电解腐蚀,控制表面质量的一致性电解抛光仪可以通过精确控制电解参数,如电流密度、电压、电解时间等来保证样品表面质量的一致性。这对于需要批量处理金相样品的情况非常重要。在工业质量控制和材料研究中,经常需要对多个相同材料的样品进行分析。使用电解抛光仪,只要设定好合适的电解参数,就可以确保每个样品都能获得相近的表面质量,便于后续的观察和比较。例如,在对一批铝合金材料进行金相分析时,通过电解抛光仪可以使每个样品的表面都达到相同的光洁度标准,从而提高了分析结果的准确性和可靠性。电解抛光腐蚀,电压、电流随时间变化的曲线。重庆晶间腐蚀经济实用
电解抛光腐蚀参考资料
试验材料 |
电解液配比 |
电压 |
时间 |
备注 |
铜、铜一锌合金 |
水 100ml焦磷酸 580g |
1~2v |
10分 |
铜阴极 |
铜和铜基合金 |
蒸馏水:500ml,磷酸(85%)250ml乙醇(95%) 250ml |
18V |
1~5分 |
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青铜 (Sn≤9%) |
水 450ml磷酸(85%) 390ml |
1.5~12V |
1~5分 |
0.1A/ cm2 |
青铜 (Sn≤6%) |
水:330ml 硫酸 90ml磷酸(85%) 580ml |
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铝和铝一硅(<2% 合金 |
蒸馏水:140ml,酒精(95%)800ml高氯酸(60%) 60ml |
30~40v |
15~60秒 |
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铝一合金 |
甲醇(纯) 840ml甘油(丙三醇) 125ml |
50~100v |
5~60秒 |
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铝 |
甲醇(纯):950ml, 硝酸(1.40)15ml,高氯酸(60%)50ml |
30~60v |
15~60秒 |
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铝、银、镁 |
蒸馏水:200ml,磷酸(85%)400ml酒精(95%) 380ml |
25~30v |
4~6分 |
铝阴极 100~1100。F |
晶间腐蚀,腐蚀发生:在腐蚀介质作用下,贫铬区就会失去耐腐蚀能力,而产生晶间腐蚀,因为晶界钝态受到破坏,在晶界上析出的碳化铬周围贫化铬区成为阳极区,而碳化铬和晶粒处于钝态成为阴极区,在腐蚀介质中晶界与晶粒构成活化 - 钝化微电池,加速了晶界区的腐蚀。晶间 σ 相析出理论:对于低碳的高铬、高钼不锈钢,在℃内热处理时,会生成含铬的相金属间化合物。在过钝化电位下,相发生严重的腐蚀,其阳极溶解电流急剧上升,可能是相自身的选择性溶解所致3。相金属间化合物一般只能在很强的氧化性介质中才能发生溶解,所以检测这种类型的腐蚀必须使用氧化性很强的的沸腾硝酸,使不锈钢的腐蚀电位达到过钝化区。
电解腐蚀,在金相分析中,样品表面质量至关重要。电解抛光是一种通过电化学作用去除金属表面微观不平度的方法。对于一些难以用机械抛光获得理想表面的金属材料,如不锈钢、镍基合金等,电解抛光仪可以发挥很大的作用。它能够在短时间内使样品表面达到很高的光洁度,形成类似镜面的效果。例如,在观察不锈钢金相组织时,机械抛光后的表面可能仍残留一些细微划痕,而电解抛光可以有效地消除这些划痕,使表面更加平整光滑,从而在金相显微镜下能够更清晰地观察到金相组织的细节,如晶界、相组成等。低倍加热腐蚀尺寸多样性,完全可以按照客户要求定制。
晶间腐蚀,贫化理论:对于奥氏体不锈钢等合金,在一定条件下,晶界会析出第二相,导致晶界附近某种成分出现贫乏化。以奥氏体不锈钢为例,具体过程如下:碳化物析出:当温度升高时,碳在不锈钢晶粒内部的扩散速度大于铬的扩散速度。室温时碳在奥氏体中的溶解度很小,而一般奥氏体不锈钢中的含碳量均超过此值,多余的碳会不断地向奥氏体晶粒边界扩散,并和铬化合,在晶间形成碳化铬的化合物,如等。贫铬区形成:铬沿晶界扩散的速度比在晶粒内扩散速度快,但由于碳化铬形成速度较快,内部的铬来不及向晶界扩散,所以在晶间所形成的碳化铬所需的铬主要来自晶界附近,结果使晶界附近的含铬量大为减少。当晶界的铬的质量分数低到小于时,就形成 “贫铬区”。电解抛光腐蚀,电压、电流范围大,可同时满足各种材料的抛光和腐蚀。重庆晶间腐蚀经济实用
低倍加热腐蚀样品托盘可完全取出,清洗容易。重庆晶间腐蚀经济实用
晶间腐蚀是什么?以晶间腐蚀为起源,在应力和介质的共同作用下,可使不锈钢、铝合金等诱发晶间应力腐蚀,所以晶间腐蚀有时是应力腐蚀的先导,在通常腐蚀条件下,钝化合金组织中的晶界活性不大,但当它具有晶间腐蚀的敏感性时,晶间活性很大,即晶格粒与晶界之间存在着一定的电位差,这主要是合金在受热不当时,组织发生改变而引起的。所以晶间腐蚀是一种由组织电化学不均匀性引起的局部腐蚀蚀。此外晶界存在杂质时,在一定介质也也会引起晶间腐蚀。重庆晶间腐蚀经济实用