EMMI 技术基于半导体器件在工作时因电子 - 空穴复合产生的光子辐射现象，通过高灵敏度光学探测器捕捉微弱光子信号，能够以皮安级电流精度定位漏电、短路等微观缺陷。这种技术尤其适用于检测芯片内部的栅极氧化层缺陷、金属导线短路等肉眼难以察觉的故障，为工程师提供精确的失效位置与成因分析。

热红外显微镜（Thermal EMMI）则聚焦于器件发热与功能异常的关联，利用红外热成像技术实时呈现半导体器件的热分布。在高集成度芯片中，局部过热可能引发性能下降甚至损坏，热红外显微镜通过捕捉0.1℃级别的温度差异，可快速锁定因功率损耗、散热不良或设计缺陷导致的热失效隐患。两者结合，实现了从电学故障到热学异常的全维度失效诊断，极大提升了分析效率与准确性。 热红外显微镜支持芯片、电路板等多类电子元件热检测。国内热红外显微镜技术参数

在国内失效分析设备领域，专注于原厂研发与生产的企业数量相对较少，尤其在热红外检测这类高精度细分领域，具备自主技术积累的原厂更为稀缺。这一现状既源于技术门槛 —— 需融合光学、红外探测、信号处理等多学科技术，也受限于市场需求的专业化程度，导致多数企业倾向于代理或集成方案。

致晟光电正是国内少数深耕该领域的原厂之一。不同于单纯的设备组装，其从中枢技术迭代入手，在传统热发射显微镜基础上进化出热红外显微镜，形成从光学系统设计、信号算法研发到整机制造的完整能力。这种原厂基因使其能深度理解国内半导体、材料等行业的失效分析需求，例如针对先进制程芯片的微小热信号检测、国产新材料的热特性研究等场景，提供更贴合实际应用的设备与技术支持，成为本土失效分析领域不可忽视的自主力量。 厂家热红外显微镜货源充足量化 SiC、GaN 等宽禁带半导体的衬底热阻、结温分布，优化散热设计。

无损热红外显微镜的非破坏性分析（NDA）技术，为失效分析提供了 “保全样品” 的重要手段。它在不损伤高价值样品的前提下，捕捉隐性热信号以定位内部缺陷，既保障了分析的准确性，又为后续验证、复盘保留了完整样本，让失效分析从 “找到问题” 到 “解决问题” 的闭环更高效、更可靠。

相较于无损热红外显微镜的非侵入式检测，这些有损分析方法虽能获取内部结构信息，但会破坏样品完整性，更适合无需保留样品的分析场景，与无损分析形成互补。

ThermalEMMI（热红外显微镜）是一种先进的非破坏性检测技术，主要用于精细定位电子设备中的热点区域，这些区域通常与潜在的故障、缺陷或性能问题密切相关。该技术可在不破坏被测对象的前提下，捕捉电子元件在工作状态下释放的热辐射与光信号，为工程师提供关键的故障诊断线索和性能分析依据。在诸如复杂集成电路、高性能半导体器件以及精密印制电路板（PCB）等电子组件中，ThermalEMMI能够快速识别出异常发热或发光的区域，帮助工程师迅速定位问题根源，从而及时采取有效的维修或优化措施。热红外显微镜助力科研人员研究新型材料的热稳定性与热性能 。

在电子领域，所有器件都会在不同程度上产生热量。器件散发一定热量属于正常现象，但某些类型的缺陷会增加功耗，进而导致发热量上升。

在失效分析中，这种额外的热量能够为定位缺陷本身提供有用线索。热红外显微镜可以借助内置摄像系统来测量可见光或近红外光的实用技术。该相机对波长在3至10微米范围内的光子十分敏感，而这些波长与热量相对应，因此相机获取的图像可转化为被测器件的热分布图。通常，会先对断电状态下的样品器件进行热成像，以此建立基准线；随后通电再次成像。得到的图像直观呈现了器件的功耗情况，可用于隔离失效问题。许多不同的缺陷在通电时会因消耗额外电流而产生过多热量。例如短路、性能不良的晶体管、损坏的静电放电保护二极管等，通过热红外显微镜观察时会显现出来，从而使我们能够精细定位存在缺陷的损坏部位。 热红外显微镜通过分析热辐射分布，评估芯片散热设计的合理性 。国内热红外显微镜内容

在半导体制造中，通过逐点热扫描筛选热特性不一致的晶圆，提升良率。国内热红外显微镜技术参数

从传统热发射显微镜到致晟光电热红外显微镜的技术进化，不只是观测精度与灵敏度的提升，更实现了对先进制程研发需求的深度适配。它以微观热信号为纽带，串联起芯片设计、制造与可靠性评估全流程。在设计环节助力优化热布局，制造阶段辅助排查热相关缺陷，可靠性评估时提供精细热数据。这种全链条支撑，为半导体产业突破先进制程的热壁垒提供了扎实技术保障，助力研发更小巧、运算更快、性能更可靠的芯片，推动其从实验室研发稳步迈向量产应用。
国内热红外显微镜技术参数

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