植入前遗传学诊断（英文：preimplantation genetic diagnosis，PGD [2]），是在进行胚胎移植前，从卵母细胞或受精卵中取出极体或从植入前阶段的胚胎中取1~2个卵裂球或多个滋养层细胞进行特定的遗传学性状检测，然后据此选择合适的胚胎进行移植的技术 [2-3]。为2019年公布的计划生育名词。

应用情况近年来，我国每年通过辅助生殖技术出生的婴儿有数十万。胚胎植入前遗传学诊断技术发展十分迅速。这项技术的广泛应用，也为将来把基因组编辑技术用于人类受精卵打下了基础。基因组编辑存在出现差错的可能性，有可能会发生脱靶或造成胚胎嵌合等现象。将来如果用于临床，对基因组编辑后的受精卵进行植入前遗传学诊断是十分必要的 [2]。从卵母细胞或受精卵取出极体或从植入前阶段的胚胎取1~2个卵裂球或多个滋养层细胞进行的特定遗传学性状检测，然后据此选择合适的胚胎进行移植的技术。 通过调节激光参数，可根据不同胚胎的特点进行个性化的辅助孵化，进一步提高胚胎着床率和妊娠成功率。上海Laser激光破膜ZILOS-TK

1989年Handyside AH首先将PGD成功应用于临床，用PCR技术行Y染色体特异基因体外扩增，将诊断为女性的胚胎移植入子宫获妊娠成功。开初的PGD都是用PCR或FISH检测性别，选女性胚胎移植，帮助有风险生育血友病A、进行性肌营养不良等X连锁遗传病后代的夫妇妊娠分娩出一正常女婴。但按遗传规律，此法无疑否定健康男孩的出生，而允许携带者女孩繁衍，并不能切断致病基因的传递。1992年美国首先报道用PCR检测囊性纤维成功，并通过胚胎筛选，诞生了健康婴儿。之后，α-1-抗胰岛素缺乏症、色素沉着视网膜炎等多种单基因遗传病的PGD检测方法建立，PGD进入对单基因遗传病的检测预防阶级。1993年以后，由于晚婚晚育使大龄产妇人数增多，而45岁以上的妇女染色体异常率高、自然妊娠容易分娩18-3体和21-3体愚型儿，于是PGD的工作热点转向了对染色体病的检测预防，检测用FISH。由于取样多用***极体，筛选出的为未授精卵，须进行单精子胞浆内注射，待培养发育成胚胎后移植。2023年2023年12月，随着一声响亮的啼哭，全球首例通过pgt（俗称“第三代试管婴儿”）技术成功阻断kit基因相关罕见色素沉着病/胃肠间质瘤的试管婴儿呱呱坠地。香港DTS激光破膜XYRCOS激光破膜仪软件拥有图像获取、图像自动标记、实时和延时视频拍摄、综合报告。

检测方法播报编辑（1）阻值测量法：拆下激光二极管，用万用表R×1k或R×10k档测量其正、反向电阻值。正常时，正向电阻值为20~40kΩ之间，反向电阻值为∞（无穷大）。若测得正向电阻值已超过50kΩ，则说明激光二极管的性能已下降。若测得的正向电阻值大于90kΩ，则说明该二极管已严重老化，不能再使用了。（2）电流测量法：用万用表测量激光二极管驱动电路中负载电阻两端的电压降，再根据欧姆定律估算出流过该管的电流值，当电流超过100mA时，若调节激光功率电位器，而电流无明显的变化，则可判断激光二极管严重老化。若电流剧增而失控，则说明激光二极管的光学谐振腔已损坏。

应用图4 激光二极管随着技术和工艺的发展，多层结构。常用的激光二极管有两种：①PIN光电二极管。它在收到光功率产生光电流时，会带来量子噪声。②雪崩光电二极管。它能够提供内部放大，比PIN光电二极管的传输距离远，但量子噪声更大。为了获得良好的信噪比，光检测器件后面须连接低噪声预放大器和主放大器。半导体激光二极管的工作原理，理论上与气体激光器相同。

激光二极管⑴波长：即激光管工作波长，可作光电开关用的激光管波长有635nm、650nm、670nm、690nm、780nm、810nm、860nm、980nm等。⑵阈值电流Ith ：即激光管开始产生激光振荡的电流，对一般小功率激光管而言，其值约在数十毫安，具有应变多量子阱结构的激光管阈值电流可低至10mA以下。⑶工作电流Iop ：即激光管达到额定输出功率时的驱动电流，此值对于设计调试激光驱动电路较重要。⑷垂直发散角θ⊥：激光二极管的发光带在垂直PN结方向张开的角度，一般在15?~40?左右。⑸水平发散角θ∥：激光二极管的发光带在与PN结平行方向所张开的角度，一般在6?~ 10?左右。⑹监控电流Im ：即激光管在额定输出功率时，在PIN管上流过的电流。 RED-i标靶定位时刻指示激光落点，使在目镜中和显示器上均可随时确定打孔位置，操作更流畅，精确。

DFB-LD多采用Ⅲ和Ⅴ族元素组成的三元化合物、四元化合物，在1550nm波段内，**成熟的材料是InGaAsP/InP。新型AIGaInAs/InP材料的研发日趋成熟，国际上*少数几家厂商可提供商用产品。优化器件结构，有源区为应变超晶格QW。有源区周边一般为双沟掩埋或脊型波导结构。有源区附近的光波导区为DFB光栅，采用一些特殊的设计，如：波纹坡度可调分布耦合、复耦合、吸收耦合、增益耦合、复合非连续相移等结构，提高器件性能。生产技术中，金属有机化学汽相淀积MOCVD和光栅的刻蚀是其关键工艺。MOCVD可精确控制外延生长层的组分、掺杂浓度、薄到几个原子层的厚度，生长效率高，适合大批量制作，反应离子束刻蚀能保证光栅几何图形的均匀性，电子束产生相位掩膜刻蚀可一步完成阵列光栅的制作。1550nmDFB-LD开始大量用于622Mb/s、2.5Gb/s光传输系统设备，对波长的选择使DFB-LD在大容量、长距离光纤通信中成为主要光源。同一芯片上集成多波长DFB-LD与外腔电吸收调制器的单芯片光源也在发展中。研制成功的电吸收调制器集成光源，采用有源层与调制器吸收层共用多QW结构。调制器的作用如同一个高速开关，把LD输出变换成二进制的0和1。热效应环显示功能能够清晰标示出激光热效应范围，让操作人员对激光作用范围一目了然。美国二极管激光激光破膜组织培养

激光破膜仪在透明带打孔后，使用显微操作针吸取或者挤压胚胎均可以方便出去卵裂球。上海Laser激光破膜ZILOS-TK

物理结构是在发光二极管的结间安置一层具有光活性的半导体，其端面经过抛光后具有部分反射功能，因而形成一光谐振腔。在正向偏置的情况下，LED结发射出光来并与光谐振腔相互作用，从而进一步激励从结上发射出单波长的光，这种光的物理性质与材料有关。在VCD机中，半导体激光二极管是激光头的**部件之一，它大多是由双异质结构的镓铝砷(AsALGA)三元化合物构成的，是一种近红外半导体器件，波长为780～820 nm，额定功率为3～5 mw。另外，还有一种可见光(如红光)半导体激光二极管，也广泛应用于VCD机以及条形码阅读器中。激光二极管的外形及尺寸如图11所示。其内部结构类型有三种，如图11所示。上海Laser激光破膜ZILOS-TK