这使得可以在工业水平上开发新的设备或工艺，这不仅需要高度的灵活性，而且需要可控和可重复的处理。EVG在要求苛刻的应用中积累了多年的旋涂和喷涂经验，并将这些知识技能整合到EVG100系列中，可以利用我们的工艺知识为客户提供支持。

光刻胶处理设备有：EVG101光刻胶处理，EVG105光刻胶烘焙机，EVG120光刻胶处理自动化系统；EVG150 光刻胶处理自动化系统。如果您需要了解每个型号的特点和参数，请联系我们，我们会给您提供**/新的资料?；蛘叻梦饰颐堑墓偻袢∠喙匦畔?。

EVG同样为客户提供量产型掩模对准系统。半导体设备光刻机国内用户

HERCULES®

■   全自动光刻跟/踪系统，模块化设计，用于掩模和曝光，集成了预处理和后处理能力

■   高产量的晶圆加工

■   **多8个湿法处理?？橐约岸啻?4个额外烘烤，冷却和蒸汽填料板

■   基于EVG的IQ Aligner® 或者EVG®6200

NT技术进行对准和曝光

■   **的柜内化学处理

■   支持连续操作模式(CMO)

EVG光刻机可选项有：

手动和自动处理

我们所有的自动化系统还支持手动基片和掩模加载功能，以便进行过程评估。此外，该系统可以配置成处理弯曲，翘曲，变薄或非SEMI标准形状的晶片和基片。各种晶圆卡盘设计毫无任何妥协，带来**/大的工艺灵活性和基片处理能力。我们的掩模对准器配有机械或非接触式光学预对准器，以确保**/佳的工艺能力和产量。Load＆Go选项可在自动化系统上提供超快的流程启动。 湖南光刻机推荐型号可在众多应用场景中找到EVG的设备应用，包括高级封装，化合物半导体，功率器件，LED，传感器和MEMS。

EVG ® 6200 NT掩模对准系统（半自动/自动）

特色：EVG ® 6200 NT掩模对准器为光学双面光刻的多功能工具和晶片尺寸高达200毫米。

技术数据：EVG6200 NT以其自动化灵活性和可靠性而著称，可在**小的占位面积上提供**/先进的掩模对准技术，并具有**/高的产能，先进的对准功能和优化的总拥有成本。操作员友好型软件，**短的掩模和工具更换时间以及高/效的全球服务和支持使它成为任何制造环境的理想解决方案。EVG6200 NT或完全安装的EVG6200 NT Gen2掩模对准系统有半自动或自动配置，并配有集成的振动隔离功能，可在广/泛的应用中实现出色的曝光效果，例如薄和厚光刻胶的曝光，深腔和类似地形的图案，以及薄而易碎的材料（例如化合物半导体）的加工。此外，半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。

EVG ® 610特征：

晶圆/基板尺寸从小到200 mm /8''

顶侧和底侧对准能力

高精度对准台

自动楔形补偿序列

电动和程序控制的曝光间隙

支持**/新的UV-LED技术

**小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）

便捷处理和转换重组

台式或带防震花岗岩台的单机版

EVG ® 610附加功能：

键对准

红外对准

纳米压印光刻（NIL）

EVG ® 610技术数据：

对准方式

上侧对准：≤±0.5 μm

底面要求：≤±2,0 μm

红外校准：≤±2,0 μm /具体取决于基板材料

键对准：≤±2,0 μm

NIL对准：≤±2,0 μm OmniSpray涂层技术是对高形晶圆表面进行均匀涂层。

EVG ® 150特征：晶圆尺寸可达300毫米

多达6个过程?？?

可自定义的数量-多达20个烘烤/冷却/汽化堆

多达四个FOUP装载端口或盒式磁带装载

可用的?？榘ㄐ坎?，喷涂，NanoCoat?，显影，烘烤/冷却/蒸气/上等

EV集团专有的OmniSpray ®超声波雾化技术提供了****的处理结果，当涉及到极端地形的保形涂层

可选的NanoSpray??？槭迪至?00微米深图案的保形涂层，长宽比**/高为1:10，垂直侧壁

广/泛的支持材料

烘烤?？槲露雀叽?50°C

Megasonic技术用于清洁，声波化学处理和显影，可提高处理效率并将处理时间从数小时缩短至数分钟

岱美是EVG光刻机在中国的代理商，提供本地化的质量服务。IQ Aligner光刻机可以免税吗

EVG?620 NT / EVG?6200 NT 掩模对准系统（自动化和半自动化）支持的晶圆尺寸 ：150 mm / 200 mm。半导体设备光刻机国内用户

HERCULES 光刻轨道系统技术数据：

对准方式：

上侧对准：≤±0.5 μm；

底侧对准：≤±1,0 μm；

红外校准：≤±2,0 μm /具体取决于基材

先进的对准功能：

手动对准；

自动对准；

动态对准。

对准偏移校正：

自动交叉校正/手动交叉校正；

大间隙对准。

工业自动化功能：盒式磁带/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄，弯曲，翘曲，边缘晶圆处理

曝光源：汞光源/紫外线LED光源

曝光设定：真空接触/硬接触/软接触/接近模式/弯曲模式

楔形补偿：全自动软件控制；非接触式

曝光选项：

间隔曝光/洪水曝光/扇区曝光

系统控制

操作系统：Windows

文件共享和备份解决方案/无限制 程序和参数

多语言用户GUI和支持：CN，DE，FR，IT，JP，KR

实时远程访问，诊断和故障排除 半导体设备光刻机国内用户

岱美仪器技术服务（上海）有限公司主营品牌有岱美仪器技术服务，发展规模团队不断壮大，该公司其他型的公司。岱美仪器技术服务是一家有限责任公司企业，一直“以人为本，服务于社会”的经营理念;“诚守信誉，持续发展”的质量方针。公司拥有专业的技术团队，具有磁记录，半导体，光通讯生产，测试仪器的批发等多项业务。岱美仪器技术服务自成立以来，一直坚持走正规化、专业化路线，得到了广大客户及社会各界的普遍认可与大力支持。