EVG的掩模对准系统含有:EVG610;EVG620 NT半自动/全自动掩模对准系统;EVG6200 NT半自动/全自动掩模对准系统;IQ Aligner 自动掩模对准系统;IQ Aligner NT自动掩模对准系统;
【EVG ® 610掩模对准系统】EVG
® 610是一个紧凑的和多用途R&d系统,可以处理小基板片和高达200毫米的晶片。
EVG ® 610技术数据:EVG610支持多种标准光刻工艺,例如真空,硬,软和接近曝光模式,并可选择背面对准功能。此外,该系统还提供其他功能,包括键合对准和纳米压印光刻(NIL)。EVG610提供快速的处理和重新安装工具,可满足用户需求的变化,转换时间不到几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到**级别的所有需求,因此使其非常适合大学和研发应用。 新型的EVG120带有通用和全自动光刻胶处理工具,能够处理各种形状和尺寸达200 mm / 8“的基片。**光刻机中芯在用吗
EVG120特征:
晶圆尺寸可达200毫米
超紧凑设计,占用空间**小
**多2个涂布/显影室和10个加热/冷却板
用于旋涂和喷涂,显影,烘烤和冷却的多功能模块的多功能组合为许多应用领域提供了巨大的机会
化学柜,用于化学品的外部存储
EV集团专有的OmniSpray ®超声波雾化技术提供了****的处理结果,当涉及到极端地形的保形涂层
CoverSpin TM旋转盖可降低光刻胶消耗并优化光刻胶涂层的均匀性
Megasonic技术用于清洁,声波化学处理和显影,可提高处理效率并将处理时间从数小时缩短至数分钟
湖北掩模对准光刻机EVG在1985年发明了世界上第/一个底部对准系统,可以在顶部和双面光刻。
IQ Aligner工业自动化功能:盒式磁带/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,弯曲,翘曲,边缘晶圆处理
晶圆直径(基板尺寸):高达200毫米
对准方式:
上侧对准:≤±0.5 μm
底侧对准:≤±1,0 μm
红外校准:≤±2,0 μm /具体取决于基板材料
曝光设定:真空接触/硬接触/软接触/接近模式/弯曲模式
曝光选项:间隔曝光/洪水曝光
系统控制
操作系统:Windows
文件共享和备份解决方案/无限制 程序和参数
多语言用户GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR
实时远程访问,诊断和故障排除
产能
全自动:第/一批生产量:每小时85片
全自动:吞吐量对准:每小时80片
IQ Aligner特征:
晶圆/基板尺寸从小到200 mm /
8''
由于外部晶圆楔形测量,实现了非接触式接近模式
增强的振动隔离,有效减少误差
各种对准功能提高了过程灵活性
跳动控制对准功能,提高了效率
多种晶圆尺寸的易碎,薄或翘曲的晶圆处理
高地表形貌晶圆加工经验
手动基板装载能力
远程技术支持和SECS / GEM兼容性
IQ Aligner附加功能:
红外对准–透射和/或反射
IQ Aligner技术数据:
楔形补偿:全自动软件控制
非接触式
先进的对准功能:自动对准;大间隙对准;跳动控制对准;动态对准 EVG的代理商岱美仪器能在全球范围内提供服务。
EVG101光刻胶处理系统的技术数据:
可用模块:旋涂/ OmniSpray ® /开发
分配选项:
各种光刻胶分配泵,可覆盖高达52000 cP的粘度;
液体底漆/预湿/洗盘;
去除边缘珠(EBR)/背面冲洗(BSR);
恒压分配系统/注射器分配系统。
智能过程控制和数据分析功能(框架软件平台)
用于过程和机器控制的集成分析功能
并行任务/排队任务处理功能,提高效率
设备和过程性能跟/踪功能:智能处理功能;事/故和警报分析/智能维护管理和跟/踪
晶圆直径(基板尺寸):高达300毫米
EVG通过不断开发掩模对准器来为这些领域做出巨大的贡献,以提高**重要的光刻技术的水平。黑龙江光刻机当地价格
EVG101光刻胶处理机可支持**/大300 mm的晶圆。**光刻机中芯在用吗
随着现在科学技术的发展,仪器仪表行业发生了突飞猛进的发展,再加上当前计算机技术、网络技术的进步和发展,组建网络而构成实用的监控系统,可以提高生产效率和共享信息资源方向发展。当前仪器仪表行业产品发展呈现微型化、多功能化、智能化、网络化四大发展趋势。在计算机和互联网的急速发展到整个世界的背景下,仪器仪表也开始向网络化突进,结合新的科技设备,通过广域网和局域网直接操控仪器仪表,对公司的管理,经营一体化,应用模式的分析等各大方面产生影响。有限责任公司企业通过网络这个平台与客户直接的交流,突破了世界和空间的限制,行家远程操控对仪器仪表进行维护和分析。高科技的产品也随之而来。伴随移动互联网的爆发式增长,如今,它已经渐渐取代电子商务成为了整个互联网产业增速**快的领域,而移动终端的入口也随即成为了传统行业的必争之地。磁记录,半导体,光通讯生产,测试仪器的批发行业进军移动互联网实现线上发展势在必行。我们必须承认,在科学仪器上,我们跟其他地区相比,还有很大的差距。这个差距,就是我们提升的空间。合相关部门、大学和企业之力,中国的其他型必将在不远的将来,在相关领域的基础研究和重点光学部件研发上取得突破,产品进入世界中**水平,企业得到台阶式上升,迎头赶上,与全球出名企业并驾齐驱。**光刻机中芯在用吗
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