BEAM光刻机光源波长405微米
SPS POLOS μ以桌面化设计降低设备投入成本,无需掩膜制备费用。其光束引擎通过压电驱动快速扫描,单次写入区域达400 μm,支持光刻胶如AZ5214E的高效曝光。研究案例显示,该设备成功制备了间距3 μm的微图案阵列和叉指电容器,助力纳米材料与柔性电子器件的快速原型验证。无掩模光刻技术可以随意进行纳米级图案化,无需使用速度慢且昂贵的光罩。这种便利对于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上没有任何妥协的情况下,将该技术带到了桌面上,进一步提升了其优势。江苏德国PSP-POLOS光刻机可以自动聚焦波长Polos-μPrinter 入选《半导体技术》年度创新产品,推动无掩模光刻技术普及。
针对碳化硅(SiC)功率模块的栅极刻蚀难题,Polos 光刻机的激光直写技术实现了 20nm 的边缘粗糙度控制,较传统光刻胶工艺提升 5 倍。某新能源汽车芯片厂商利用该设备,将 SiC MOSFET 的导通电阻降低 15%,开关损耗减少 20%,推动车载逆变器效率突破 99%。其灵活的图案编辑功能支持快速验证新型栅极结构,使器件研发周期从 12 周压缩至 4 周,助力我国在第三代半导体领域实现弯道超车。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。
某集成电路实验室利用 Polos 光刻机开发了基于相变材料的存算一体芯片。其激光直写技术在二氧化硅基底上实现了 100nm 间距的电极阵列,器件的读写速度达 10ns,较传统 SRAM 提升 100 倍。通过在电极间集成 20nm 厚的 Ge2Sb2Te5 相变材料,芯片实现了计算与存储的原位融合,能效比达 1TOPS/W,较传统冯?诺依曼架构提升 1000 倍。该技术被用于边缘计算设备,使图像识别延迟从 50ms 缩短至 5ms,相关芯片已进入小批量试产阶段。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。多材料兼容性:同步加工陶瓷 / PDMS / 金属,微流控芯片集成电极与通道一步成型。
Polos-BESM XL Mk2专为6英寸晶圆设计,写入区域达155×155 mm,平台双向重复性精度0.1 μm,满足工业级需求。其搭载20x/0.75 NA尼康物镜和120 FPS高清摄像头,支持实时观测与多层对准。配套的BEAM Xplorer软件简化了复杂图案设计流程,内置高性能笔记本电脑实现快速数据处理,成为微机电系统(MEMS)和光子晶体研究的理想工具。无掩模光刻技术可以随意进行纳米级图案化,无需使用速度慢且昂贵的光罩。这种便利对于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上没有任何妥协的情况下,将该技术带到了桌面上,进一步提升了其优势。德国技术基因:融合精密光学与自动化控制,确保设备高稳定性与长寿命。江苏德国PSP-POLOS光刻机可以自动聚焦波长
POLOS μ 光刻机:桌面级设计,2-23μm 可调分辨率,兼容 4 英寸晶圆,微机电系统加工误差 < 5μm。河北德国BEAM光刻机光源波长405微米
可编程微流控芯片需要集成电路控制与流体通道,传统工艺需多次掩模对准,良率only 30%。Polos 光刻机的多材料同步曝光技术,支持在同一块基板上直接制备金属电极与 PDMS 通道,将良率提升至 85%。某微系统实验室利用该特性,开发出可实时切换流路的生化分析芯片,通过软件输入不同图案,10 分钟内即可完成从 DNA 扩增到蛋白质检测的模块切换。该成果应用于 POCT 设备,使现场快速检测系统的体积缩小 60%,检测时间缩短至传统方法的 1/3。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。河北德国BEAM光刻机光源波长405微米