2019年荷兰阿斯麦公司推出新一代极紫外光刻系统，**了当今**的第五代光刻系统，可望将摩尔定律物理极限推向新的高度 [5]。中国工程院《Engineering》期刊于2021年组建跨学科评选委员会，通过全球**提名、公众问卷等多阶段评审，选定近五年内完成且具有全球影响力的**工程成就。极紫外光刻系统凭借三大**指标入选：原创性突破：开发新型等离子体光源与反射式光学系统系统创新：整合超精密机械、真空环境控制与实时检测技术产业效益：支撑全球90%以上**芯片制造需求 [1] [3-4] [7]。典型售后服务包括1年保修期、可延长保修期、现场技术咨询 [2]。常熟省电光刻系统推荐货源

实际上，由于液体介质的折射率相比空气介质更接近曝光透镜镜片材料的折射率，等效地加大了透镜口径尺寸与数值孔径（NA），同时可以 ***提高焦深（DOF）和曝光工艺的宽容度（EL），浸没式光 刻 技 术 正 是 利 用 这 个 原 理 来 提 高 其 分 辨率。世界三 大光刻机 生产商ASML，Nikon和Cannon的*** 代 浸 没 式 光 刻 机 样 机 都 是 在 原 有193nm干式光刻机的基础上改进研制而成，**降低了研发成本和风险。因为浸没式光刻系统的原理清晰而且配合现有的光刻技术变动不大，193nm ArF准分子激光光刻技术在65nm以下节点半导体量产中已经广泛应用；ArF浸没式光刻 技 术 在45nm节 点 上 是 大 生 产 的 主 流 技 术。南通销售光刻系统按需定制优点：涂底均匀、避免颗粒污染；b、旋转涂底。缺点：颗粒污染、涂底不均匀、HMDS用量大。

由于193nm沉浸式工艺的延伸性非常强，同时EUV技术耗资巨大进展缓慢。EUV（极紫外线光刻技术）是下一代光刻技术（<32nm节点的光刻技术）。它是采用波长为13.4nm的软x射线进行光刻的技术。EUV光刻的基本设备方面仍需开展大量开发工作以达到适于量产的成熟水平。当前存在以下挑战：（1）开发功率足够高的光源并使系统具有足够的透射率，以实现并保持高吞吐量。（2）掩模技术的成熟，包括以足够的平面度和良率制**射掩模衬底，反射掩模的光化学检测，以及因缺少掩模表面的保护膜而难以满足无缺陷操作要求。（3）开发高灵敏度且具有低线边缘粗糙度(LineEdgeRoughness,LER)的光刻胶。 [3]

极紫外光刻系统是采用13.5纳米波长极紫外光源的半导体制造**设备，可将芯片制程推进至7纳米、5纳米及更先进节点。该系统由荷兰阿斯麦公司于2019年推出第五代产品，突破光学衍射极限，将摩尔定律物理极限推向新高度。2021年12月14日，中国工程院***发布的"2021全球**工程成就"将其列为近五年全球工程科技重大成果，评选标准包括**技术突破、系统集成创新及产业带动效益三项维度 [1-7]。采用13.5纳米波长的极紫外光源，突破传统深紫外光刻193纳米波长限制，通过多层镀膜反射式光学系统实现更高精度曝光。该技术使芯片制程工艺节点从10纳米推进至7纳米、5纳米及3纳米水平，相较前代技术晶体管密度提升3倍以上 [5] [7]。其技术发展历经紫外（UV）、深紫外（DUV）到极紫外（EUV）阶段，推动集成电路制程不断进步 [3] [6]。

对准对准方法：a、预对准，通过硅片上的notch或者flat进行激光自动对准；b、通过对准标志（Align Mark），位于切割槽（Scribe Line）上。另外层间对准，即套刻精度（Overlay），保证图形与硅片上已经存在的图形之间的对准。曝光曝光中**重要的两个参数是：曝光能量（Energy）和焦距（Focus）。如果能量和焦距调整不好，就不能得到要求的分辨率和大小的图形。表现为图形的关键尺寸超出要求的范围。曝光方法：a、接触式曝光（Contact Printing）。掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。缺点：光刻胶污染掩膜板；掩膜板的磨损，寿命很低（只能使用5～25次）；1970前使用，分辨率〉0.5μm。影响光刻胶均匀性的参数：旋转加速度，加速越快越均匀；与旋转加速的时间点有关。淮安常见光刻系统推荐货源

工作原理是通过光源、照明系统和投影物镜将掩模图案转移至硅片，实现纳米级曝光精度 [6-7]。常熟省电光刻系统推荐货源

光刻机系统是材料科学领域的关键设备，通过光学成像原理将掩模版上的微细图形精确转移到光刻胶表面。系统配置1Kw近紫外光源与6V/30W显微镜灯适配器，配备气动防震台保障精密操作环境，其技术参数截至2020年11月24日仍在使用 [1]。通过光化学反应将掩模版上的图形转移至光刻胶上 [1]。系统采用光敏材料与精确曝光技术结合的方式完成图形复制。（截至2020年11月24日更新数据）1.光源系统输出功率：1千瓦级近紫外光（NUV）配套适配器：6V直流供电，额定功率30W2.稳定装置常熟省电光刻系统推荐货源

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