热红外显微镜（Thermal EMMI) 作为一种能够捕捉微观尺度热辐射信号的精密仪器，其优势在于对材料、器件局部温度分布的高空间分辨率观测。

然而，在面对微弱热信号（如纳米尺度结构的热辐射、低功耗器件的散热特性等）时，传统热成像方法易受环境噪声、背景辐射的干扰，难以实现精细测量。锁相热成像技术的引入，为热红外显微镜突破这一局限提供了关键解决方案。通过锁相热成像技术的赋能，热红外显微镜从 “可见” 微观热分布升级为 “可测” 纳米级热特性，为微观尺度热科学研究与工业检测提供了不可或缺的工具。 芯片复杂度提升对缺陷定位技术的精度与灵敏度提出更高要求。半导体热红外显微镜平台

非制冷热红外显微镜的售价因品牌、性能、功能配置等因素而呈现较大差异 。不过国产的非制冷热红外显微镜在价格上颇具竞争力，适合长时间动态监测。通过锁相热成像等技术优化后，其灵敏度（通常 0.01-0.1℃）和分辨率（普遍 5-20μm）虽稍逊于制冷型，但性价比更具优势。与制冷型相比，非制冷型无需制冷耗材，适用于 PCB、PCBA 等常规电子元件的失效分析；制冷型灵敏度更高（可达 0.1mK）、分辨率更低（低至 2μm），多用于半导体晶圆等对检测要求较高的场景。非制冷热红外显微镜在中低端工业检测领域应用较多。制冷热红外显微镜用途国产热红外显微镜凭借自主研发软件，具备时域重构等功能，提升检测效率。

RTTLITP20 热红外显微镜凭借多元光学物镜配置，构建从宏观到纳米级的全尺度热分析能力，灵活适配多样检测需求。Micro广角镜头可快速覆盖大尺寸样品整体热分布，如整块电路板、大型模组的散热趋势，高效完成初步筛查；0.13~0.3x变焦镜头通过连续倍率调节，适配芯片封装体、传感器阵列等中等尺度器件热分析，兼顾整体热场与局部细节；0.65X～0.75X变焦镜头提升分辨率，解析芯片内部功能单元热交互，助力定位封装散热瓶颈；3x～4x变焦镜头深入微米级结构，呈现晶体管阵列、引线键合点等细微部位热分布；8X～13X变焦镜头聚焦纳米尺度，捕捉微小短路点、漏电流区域等纳米级热点的微弱热信号，满足先进制程半导体高精度分析需求。

多段变焦与固定倍率结合的设计，实现宏观到微观热分析平滑切换，无需频繁更换配件，大幅提升半导体失效分析、新材料热特性研究等领域的检测效率与精细度。

热红外显微镜和红外显微镜并非同一事物，二者是包含与被包含的关系。红外显微镜是个广义概念，涵盖利用0.75-1000微米红外光进行分析的设备，依波长分近、中、远红外等，通过样品对红外光的吸收、反射等特性分析化学成分，比如识别材料中的官能团，应用于材料科学、生物学等领域。而热红外显微镜是其分支，专注7-14微米的热红外波段，无需外部光源，直接探测样品自身的热辐射，依据黑体辐射定律生成温度分布图像，主要用于研究温度分布与热特性，像定位电子芯片的热点、分析复合材料热传导均匀性等。前者侧重成分分析，后者聚焦热特性研究。热红外显微镜通过纳秒级瞬态热捕捉，揭示高速芯片开关过程的瞬态热失效机理。

热红外显微镜（Thermal EMMI) 也是科研与教学领域的利器，其设备能捕捉微观世界的热信号。它将红外探测与显微技术结合，呈现物体表面温度分布，分辨率达微米级，可观察半导体芯片热点、电子器件热分布等。非接触式测量是其一大优势，无需与被测物体直接接触，避免了对样品的干扰，适用于多种类型的样品检测。实时成像功能可追踪动态热变化，如材料相变、化学反应热释放。在高校，热红外显微镜助力多学科实验；在企业，为产品研发和质量检测提供支持，推动各领域创新突破。 热红外显微镜凭借≤0.001℃的温度分辨率，助力复杂半导体失效分析 。半导体失效分析热红外显微镜备件

在高低温循环（-40℃~125℃）中监测车载功率模块、传感器的热疲劳退化。半导体热红外显微镜平台

致晟光电自主研发的热红外显微镜 Thermal EMMI P系列，是电子工业中不可或缺的精密检测工具，在半导体芯片、先进封装技术、功率电子器件以及印刷电路板（PCB）等领域的失效分析中发挥着举足轻重的作用。

该设备搭载——实时瞬态锁相红外热分析（RTTLIT）系统，并集成高灵敏度红外相机、多倍率可选显微镜镜头、精确高低压源表等技术组件，赋予其三大特性：超凡灵敏度与亚微米级检测精度，可捕捉微弱热信号与光子发射；高精度温度测量能力（锁相灵敏度达0.001℃），支持动态功耗分析；无损故障定位特性，无需破坏器件即可锁定短路、开路等缺陷。凭借技术集成优势，ThermaEMMIP系列不仅能快速定位故障点，更能通过失效分析优化产品质量与可靠性，为半导体制造、先进封装及电子器件研发提供关键技术支撑。 半导体热红外显微镜平台

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