铝及其合金经硬质阳极氧化处理后，可在其表面生成厚度达几十到几百微米的阳极氧化膜，由于这层氧化膜具有极高的硬度(铝合金上可达400-6000kg/mm2，纯铝上可达1500kg/mm2)，通过对于铝合金硬质阳极氧化工艺研发及发展，可以得出优良的耐磨性、耐热性(氧化膜熔点可达2050℃)和绝缘性，提高了材质本身的物理性能。铸铝合金硬质阳极氧化：合金中含有较多的硅(超过7%)就很难在硫酸体系中进行阳极氧化，而ZL102合金含硅量高达10%-13%，高硅的存在，容易造成硅的晶向偏析，导致成膜困难，膜层均匀性差。昆山显荣电子工业有限公司为您提供硬质氧化，期待您的光临！太仓本色硬质氧化企业

用硬质氧化工艺来代替传统的镀硬铬镀层，与硬铬工艺相比它具有成本低，膜层结合牢固，镀液，清洗废液处理方便等优点。但此工艺所得膜层的缺点是膜层厚度较大时，对铝和铝合金的机械疲劳强度指标有所影响。通过提高铝类基材表面的清洁度，即使在非铬酸盐处理中，也可以获得与铬酸盐处理相同或在其之上的与涂膜的密合性和耐腐蚀性。该方法是在铝类基材上，在进行具有化成处理的工序的涂布前处理后进行涂布的铝类基材的表面处理方法，在对铝类基材进行上述涂布的前处理前，通过强碱性水溶液或电解水进行处理。太仓本色硬质氧化企业硬质氧化，就选昆山显荣电子工业有限公司，用户的信赖之选，欢迎新老客户来电！

硬质阳极氧化膜应怎样检验?①合格的氧化膜层呈均匀的深黑色、蓝黑色或褐色。②氧化膜厚度约50μm。③氧化膜硬度HV≥300。④若氧化膜是均匀的灰黑色，只要厚度和硬度符合设计要求，仍为合格。⑤氧化膜虽然是均匀的深黑色、蓝黑色或褐色，厚度和硬度也符合设计要求，但有许多白色或灰白色点，则不合格。⑥氧化膜虽然是均匀的深黑色、蓝黑色或褐色，但有有规律的一道道不均匀现象，这是基体金属的毛病，只要厚度和硬度符合设计要求，也为合格。⑦氧化膜上不允许有因烧焦而形成易擦掉的疏松膜层和因局部受热使氧化膜被腐蚀的光亮斑点和边缘、圆角部分膜层脱落的现象。整个零件表面除夹具印外，局部表面不得有无氧化膜的地方。允许包铝钣金件氧化膜出现小的裂纹。⑧氧化膜的厚度测定。从零件或试件上切取横向试片，在金相显微镜下测定氧化膜的厚度，也可以用涡流测厚仪直接测出氧化膜厚度。⑨氧化膜的硬度测定：氧化膜的硬度(显微硬度)可以用显微硬度值在横向试片上测出，不应低于300kgf／mm2，LYl2合金不低于250kgf／mm2。

硬质氧化的原理：单纯硫酸型铝合金硬质阳极氧化原理和普通阳极氧化没有本质区别，如果是混酸型硬质氧化会存在一些附反应。1.阴极反应：4H++4e=2H2↑。2.阳极反应：4OH－－4e=2H2O+O2↑。3.铝氧化：阳极上析出的氧呈原子状态,比分子状态的氧更为活泼，更易与铝起反应：2Al+3O→Al2O3。4.氧化于阳极膜溶解的动平衡：氧化膜随着通电时间的增加，电流增大而促使氧化膜增厚。与此同时，由于（Al2O3）的化学性质有两重性，即它在酸性溶液中呈碱性氧化物，在碱性溶液中呈酸性氧化物。无疑在硫酸溶液中氧化膜液发生溶解，只有氧化膜的生成速度大于它的溶解速度，氧化膜才有可能增厚，当溶解速度与生成速度相等时，氧化膜不再增厚。当氧化速度过分大于溶解速度时，铝和铝合金制件表面易生成带粉状的氧化膜。昆山显荣电子工业有限公司是一家专业提供硬质氧化的公司，有想法的不要错过哦！

硬质氧化全称是硬质阳极氧化处理。硬质阳极氧化膜一般要求厚度为25-150um，大部分硬质阳极氧化膜的厚度为50-80um，膜厚小于25um的硬质阳极氧化膜，用于齿键和螺线等使用场合的零部件，耐磨或绝缘用的阳极氧化膜厚度约为50um，在某些特殊工艺条件下，要求生产厚度为125um以上的硬质阳极氧化膜，但是必须注意阳极氧化膜越厚，其外层的显微硬度可以越低，膜层表面的粗糙度增加。硬质阳极氧化的槽液，一般是硫酸溶液以及硫酸添加有机酸，如草酸、氨基磺酸等。另外，可通过降低阳极氧化温度或降低硫酸浓度来实现硬质阳极氧化处理。对于铜含量大于5%或硅含量大于8%的变形铝合金，或者高硅的压铸造铝合金，也许还应考虑增加一些阳极氧化的特殊措施。例如：对于2XXX系铝合金，为了避免铝合金在阳极氧化过程中被烧损，可采用385g/L的硫酸加上15g/L草酸作为电解槽液，电流密度也应该提高到2.5A/dm以上。硬质氧化，就选昆山显荣电子工业有限公司，用户的信赖之选，欢迎您的来电哦！太仓本色硬质氧化企业

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硬质阳极氧化和普通阳极氧化的区别：硬质氧化的氧化膜有50%渗透在铝合金内部，50%附着在铝合金表面，因此硬质氧化后产品外部尺寸变大，内孔变小。一、操作条件方面的差异：1、温度不同：普通氧化18-22℃左右，有添加剂的可以到30℃，温度过高易出现粉末或裂纹；硬质氧化一般在5℃以下，相对来说温度越低硬质越高。2、浓度差异：普通氧化一般20%左右；硬质氧化一般在15%或更低。3、电流/电压差异：普通氧化电流密度一般：1-1.5A/dm2；而硬质氧化：1.5-5A/dm2；普通氧化电压≤18V，硬质氧化有时高达120V。二、膜层性能方面的差异：1、膜层厚度：普通氧化膜层厚度相对较薄；硬质氧化一般膜层厚度>15μm，过低达不到硬度≥300HV的要求。2、表面状态：普通氧化表面较光滑，而硬质氧化表面较粗糙（微观，和基体表面粗糙度有关）。3、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高；而硬质氧化孔隙率低。4、普通氧化基本是透明膜；硬质氧化由于膜厚，为不透明膜。5、适用场合不同：普通氧化适用于装饰为主；而硬质氧化以功能为主，一般用于耐磨、耐电的场合。太仓本色硬质氧化企业

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