EVG ® 6200 NT特征：

顶部和底部对准能力

高精度对准台

自动楔形补偿序列

电动和程序控制的曝光间隙

支持***的UV-LED技术

**小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）

敏捷处理和转换工具

台式或带防震花岗岩台的单机版

EVG ® 6200 NT附加功能：

键对准

红外对准

智能NIL ®

μ接触印刷技术数据

晶圆直径（基板尺寸）

标准光刻：75至200 mm

柔软的UV-NIL：75至200毫米

SmartNIL ®：**多至150mm

解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程：软UV-NIL＆SmartNIL

®

曝光源：汞光源或紫外线LED光源

对准：软NIL：≤±0.5 μm；SmartNIL ®：≤±3微米

自动分离：柔紫外线NIL：不支持；SmartNIL

®：支持

工作印章制作：柔软的UV-NIL：外部；SmartNIL ®：支持

IQ Aligner UV-NIL是自动化紫外线纳米压印光刻系统，是用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印的系统。甘肃纳米压印代理价格

    NIL系统肖特增强现实负责人RuedigerSprengard博士表示：“将高折射率玻璃晶圆的制造扩展到300-mm，对于实现我们客户满足当今和未来**AR/MR设备不断增长的市场需求所需的规模经济产量来说至关重要。通过携手合作，EVG和肖特彰显了当今300-mm高折射率玻璃制造的设备和供应链的就绪性?！痹诖酥?，使用光刻/纳米压印技术对具有光子学应用结构的玻璃基板进行图案成形***于200-mm基板。向300-mm晶圆加工的迁移是将AR/MR头戴显示设备推向大众消费和工业市场迈出的重要一步。不过，在这些较大的基板上保持高基板质量和工艺均匀性是很难控制的，需要先进的自动化和工艺控制能力。EVG的SmartNIL技术得益于多年的研究、开发和实验，旨在满足纳米图案成形的需求，经过了现场验证，能够轻松从晶圆级样品尺寸扩展到大面积基板。去年六月，EVG推出了HERCULES?NIL300mm，将SmartNIL引入300-mm制造，满足各种设备和应用的生产需求，其中包括AR、MR和虚拟现实（VR）头戴显示设备的光学器件以及3D传感器、生物医疗设备、纳米光子学和等离子电子学。集成到SmartNIL?UV-NIL系统的全模块化EVG?HERCULES?。联电纳米压印有哪些应用EVG ? 7200是自动SmartNIL ? UV纳米压印光刻系统。

    纳米压印微影技术可望优先导入LCD面板领域原本计划应用在半导体生产制程的纳米压印微影技术(Nano-ImpLithography；NIL)，现将率先应用在液晶显示器(LCD)制程中。NIL为次世代图样形成技术。据ETNews报导，南韩显示器面板企业LCD制程研发小组，未确认NIL设备实际图样形成能力，直接参访海外NIL设备厂。该制程研发小组透露，若引进相关设备，将可提升面板性能。并已展开具体供货协商。NIL是以刻印图样的压印机，像盖章般在玻璃基板上形成图样的制程。在基板上涂布UV感光液后，再以压印机接触施加压力，印出面板图样。之后再经过蚀刻制程形成图样。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光图样，不需再另外贴附偏光薄膜。虽然在面板制程中需增加NIL、蚀刻制程，但省落偏光膜贴附制程，可维持同样的生产成本。偏光膜会吸收部分光线降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光图样，将不会发生降低亮度的情况。通常面板分辨率越高，因配线较多，较难确保开口率(ApertureRatio)。

EVG ® 770特征：

微透镜用于晶片级光学器件的高 效率制造主下降到纳米结构为SmartNIL ®

简单实施不同种类的大师

可变抗蚀剂分配模式

分配，压印和脱模过程中的实时图像

用于压印和脱模的原位力控制

可选的光学楔形误差补偿

可选的自动盒带间处理

EVG ® 770技术数据：

晶圆直径（基板尺寸）：100至300毫米

解析度：≤50 nm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程：柔软的UV-NIL

曝光源：大功率LED（i线）> 100 mW /cm2

对准：顶侧显微镜，用于实时重叠校准≤±500 nm和精细校准≤±300 nm

较早印刷模具到模具的放置精度：≤1微米

有效印记区域：长达50 x 50毫米

自动分离：支持的

前处理：涂层：液滴分配（可选）

EVG的纳米压印设备括不同的单步压印系统，大面积压印机以及用于高 效母版制作的分步重复系统。

EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV纳米压印光刻系统。

用UV纳米压印能力为特色的EVG's专有SmartNIL通用掩模对准系统®技术，在100毫米范围内。

EVG620 NT以其灵活性和可靠性而闻名，它以**小的占位面积提供了***的掩模对准技术。操作员友好型软件，**短的掩模和模具更换时间以及有效的全球服务支持使它们成为任何研发环境（半自动批量生产）的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，以及背面对准选项。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻。此外，半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。

NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济、高 效的方法。江西纳米压印供应商家

EVG770是用于步进重复纳米压印光刻的通用平台，可用于进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。甘肃纳米压印代理价格

HERCULES ® NIL特征：

全自动UV-NIL压印和低力剥离

**多300毫米的基材

完全模块化的平台，具有多达八个可交换过程?？椋ㄑ褂『驮ご恚?

200毫米/ 300毫米桥接工具能力

全区域烙印覆盖

批量生产**小40 nm或更小的结构

支持各种结构尺寸和形状，包括3D

适用于高地形（粗糙）表面

*分辨率取决于过程和模板

HERCULES ® NIL技术数据：

晶圆直径（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米

解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率LED（i线）> 400 mW /cm2

对准：≤±3微米

自动分离：支持的

前处理：提供所有预处理?？?

迷你环境和气候控制：可选的

工作印章制作：支持的

甘肃纳米压印代理价格

岱美仪器技术服务（上海）有限公司发展规模团队不断壮大，现有一支专业技术团队，各种专业设备齐全。致力于创造***的产品与服务，以诚信、敬业、进取为宗旨，以建岱美仪器技术服务产品为目标，努力打造成为同行业中具有影响力的企业。公司坚持以客户为中心、磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理（拍卖除外）及其相关配套服务，国际贸易、转口贸易，商务信息咨询服务。 【依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理（拍卖除外）及其相关配套服务，国际贸易、转口贸易，商务信息咨询服务。 【依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】市场为导向，重信誉，保质量，想客户之所想，急用户之所急，全力以赴满足客户的一切需要。岱美仪器技术服务始终以质量为发展，把顾客的满意作为公司发展的动力，致力于为顾客带来***的磁记录，半导体，光通讯生产，测试仪器的批发。