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微接触纳米压印可以免税吗

来源: 发布时间:2020-07-02

纳米压印设备哪个好?预墨印章用于将材料以明显的图案转移到基材上。该技术用于表面化学的局部修饰或捕获分子在生物传感器制造中的精确放置。

纳米压印设备可以进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。


将聚合物片或旋涂聚合物加热到其玻璃化转变温度以上,从而将材料转变为粘性状态。然后以足够的力将压模压入聚合物中。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。


SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能,因此还可以实现****的吞吐量。微接触纳米压印可以免税吗

为了优化工艺链,HERCULES NIL中包括多次使用的软印章的制造,这是大批量生产的基石,不需要额外的压印印章制造设备。作为一项特殊功能,该工具可以升级为具有ISO 3 *功能的微型环境,以确保比较低的缺 陷率和比较高质量的原版复制。

通过为大批量生产提供完整的NIL解决方案,HERCULES NIL增强了EVG在***积NIL设备解决方案中的领导地位。

*根据ISO 14644


HERCULES ® NIL特征:

批量生产**小40 nm *或更小的结构

联合预处理(清洁/涂层/烘烤/寒意)和SmartNIL ®

体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度

全自动压印和受控的低力分离,可很大程度地重复使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源,固化时间**快

优化的模块化平台可实现高吞吐量


*分辨率取决于过程和模板 湖南纳米压印国内用户SmartNIL是基于紫外线曝光的全域型压印技术。

UV-NIL / SmartNIL 纳米压印系统

EV Group为基于紫外线的纳米压印光刻(UV-NIL)提供完整的产品线,包括不同的单步压印系统,大面积压印机以及用于高 效母版制作的分步重复系统。除了柔软的UV-NIL,EVG还提供其专有的SmartNIL技术以及多种用途的聚合物印模技术。高 效,强大的SmartNIL工艺可提供高图案保真度,高度均匀的图案层和**少的残留层,并具有易于调整的晶圆尺寸和产量。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期承诺,即纳米压印是一种用于大规模生产微米和纳米级结构的高性能,低成本和具有批量生产能力的技术。


这个系列的型号包括:EVG®610;EVG®620NT;EVG®6200NT;EVG®720;EVG®7200;EVG®7200LA;HERCULES®NIL;EVG®770;IQAligner®。

HERCULES®NIL:完全集成的纳米压印光刻解决方案,可实现300 mm的大批量生产

■批量生产低至40 nm的结构或更小尺寸(分辨率取决于过程和模板)

■结合了预处理(清洁/涂布/烘烤/冷却)和SmartNIL®技术

■全自动压印和受控的低力分离,可很大程度地重复使用工作印章

■具备工作印章制造能力


EVG®770:连续重复的纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作

■用于晶圆级光学器件的微透镜的高 效母模制造,直至SmartNIL®的纳米结构

■不同类型的母版的简单实现

■可变的光刻胶分配模式

■分配,压印和脱模过程中的实时图像

■用于压印和脱模的原位力控制


EVG系统是客户进行大批量晶圆级镜头复制(制造)的***选择。

客户示范

■工艺开发

■材料测试

■与合作伙伴共同研发

■资助项目

■小批量试生产

■IP管理

■过程技术许可证

■流程培训

→世界前列的洁净室基础设施

→**的设备

→技术**

→**计量

→工艺知识

→应用知识

→与NIL的工作印模材料和表面化学有关的化学专业知识


新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案,并在显示器,生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。

岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。


SmartNIL技术可提供功能强大的下一代光刻技术,几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。碳化硅纳米压印售后服务

纳米压印设备哪个好?预墨印章可用于将材料以明显的图案转移到基材上。微接触纳米压印可以免税吗

EVG610特征:

顶部和底部对准能力

高精度对准台

自动楔形误差补偿机制

电动和程序控制的曝光间隙

支持***的UV-LED技术

**小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)

敏捷处理和光刻工艺之间的转换

台式或带防震花岗岩台的单机版


EVG610附加功能:

键对准

红外对准

纳米压印光刻 

μ接触印刷


EVG610技术数据:

晶圆直径(基板尺寸)

标准光刻:比较大150毫米的碎片

柔软的UV-NIL:比较大150毫米的碎片

解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:柔软的UV-NIL

曝光源:汞光源或紫外线LED光源

自动分离:不支持

工作印章制作:外部


微接触纳米压印可以免税吗

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