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上海中芯国际纳米压印

来源: 发布时间:2020-01-15

EVG ® 770分步重复纳米压印光刻系统

分步重复纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作


EVG770是用于步进式纳米压印光刻的通用平台,可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从**

大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入方法相结合,分步重复刻印通常用于有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。

EVG770的主要功能包括精确的对准功能,完整的过程控制以及可满足各种设备和应用需求的灵活性。 HERCULES ? NIL是完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光纳米压印系统。上海中芯国际纳米压印

    NIL300mmEV集团企业技术开发和知识产权总监MarkusWimplinger表示:“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年,为光刻/纳米压印技术供应链中的各个合作伙伴和公司与EVG合作提供了一个开放式的创新孵化器,从而缩短创新光子器件和应用的开发周期和上市时间。我们很高兴与肖特公司合作,证明EVG光刻/纳米压印技术解决方案的价值,不仅有助于新技术和新工艺的开发,还能够加速新技术和新工艺在大众市场中的采用。我们正在携手肖特开展的工作,彰显了光刻/纳米压印技术设备和工艺的成熟性,为各种令人兴奋的基于光子学的新产品和新应用的300-mm制造奠定了基础。”SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圆是**AR/MR设备的关键组件,已经实现了批量生产。产品组合提供了高达,支持深度沉浸的AR/MR应用,视野更广,高达65度。在与增强现实硬件制造商进行多年研发之后,肖特在2018年推出了***代SCHOTTRealView?。这款**产品在上市一年后便荣获了享有盛誉的2019年SID显示行业奖(SIDDisplayIndustryAward2019)。关于肖特肖特是特种玻璃、微晶玻璃和相关高科技材料领域的**国际技术集团。公司积累了超过130年的经验,是众多行业的创新合作伙伴。中国香港纳米压印质量怎么样SmartNIL的主要技术是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印结果。

EVG ® 620 NT特征:

顶部和底部对准能力

高精度对准台

自动楔形补偿序列

电动和程序控制的曝光间隙

支持***的UV-LED技术

**小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)

敏捷处理和转换工具

台式或带防震花岗岩台的单机版


EVG ® 620 NT附加功能:

键对准

红外对准

SmartNIL

μ接触印刷技术数据

晶圆直径(基板尺寸)

标准光刻:比较大150毫米的碎片

柔软的UV-NIL:比较大150毫米的碎片

SmartNIL ®:在100毫米范围

解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:软UV-NIL&SmartNIL

®

曝光源:汞光源或紫外线LED光源

对准:

软NIL:≤±0.5 μm

SmartNIL ®:≤±3微米

自动分离:柔紫外线NIL:不支持;SmartNIL

®:支持


工作印章制作:柔软的UV-NIL:外部:SmartNIL ®:支持


EVG ® 6200 NT特征:

顶部和底部对准能力

高精度对准台

自动楔形补偿序列

电动和程序控制的曝光间隙

支持***的UV-LED技术

**小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)

敏捷处理和转换工具

台式或带防震花岗岩台的单机版


EVG ® 6200 NT附加功能:

键对准

红外对准

智能NIL ®

μ接触印刷技术数据

晶圆直径(基板尺寸)

标准光刻:75至200 mm

柔软的UV-NIL:75至200毫米

SmartNIL ®:**多至150mm

解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:软UV-NIL&SmartNIL

®


曝光源:汞光源或紫外线LED光源

对准:软NIL:≤±0.5 μm;SmartNIL ®:≤±3微米

自动分离:柔紫外线NIL:不支持;SmartNIL

®:支持


工作印章制作:柔软的UV-NIL:外部;SmartNIL ®:支持


EV Group的一系列高精度热压花系统是基于该公司市场**的晶圆键合技术。

    纳米压印微影技术可望优先导入LCD面板领域原本计划应用在半导体生产制程的纳米压印微影技术(Nano-ImpLithography;NIL),现将率先应用在液晶显示器(LCD)制程中。NIL为次世代图样形成技术。据ETNews报导,南韩显示器面板企业LCD制程研发小组,未确认NIL设备实际图样形成能力,直接参访海外NIL设备厂。该制程研发小组透露,若引进相关设备,将可提升面板性能。并已展开具体供货协商。NIL是以刻印图样的压印机,像盖章般在玻璃基板上形成图样的制程。在基板上涂布UV感光液后,再以压印机接触施加压力,印出面板图样。之后再经过蚀刻制程形成图样。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光图样,不需再另外贴附偏光薄膜。虽然在面板制程中需增加NIL、蚀刻制程,但省落偏光膜贴附制程,可维持同样的生产成本。偏光膜会吸收部分光线降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光图样,将不会发生降低亮度的情况。通常面板分辨率越高,因配线较多,较难确保开口率(ApertureRatio)。SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能,因此还可以实现****的吞吐量。青海纳米压印值得买

EVG的热压印是一种经济高 效且灵活的制造技术,具有非常高的复制精度,可用于**小50 nm的特征尺寸。上海中芯国际纳米压印

    ”EV集团的技术研发与IP主管MarkusWimplinger说,“通过与供应链的关键企业的合作,例如DELO,我们能够进一步提高效率,作为与工艺和设备**们一同研究并建立关键的新生产线制造步骤的中心。”“EVG和DELO分别是晶圆级光学仪器与NIL设备与光学材料的技术与市场**企业。双方在将技术与工艺流程应用于大规模生产方面有可靠的经验,”DELO的董事总经理RobertSaller说道。“通过合作,我们将提供自己独特的技术,将晶圆级工艺技术应用于光学器件和光电器件制造中,EVG也成为我们***产品开发的理想合作伙伴。这种合作还将使我们以应用**和前列合作伙伴的身份为客户服务。"晶圆级光学元件的应用解决方案EVG的晶圆级光学器件解决方案为移动式消费电子产品提供多种新型的光学传感设备。主要的例子是:3D感应,飞行时间,结构光,生物特征身份认证,面部识别,虹膜扫描,光学指纹,频谱检测,环境感应与红外线成像。其它应用领域包括汽车照明,光地毯,平视显示器,车内感应,激光雷达,内窥镜照相机医学成像,眼科设备与手术机器人。EVG的晶圆级光学仪器解决方案得到公司的NILPhotonics解决方案支援中心的支持。DELO创新的多功能材料几乎可以在世界上每部手机上找到。上海中芯国际纳米压印

岱美仪器技术服务(上海)有限公司专注技术创新和产品研发,发展规模团队不断壮大。公司目前拥有较多的高技术人才,以不断增强企业重点竞争力,加快企业技术创新,实现稳健生产经营。诚实、守信是对企业的经营要求,也是我们做人的基本准则。公司致力于打造***的磁记录,半导体,光通讯生产,测试仪器的批发。公司深耕磁记录,半导体,光通讯生产,测试仪器的批发,正积蓄着更大的能量,向更广阔的空间、更宽泛的领域拓展。

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