IQ Aligner特征：

晶圆/基板尺寸从小到200 mm /

8''

由于外部晶圆楔形测量，实现了非接触式接近模式

增强的振动隔离，有效减少误差

各种对准功能提高了过程灵活性

跳动控制对准功能，提高了效率

多种晶圆尺寸的易碎，薄或翘曲的晶圆处理

高地表形貌晶圆加工经验

手动基板装载能力

远程技术支持和SECS / GEM兼容性

IQ Aligner附加功能：

红外对准–透射和/或反射

IQ Aligner技术数据：

楔形补偿：全自动软件控制

非接触式

先进的对准功能：自动对准；大间隙对准；跳动控制对准；动态对准 EVG在1985年发明了世界上第/一个底部对准系统，可以在顶部和双面光刻。广东联电光刻机

EVG ® 105—晶圆烘烤?？?

设计理念：单机EVG ® 105烘烤?？槭亲ㄎ砘蚝笃毓夂婵竟潭杓?。

特点：可以在EVG105烘烤?？樯现葱腥砗婵?，曝光后烘烤和硬烘烤过程。受控的烘烤环境可确保均匀蒸发?？杀喑痰慕咏商峁┒怨饪探河不毯臀露惹叩?*/佳控制。EVG105烘烤?？榭梢酝贝?00 mm的晶圆尺寸或4个100 mm的晶圆。

特征

**烘烤?？?

晶片尺寸**/大为300毫米，或同时**多四个100毫米晶片

温度均匀性≤±1°C @ 100°C，**/高250°C烘烤温度

用于手动和安全地装载/卸载晶片的装载销

烘烤定时器

基材真空（直接接触烘烤）

N 2吹扫和近程烘烤0-1 mm距离晶片至加热板可选

不规则形状的基材

技术数据

晶圆直径（基板尺寸）：高达300毫米

烤盘：

温度范围：≤250°C

手动将升降杆调整到所需的接近间隙

安徽衬底光刻机EVG100系列光刻胶处理系统为光刻胶涂层和显影建立了质量和灵活性方面的新的标准。

EVG6200 NT特征：

晶圆/基板尺寸从小到200 mm /8''

系统设计支持光刻工艺的多功能性

在第/一次光刻模式下的吞吐量高达180 WPH，在自动对准模式下的吞吐量高达140 WPH

易碎，薄或翘曲的多种尺寸的晶圆处理，更换时间短

带有间隔垫片的自动无接触楔形补偿序列

自动原点功能，用于对准键的精确居中

具有实时偏移校正功能的动态对准功能

支持**/新的UV-LED技术

返工分拣晶圆管理和灵活的盒式系统

自动化系统上的手动基板装载功能

可以从半自动版本升级到全自动版本

**小化系统占地面积和设施要求

多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）

先进的软件功能以及研发与全/面生产之间的兼容性

便捷处理和转换重组

远程技术支持和SECS / GEM兼容性

台式或带防震花岗岩台的单机版

我们可以根据您的需求提供进行优化的多用途系统。

我们的掩模对准系统设计用于从掩模对准到键合对准的快速简便转换。此外，可以使用用于压印光刻的可选工具集，例如UV-纳米压印光刻，热压印或微接触印刷。所有系统均支持原位对准验证软件，以提高手动操作系统的对准精度和可重复性。EVG620 NT / EVG6200 NT可从手动到自动基片处理，实现现场升级。此外，所有掩模对准器都支持EVG专有的NIL技术。如果您需要纳米压印设备，请访问我们的官网，或者直接联系我们。 EVG100光刻胶处理系统可以处理多种尺寸的基板，直径从2寸到300 mm。

EVG101光刻胶处理系统的旋转涂层?？?旋转器参数

转速：**/高10 k rpm

加速速度：**/高10 k rpm

喷涂模块-喷涂产生

超声波雾化喷嘴/高粘度喷嘴

开发?？?分配选项

水坑显影/喷雾显影

EVG101光刻胶处理系统附加模块选项：

预对准：机械

系统控制参数：

操作系统：Windows

文件共享和备份解决方案/无限制程序和参数/离线程序编辑器

灵活的流程定义/易于拖放的程序编程

并行处理多个作业/实时远程访问，诊断和故障排除

多语言用户GUI和支持：CN，DE，FR，IT，JP，KR

了解客户需求和有效的全球支持，这是我们提供优先解决方案的重要基础。天津光刻机服务为先

EVG620 NT / EVG6200 NT可从手动到自动的基片处理，能够实现现场升级。广东联电光刻机

EVG ® 150光刻胶处理系统分配选项：

各种光刻胶分配泵，可覆盖高达52000 cP的粘度

液体底漆/预湿/洗盘

去除边缘珠（EBR）/背面冲洗（BSR）

恒压分配系统/注射器分配系统

电阻分配泵具有流量监控功能

可编程分配速率/可编程体积/可编程回吸

超音波

附加?？檠∠?

预对准：光学/机械

ID读取器：条形码，字母数字，数据矩阵

系统控制：

操作系统：Windows

文件共享和备份解决方案/无限制 程序和参数/离线程序编辑器

灵活的流程定义/易于拖放的程序编程

并行处理多个作业/实时远程访问，诊断和故障排除

多语言用户GUI和支持：CN，DE，FR，IT，JP，KR 广东联电光刻机

岱美仪器技术服务（上海）有限公司总部位于中国(上海)自由贸易试验区加太路39号第五层六十五部位，是一家磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理（拍卖除外）及其相关配套服务，国际贸易、转口贸易，商务信息咨询服务。 【依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理（拍卖除外）及其相关配套服务，国际贸易、转口贸易，商务信息咨询服务。 【依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】的公司。岱美仪器技术服务拥有一支经验丰富、技术创新的专业研发团队，以高度的专注和执着为客户提供磁记录，半导体，光通讯生产，测试仪器的批发。岱美仪器技术服务不断开拓创新，追求出色，以技术为先导，以产品为平台，以应用为重点，以服务为保证，不断为客户创造更高价值，提供更优服务。岱美仪器技术服务始终关注自身，在风云变化的时代，对自身的建设毫不懈怠，高度的专注与执着使岱美仪器技术服务在行业的从容而自信。