滤光片整平光谱响应。
ND#0.5 衰减整平滤波器.單倍整平滤波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#0.5 衰减整平滤波器.
ND#1 衰减整平滤波器.單倍整平滤波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#1 衰减整平滤波器.
ND#2 衰减整平滤波器.單倍整平滤波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#2 衰减整平滤波器.
420nm 高通滤波器.420nm 高通滤波器於滤波器架.
515nm 高通滤波器.515nm 高通滤波器於滤波器架.
520nm 高通滤波器 +ND1.520nm 高通滤波器 + ND#1 十倍衰减整平滤波器.
520nm 高通滤波器 + ND#2520nm 高通滤波器 + ND#2 一百倍衰减整平滤波器.
550nm 高通滤波器550nm 高通滤波器於滤波器架. F40-EXR范围:20nm-120μm;波长:400-1700nm。膜厚仪膜厚仪技术服务
FSM 8018 VITE测试系列设备
VITE技术介绍:
VITE是傅里叶频域技术,利用近红外光源的相位剪切技术(Phase shear technology)
设备介绍
适用于所有可让近红外线通过的材料:硅、蓝宝石、砷化镓、磷化铟、碳化硅、玻璃、石 英、聚合物…………
应用:
衬底厚度(不受图案硅片、有胶带、凹凸或者粘合硅片影响)
平整度
厚度变化 (TTV)
沟槽深度
过孔尺寸、深度、侧壁角度
粗糙度
薄膜厚度
不同半导体材料的厚度
环氧树脂厚度
衬底翘曲度
晶圆凸点高度(bump height)
MEMS 薄膜测量
TSV 深度、侧壁角度...
高精密仪器膜厚仪特点F10-AR在用户定义的任何波长范围内都能进行比较低、比较高和平均反射测试。
厚度测量产品:我们的膜厚测量产品可适用于各种应用。我们大部分的产品皆備有库存以便快速交货。请浏览本公司网页产品资讯或联系我们的应用工程师针对您的厚度测量需求提供立即协助。
单点厚度测量:
一键搞定的薄膜厚度和折射率台式测量系统。 测量 1nm 到 13mm 的单层薄膜或多层薄膜堆。
大多数产品都有库存而且可立即出货。
F20全世界销量**hao的薄膜测量系统。有各种不同附件和波长覆盖范围。
微米(显微)级别光斑尺寸厚度测量当测量斑点只有1微米(μm)时,需要用您自己的显微镜或者用我们提供的整个系统。
厚度标准:
所有 Filmetrics 厚度标准都是得到验证可追溯的 NIST 标准。
S-Custom-NIST:在客户提供的样品上定制可追溯的 NIST 厚度校准。
TS-Focus-SiO2-4-3100SiO2-on-Si :厚度标准,外加调焦区和单晶硅基准,厚度大约 3100A,4" 晶圆。
TS-Focus-SiO2-4-10000SiO2-on-Si :厚度标准,外加调焦区和单晶硅基准,厚度大约 10000A,4" 晶圆。
TS-Hardcoat-4μm:丙烯酸塑料硬涂层厚度标准,厚度大约 4um,直径 2"。
TS-Hardcoat-Trans:背面透明的硬涂层,可用于透射测量。
TS-Parylene-4um:丙烯酸塑料上的聚对二甲苯厚度标准,厚度大约 4um ,直径2"。
TS-Parylene-8um:硅基上的聚对二甲苯厚度标准,厚度大约 8um,23mm x 23mm。
TS-SiO2-4-7200:硅基上的二氧化硅厚度标准,厚度大约 7200A,4" 晶圆。
TS-SiO2-4-7200-NIST:可追溯的 NIST SiO2-4-7200 厚度标准。
TS-SiO2-6-Multi:多厚度硅基上的二氧化硅标准: 125埃米,250埃米,500埃米,1000埃米,5000埃米,和 10000埃米 (+/-10%误差),6英寸晶圆。TS-SS3-SiO2-8000:專為SS-3样品平台設計之二氧化硅厚度标准片,厚度大约為 8000A。 可选粗糙度: 20 — 1000? (RMS)。
FSM 360 拉曼光谱系统
FSM紫外光和可见光拉曼系统, 型号360
FSM拉曼的应用
l 局部应力;
l 局部化学成分
l 局部损伤
紫外光可测试的深度
***的薄膜(SOI 或 Si-SiGe)或者厚样的近表面局部应力
可见光可测试的深度
良好的厚样以及多层样品的局部应力
系统测试应力的精度小于15mpa (0.03cm-1)
全自动的200mm和300mm硅片检查
自动检验和聚焦的能力。
以上的信息比较有限,如果您有更加详细的技术问题,请联系我们的技术人员为您解答。或者访问我们的官网了解更多信息。 F3-sX 系列测厚范围:10μm - 3mm;波长:960-1580nm。晶圆膜厚仪价格
厚度变化 (TTV) ;沟槽深度;过孔尺寸、深度、侧壁角度。膜厚仪膜厚仪技术服务
F54包含的内容:
集成光谱仪/光源装置
MA-Cmount 安装转接器
显微镜转接器光纤连接线BK7
参考材料TS-Focus-SiO2-4-10000
厚度标准 聚焦/厚度标准4", 6" and 200mm
参考晶圆真空泵备用灯
型号厚度范围*波长范围
F54:20nm-40μm 380-850nm
F54-UV:4nm-30μm 190-1100nm
F54-NIR:40nm-100μm 950-1700nm
F54-EXR:20nm-100μm 380-1700nm
F54-UVX:4nm-100μm190-1700nm
*取决于材料与显微镜
额外的好处:每台系统內建超过130种材料库, 随着不同应用更超过数百种应用工程师可立刻提供帮助(周一 - 周五)网上的 “手把手” 支持 (需要连接互联网)硬件升级计划 膜厚仪膜厚仪技术服务
岱美仪器技术服务(上海)有限公司发展规模团队不断壮大,现有一支专业技术团队,各种专业设备齐全。在岱美仪器技术服务近多年发展历史,公司旗下现有品牌岱美仪器技术服务等。公司以用心服务为重点价值,希望通过我们的专业水平和不懈努力,将磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务。 【依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动】磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理(拍卖除外)及其相关配套服务,国际贸易、转口贸易,商务信息咨询服务。 【依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动】等业务进行到底。岱美仪器技术服务始终以质量为发展,把顾客的满意作为公司发展的动力,致力于为顾客带来***的磁记录,半导体,光通讯生产,测试仪器的批发。