金相制样制备方法：金相显微式样的制备包括取样、镶嵌等工序。取样式样的选取应根据研究的目的,取其具有代表性的部位。待确定好部位,就可以把式样截下,式样的尺寸通常采用直径12～15mm,高12～15mm的圆柱体或边长12～15mm的方形式样。取样方法可用手锯、锯床切割或锤击等方法。镶嵌如式样尺寸太小,直接用手来磨制困难时,可把式样镶嵌在低熔点合金或塑料中,以便于式样的磨制和抛光。磨制切好或镶好的式样在砂轮机上磨平,尖角要倒圆。一直磨到W10砂纸方可进行粗抛光和细抛光。金相真空镶嵌机 一次性同时制2个试样。浙江数显台式金相切片机

金刚石悬浮抛光液一、用途金刚石悬浮液不仅适用于金相和岩相的研磨、抛光，还适用于各种黑色和有色金属、陶瓷、复合材料以及宝石、仪表、光学玻璃等产品的高光洁度表面的研磨及抛光。金刚石悬浮液中含一定剂量的冷却润滑组分，实现了金刚石经久耐磨的磨抛力与冷却、润滑等关键性能有效结合，完全降低了磨抛过程产生热损伤的可能性，保证了样品表面的光洁度和平整度。二、使用方法1.使用前将抛光织物用清水湿透，避免摩擦发热；2、启动抛光盘后将抛光剂轻摇后倒置喷出；3、喷洒抛光剂时，应以抛光盘中心为圆心沿半径方向喷出，3-5秒即可。新织物喷洒时间应相应延长，以使织物有更好的磨抛能力；4、抛光过程中不断加入适量的清水即可。北京体视金相冷镶嵌机金相打磨机 可与计算机连接通讯。

二氧化硅悬浮抛光液一、产品用途二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。***用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。二、产品特点：高抛光速率、高纯度，有效减小对电子类产品玷污、高平坦度三、规格：：0.02um、0.05um二氧化硅悬浮抛光液一、产品用途二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。***用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。二、产品特点：高抛光速率、高纯度，有效减小对电子类产品玷污、高平坦度三、规格：：0.02um、0.05um

透反射正置金相显微镜OC-40MRT一、介绍OC-40MRT透反射正置金相显微镜根据市场需求重新优化配置整体性能，以优异的成像性能，舒适的操作体验，为客户提供高性价比的金相分析及工业检测解决方案。二、用途1、观察筒采用新生儿睡床比较好舒适角度（30°）的观察筒，能够缓解用户在长时间工作状态下的紧张与疲劳，保证比较好观察状态。观察筒上的刻度，方便用户自行调节比较好瞳距范围。2、落射照明器采用柯拉照明系统，带视场光阑、孔径光阑和斜照明装置；预设起偏镜、检偏镜与滤**插槽。单颗5WLED暖白光照明（3000-3300K），与同类LED照明相比，能很大程度降低观察者的视觉疲劳。视场光阑与孔径光阑采用拉杆装置，中心可调,能灵活调节照明范围的大小，有效避免杂光对图像的影响。起偏镜与检偏镜可实现简易偏光观察，您也可根据需求，选择不同颜色的滤**获得理想的观察效果。3、工具存放装置M4直柄内六角扳手随机存放，充分利用了机身的可用空间，触手可及的工具使您的操作更加便捷。4、随机限位装置可有效防止样品与物镜碰触，避免损伤。采用RX50M***的聚光系统，数值孔径更大，亮度更高，大幅提升透射光通过率。自动金相真空镶嵌机实惠。

金相制样过程中，试样的材质，和抛盘的转速决定制样的成败。抛盘转速越高，磨削能力越强，但也会使试样表面产生变形层，对一些软质材料，变形层会造成组织的变化，如产生滑移、孪晶等，因此像铝合金，尤其是纯铝、钛合金等，一般都希望在低转速下进行研磨。但早期的磨抛机是单速的，转速很高，有经验的制样者是通过利用近抛盘中心线速度较低的特点，来进行软质材料的抛光。随着多速磨抛机和无级调速磨抛机的开发运用，制样速率控制难题就迎刃而解。自动金相研磨机清理方便。广西体视金相单头卡盘夹具

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金相制样中，如果初次研磨不得当，那么很容易使样品表面出现划痕。那我们又如何防止制样过程中出现划痕呢，划痕即是样品表面上的线性凹槽，是由研磨粒子造成的。应对措施：确定在粗磨后，试样座上所有样品的表面都均匀地布满同样的磨痕花样；必要时重新进行粗磨；每一道步聚后均应仔细清洁样品和试样座，以去掉前一道工序中的大研磨粒子对磨/抛用具的干扰；如果在现行的抛光工序后仍有前面工序留下的磨痕，请先增加25~50%的制样时间。浙江数显台式金相切片机