江苏优普纳科技有限公司的碳化硅晶圆减薄砂轮，以其低损耗特性成为半导体加工领域的理想选择。其独特的多孔显微组织调控技术，使得砂轮在高磨削效率的同时，磨耗比极低。在东京精密-HRG200X减薄机的实际应用中，6吋SiC线割片的磨耗比只为15%，而8吋SiC线割片的磨耗比也只为35%。这意味着在长时间的加工过程中，砂轮的磨损极小，使用寿命更长，为客户节省了大量的成本。低损耗不只体现在砂轮本身的使用寿命上，还体现在加工后的晶圆表面质量上，损伤极小，进一步提升了产品的性价比，助力优普纳在国产化替代进程中占据优势。优普纳碳化硅晶圆减薄砂轮，以技术创新为主，不断突破性能瓶颈，为国产半导体材料加工提供有力支持。半导体磨削砂轮制程工艺

江苏优普纳碳化硅减薄砂轮凭借超细金刚石磨粒与高自锐性设计，在第三代半导体晶圆加工中实现低损伤、低粗糙度的行业突破。以DISCO-DFG8640设备为例，精磨8吋SiC线割片时，砂轮磨耗比达200%，表面粗糙度Ra≤3nm，TTV精度≤2μm，完全满足5G芯片、功率器件对晶圆平整度的严苛要求。对比进口砂轮，优普纳产品在相同加工条件下可减少磨削热损伤30%，明显提升晶圆良率，尤其适用于新能源汽车电驱模块等高附加值领域。欢迎您的随时致电咨询。Dmix+砂轮报价基体优化设计的优普纳砂轮，减少振动，增强冷却液流动，提升加工效率与质量，适配不同设备，展现强适配性。

针对第三代半导体材料（SiC/GaN）的减薄需求，优普纳砂轮适配6吋、8吋晶圆，满足衬底片粗磨、精磨全流程。以东京精密HRG200X设备为例，6吋SiC线割片采用2000#砂轮粗磨，磨耗比只15%，Ra≤30nm；精磨使用30000#砂轮，磨耗比120%，Ra≤3nm，TTV稳定在2μm以下。DISCO设备案例中，8吋晶圆精磨后TTV≤2μm，适配性强，可替代日本、德国进口产品。江苏优普纳科技有限公司专业生产砂轮，品质有保证，欢迎您的随时致电咨询，为您提供满意的产品以及方案。

江苏优普纳科技有限公司的碳化硅晶圆减薄砂轮，以其高精度加工能力成为第三代半导体材料加工的理想选择。其专研的强度高微晶增韧陶瓷结合剂和多孔显微组织调控技术，赋予了砂轮优越的稳定性，能够有效减少振动，确保加工后的晶圆表面粗糙度极低。在东京精密-HRG200X减薄机的实际应用中，6吋和8吋SiC线割片的加工结果显示，表面粗糙度Ra值和总厚度变化TTV均达到了行业先进水平。这种高精度的加工能力，不只满足了半导体制造的需求，也为优普纳在国产碳化硅减薄砂轮市场奠定了坚实的基础，助力其品牌形象进一步巩固。砂轮于东京精密-HRG200X减薄机上，使8吋SiC线割片磨耗比达300% Ra≤3nm TTV≤2μm 彰显高精度与高磨耗比优势。

在半导体加工领域，精度和效率是关键。江苏优普纳科技有限公司的碳化硅晶圆减薄砂轮，通过其超细金刚石磨粒和超高自锐性，实现了高磨削效率和低损伤的完美平衡。在东京精密-HRG200X减薄机的实际应用中，6吋和8吋SiC线割片的加工结果显示，表面粗糙度Ra值和总厚度变化TTV均达到了行业先进水平。这种高精度的加工能力，不只满足了半导体制造的需求，还为客户节省了大量时间和成本，助力优普纳在国产碳化硅减薄砂轮市场中占据重要地位。通过多孔显微组织调控技术，砂轮在DISCO-DFG8640减薄机上加工8吋SiC线割片 磨耗比30%，Ra≤30nm TTV≤3μm。砂轮更换周期

从材料特性到设备适配，优普纳砂轮提供全方面解决方案，确保加工过程的高效性和稳定性。半导体磨削砂轮制程工艺

江苏优普纳科技有限公司：强度高微晶增韧陶瓷结合剂通过优化陶瓷相分布，提升砂轮抗冲击性，减少磨粒脱落；多孔显微组织调控技术增强冷却液渗透效率，降低磨削热损伤。两项技术结合使砂轮寿命延长30%，磨削效率提升25%，尤其适用于高硬度SiC晶圆加工。实际案例显示，在DISCO-DFG8640设备上，8吋晶圆精磨磨耗比达200%，远优于行业平均水平。江苏优普纳科技有限公司专业生产砂轮，品质有保证，欢迎您的随时致电咨询，为您提供满意的产品以及方案。半导体磨削砂轮制程工艺