某智能机器人实验室采用 Polos 光刻机制造了磁控微纳机器人。其激光直写技术在镍钛合金薄膜上刻制出 10μm 的螺旋桨结构,机器人在旋转磁场下的推进速度达 50μm/s,转向精度小于 5°。通过自定义三维运动轨迹,该机器人在微流控芯片中成功实现了单个红细胞的捕获与转运,操作成功率从传统方法的 40% 提升至 85%。其轻量化设计(质量 < 1μg)还支持在活细胞表面进行纳米级手术,相关成果入选《Science Robotics》年度创新技术。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。多材料兼容:金属 / 聚合物 / 陶瓷同步加工,微流控芯片集成传感器一步成型。四川PSP光刻机不需要缓慢且昂贵的光掩模
微流体芯片制造的core工具!Polos光刻机可加工80 μm直径的开环谐振器和2 μm叉指电极,适用于传感器与执行器开发。结合双光子聚合技术(如Nanoscribe的2PP工艺),用户可扩展至3D微纳结构打印,为微型机器人及光学超材料提供多维度解决方案37。其与Lab14集团的协同合作,进一步推动工业级光学封装技术创新3。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。黑龙江桌面无掩模光刻机基材厚度可达到0.1毫米至8毫米电子学应用:2μm 线宽光刻能力,第三代半导体器件研发效率提升 3 倍。
Polos光刻机与德国Lab14集团、弗劳恩霍夫研究所等机构合作,推动光子集成与半导体封装技术发展。例如,Quantum X align系统的高对准精度(100 nm)为光通信芯片提供可靠解决方案,彰显德国精密制造与全球产业链整合的优势。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。
针对植入式医疗设备的长期安全性问题,某生物电子实验室利用 Polos 光刻机在聚乳酸()基底上制备可降解电极。其无掩模技术避免了传统掩模污染,使电极的金属残留量低于 0.01μg/mm2,生物相容性测试显示细胞存活率达 99%。通过自定义螺旋状天线图案,开发出的可降解心率监测器,在体内降解周期可控制在 3-12 个月,信号传输稳定性较同类产品提升 50%,相关技术已进入临床前生物相容性评价阶段。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。德国技术基因:融合精密光学与自动化控制,确保设备高稳定性与长寿命。
德国 Polos 光刻机系列是电子学领域不可或缺的精密设备。其无掩模激光光刻技术,让电路图案曝光不再受限于掩模,能够实现超高精度的图案绘制。在芯片研发过程中,Polos 光刻机可precise刻画出纳米级别的电路结构,为芯片性能提升奠定基础。? 科研团队使用 Polos 光刻机,成功开发出更高效的集成电路,降低芯片能耗,提高运算速度。而且,该光刻机可轻松输入任意图案,满足不同电子元件的多样化设计需求。无论是新型传感器的电路制作,还是微型处理器的研发,Polos 光刻机都能以高精度、低成本的优势,为电子学领域的科研成果产出提供有力保障,推动电子技术不断创新??突峡桑喝?500 + 客户满意度达 98%,复购率 75%,技术支持响应时间 < 2 小时。北京德国PSP-POLOS光刻机分辨率1.5微米
未来技术储备:持续研发光束整形与多材料兼容工艺,lead微纳制造前沿。四川PSP光刻机不需要缓慢且昂贵的光掩模
植入式神经电极需要兼具生物相容性与导电性能,表面微图案可remarkable影响细胞 - 电极界面。Polos 光刻机在铂铱合金电极表面刻制出 10μm 间距的蜂窝状微孔,某神经工程团队发现该结构使神经元突触密度提升 20%,信号采集噪声降低 35%。其无掩模特性支持根据不同脑区结构定制电极阵列,在大鼠海马区电生理实验中,单神经元信号识别率从 60% 提升至 85%,为脑机接口技术的临床转化奠定了硬件基础。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。四川PSP光刻机不需要缓慢且昂贵的光掩模