EVG620 NT技术数据：

曝光源：

汞光源/紫外线LED光源

先进的对准功能：

手动对准/原位对准验证

自动对准

动态对准/自动边缘对准

对准偏移校正算法

EVG620 NT产量:

全自动：第/一批生产量：每小时180片

全自动：吞吐量对准：每小时140片晶圆

晶圆直径（基板尺寸）：高达150毫米

对准方式：

上侧对准：≤±0.5 μm

底侧对准：≤±1,0 μm

红外校准：≤±2,0 μm /具体取决于基材

键对准：≤±2,0 μm

NIL对准：≤±3.0 μm

曝光设定：真空接触/硬接触/软接触/接近模式/弯曲模式

楔形补偿：全自动软件控制

曝光选项：间隔曝光/洪水曝光/扇区曝光

系统控制：

操作系统：Windows

文件共享和备份解决方案/无限制 程序和参数

多语言用户GUI和支持：CN，DE，FR，IT，JP，KR

实时远程访问，诊断和故障排除

工业自动化功能：

盒式磁带/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄，弯曲，翘曲，边缘晶圆处理

纳米压印光刻技术：SmartNIL ® EVG的代理商岱美仪器能在全球范围内提供服务。氮化镓光刻机售后服务

EVG ® 610特征：

晶圆/基板尺寸从小到200 mm /8''

顶侧和底侧对准能力

高精度对准台

自动楔形补偿序列

电动和程序控制的曝光间隙

支持**/新的UV-LED技术

**小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）

便捷处理和转换重组

台式或带防震花岗岩台的单机版

EVG ® 610附加功能：

键对准

红外对准

纳米压印光刻（NIL）

EVG ® 610技术数据：

对准方式

上侧对准：≤±0.5 μm

底面要求：≤±2,0 μm

红外校准：≤±2,0 μm /具体取决于基板材料

键对准：≤±2,0 μm

NIL对准：≤±2,0 μm 重庆掩模对准光刻机IQ Aligner NT 光刻机系统使用零辅助桥接工具-双基片，支持200mm和300mm尺寸的晶圆。

       EV集团（EVG）是面向MEMS，纳米技术和半导体市场的晶圆键合机和光刻设备的**供应商，***宣布已收到其制造设备和服务的***组合产品组合的多个订单，这些产品和服务旨在满足对晶圆的新兴需求，水平光学（WLO）和3D感应。市场**的产品组合包括EVG®770自动UV-纳米压印光刻（UV-NIL）步进器，用于步进重复式主图章制造，用于晶圆级透镜成型和堆叠的IQAligner®UV压印系统以及EVG ®40NT自动测量系统，用于对准验证。EVG的WLO解决方案由该公司的NILPhotonics®能力中心提供支持。

      使用** 欣的压印光刻技术和键合对准技术在晶圆级制造微透镜，衍射光学元件和其他光学组件可带来诸多好处。这些措施包括通过高度并行的制造工艺降低拥有成本，以及通过堆叠使**终器件的外形尺寸更小。EVG是纳米压印光刻和微成型领域的先驱和市场***，拥有全球比较大的工具安装基础。

EVG ® 620 NT 掩模对准系统（半自动/自动）

特色：EVG ® 620 NT提供国家的本领域掩模对准技术在**小化的占位面积，支持高达150毫米晶圆尺寸。

技术数据：EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著称，在**小的占位面积上结合了先进的对准功能和**/优化的总体拥有成本，提供了**/先进的掩模对准技术。它是光学双面光刻的理想工具，可提供半自动或自动配置以及可选的全覆盖Gen 2解决方案，以满足大批量生产要求和制造标准。拥有操作员友好型软件，**短的掩模和工具更换时间以及高/效的全球服务和支持，使它成为任何制造环境的理想解决方案。 EVG的大批量制造系统目的是在以**/佳的成本效率与**/高的技术标准相结合，为全球服务基础设施提供支持。

掩模对准系统：EVG的发明，例如1985年世界上较早的拥有底面对准功能的系统，开创了顶面和双面光刻，对准晶圆键合和纳米压印光刻的先例，并设定了行业标准。EVG通过不断开发掩模对准器产品来增强这些**光刻技术，从而在这些领域做出了贡献。

EVG的掩模对准系统可容纳尺寸**/大，尺寸和形状以及厚度**/大为300 mm的晶片和基板，旨在为高级应用提供先进的自动化程度和研发灵活性的复杂解决方案。EVG的掩模对准器和工艺能力已经过现场验证，并已安装在全球的生产设施中，以支持众多应用，包括高级封装，化合物半导体，功率器件，LED，传感器和MEMS制造。 EVG在要求苛刻的应用中积累了多年的光刻胶旋涂和喷涂经验。陕西光刻机技术服务

HERCULES的桥接工具系统可对多种尺寸的晶圆进行易碎，薄或翘曲的晶圆处理。氮化镓光刻机售后服务

EVG ® 150光刻胶处理系统分配选项：

各种光刻胶分配泵，可覆盖高达52000 cP的粘度

液体底漆/预湿/洗盘

去除边缘珠（EBR）/背面冲洗（BSR）

恒压分配系统/注射器分配系统

电阻分配泵具有流量监控功能

可编程分配速率/可编程体积/可编程回吸

超音波

附加模块选项

预对准：光学/机械

ID读取器：条形码，字母数字，数据矩阵

系统控制：

操作系统：Windows

文件共享和备份解决方案/无限制 程序和参数/离线程序编辑器

灵活的流程定义/易于拖放的程序编程

并行处理多个作业/实时远程访问，诊断和故障排除

多语言用户GUI和支持：CN，DE，FR，IT，JP，KR 氮化镓光刻机售后服务

岱美仪器技术服务（上海）有限公司是一家磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理（拍卖除外）及其相关配套服务，国际贸易、转口贸易，商务信息咨询服务。 【依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理（拍卖除外）及其相关配套服务，国际贸易、转口贸易，商务信息咨询服务。 【依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】的公司，是一家集研发、设计、生产和销售为一体的专业化公司。岱美仪器技术服务作为磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理（拍卖除外）及其相关配套服务，国际贸易、转口贸易，商务信息咨询服务。 【依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理（拍卖除外）及其相关配套服务，国际贸易、转口贸易，商务信息咨询服务。 【依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】的企业之一，为客户提供良好的磁记录，半导体，光通讯生产，测试仪器的批发。岱美仪器技术服务始终以本分踏实的精神和必胜的信念，影响并带动团队取得成功。岱美仪器技术服务始终关注仪器仪表市场，以敏锐的市场洞察力，实现与客户的成长共赢。