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进口微射流均质机技术参数

来源: 发布时间:2023-07-13

  有研究表明,硅负极材料在锂合金化过程中发生的体积膨胀,效率并不是固定的,而是与硅材料颗粒尺寸紧密相关[5]。纳米级尺寸的硅颗粒,由于其独特的表面效应和尺寸效应,可以缓解硅体积变化引发的颗粒破碎粉化[6]。另外,通过降低硅材料的颗粒尺寸,直接减少了锂离子的扩散距离,显著提高了硅与锂的合金化反应效率,而使硅纳米颗粒具有更快速的电子传输能力和更高的损伤容限[7]。目前主流的降低硅材料粒径的方式是采用球磨,但是在球磨的过程中部分硅材料容易发生氧化,另外在球磨后材料也容易重新团聚。高压微射流均质机是基于高压微射流技术开发的先进的纳米材料制备装备,它利用成熟稳定的液压技术,在柱塞泵的作用下将液体物料增压,凭借精确压力调节使物料压力增压到20Mpa至210Mpa之间设定的压力值。被增压的物料,流向具有固定几何形状的金刚石(或陶瓷)制作的微通道并产生高速微射流,高速微射流物料在特定几何通道下产生物理剪切、高能对撞、空穴效应等物理作用力,从而使得物料混合、分散、破碎等,在电池负极纳米硅材料的处理中能有--效降低粒径,防止过程氧化以及处理后团聚,具有明显的效果.利用迈克孚微射流均质机分散金属氧化物,能够稳定分散在纳米级别,具有非常好的分散效果。进口微射流均质机技术参数

微射流均质机

微射流均质机是一种高效的物料处理设备,其主要功能包括以下几个方面:1.均质:微射流均质机可以将物料进行高速均质处理,使其颗粒大小均匀,达到更好的混合效果。这对于制备的化妆品、食品、医药等产品非常重要。2.分散:微射流均质机可以将物料分散到更小的颗粒大小,使其更容易被吸收和利用。这对于制备高效的药物、化妆品等产品非常重要。3.乳化:微射流均质机可以将油水混合物进行高效乳化处理,使其更加稳定,不易分离。这对于制备的食品、化妆品等产品非常重要。4.破壁:微射流均质机可以将细胞壁等物质进行高速破碎,释放出其中的活性成分,提高其利用率。这对于制备高效的药物、保健品等产品非常重要。5.清洗:微射流均质机可以通过高速喷射清洗液,将设备内部进行彻底清洗,保证物料的纯度和卫生。综上所述,微射流均质机具有均质、分散、乳化、破壁和清洗等多种功能,是一种非常重要的物料处理设备。上海石墨烯微射流均质机国内厂家迈克孚微射流均质机比阀式高压均质机优异的粒径结果,适合研发高净价值**材料。

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高压微射流均质机它的原理可以解释为:通过往复运动的柱塞泵将样品挤入一个狭小的缝隙,在缝隙中受到一个非常高的压力挤压(如2000bar),而当样品通过缝隙之后只承受很低的压力(一般为1bar),所以瞬间失压的样品会产生一个很大的爆破力;瞬间失压的样品会有非常快的速度喷射出来(200~1000m/s),也会产出很强的撞击力;样品在高速喷射的过程中样品颗粒之间也会产生一定的剪切力;所以综合来说通过爆破力,撞击力和剪切力就能达到非常好的细菌破碎或者液体样品均质、粉碎和乳化的效果。因此高压均质腔是设备的部件,其内部的特有的几何结构是决定均质效果的主要因素。而增压机构为流体物料高速通过均质腔提供了所需的压力,压力的高低和稳定性也会在一定程度上影响产品的质量。

基于以上应用难题,科学家们开发出了脂质体、脂质纳米粒、纳米乳等各种各样的剂型,可以将神经酰胺已无定形态的方式包裹在小球中,实现了神经酰胺的微载体化,各种微载体化的方式可总结如下图,而实现这些微载体化的g工业化的设备就高压微射流(如图),迈克孚提供的微射流高压技术是利用百微米左右孔道形成两束超音速射流相互对撞进行极强烈的剪切,从而实现微粒化,具有对活性物损伤小、颗粒均匀度高、批次放大稳定性好等优点,高压微射流也是目前制药行业用于制备注射脂质体的主要设备。迈克孚微射流均质机可以进行LTCC 氧化铝的纳米分散。

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  目前,已有相关利用高压微射流进行碳纳米管分散的研究。例如,Luo等[3][4]开发了结合高压微射流与超声波方法大规模生产碳纳米管分散体的技术,研究了这两种不同工艺处理的swcnts分散体的加工-结构关系,并在同一框架内方便地进行了比较。利用超离心机方法,同时拉曼散射、光致发光光谱进行表观特征分析,证明了微射流处理提高了swcnts束的分散效率。微射流高压均质机利用成熟稳定的液压技术,在柱塞泵的作用下将液体物料增压,凭借精确压力调节使物料压力增压到20Mpa至210Mpa之间设定的压力值。被增压的物料,流向具有固定几何形状的金刚石(或陶瓷)制作的微通道并产生高速微射流,高速微射流物料在特定几何通道下产生物理剪切、高能对撞、空穴效应等物理作用力,从而使得物料达到均匀分散效果。迈克孚微射流均质机的生产型多通道并列式微通道结构可线性放大研发工艺结果。北京实验型微射流均质机哪家好

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CMP抛光液一般由去离子水、磨料、pH值调节剂、氧化剂以及分散剂等添加剂组成。由于纳米磨料颗粒存在比表面积大、表面原子数多、表面能高等问题使其在水相介质中极易发生粒子团聚和快速沉降,导致抛光过程中玻璃表面粗糙度增加、划伤增多及抛光效率不稳定。因此如何配制匀分散且悬浮稳定的纳米磨料抛光液在CMP应用中十分重要的研究课题。迈克孚微射流?高压均质机是一种利用高压微射流技术实现纳米材料分散的精密装备。迈克孚供应的微射流高压均质机利用成熟稳定的液压增压技术,在柱塞泵的作用下将液体或固液混悬物料增压,凭借准确的压力调节使物料压力增压到20Mpa至300Mpa之间设定的压力值。被增压的物料,射向具有固定几何形状的金刚石微通道并产生超音速微射流,超音速微射流物料在特定几何通道内受到每秒千万次的物理剪切、对撞、空穴效应、急剧压力降等物理作用力,从而实现纳米材料的分散。近日,有客户在迈克孚利用微射流均质机进行了CMP抛光液的分进口微射流均质机技术参数

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