EVG ® 510 HE是EVG500系列的热压印系统
EV Group的一系列高精度热压印系统基于该公司市场**的晶圆键合技术。出色的压力和温度控制以及大面积的均匀性可实现高精度的压印。热压印是一种经济高
效且灵活的制造技术,对于尺寸低至50 nm的特征,其复制精度非常高。该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高纵横比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。压模与基板对准的组合可将热压纹与预处理的基板结构对准。这个系列包含的型号有:EVG®510HE,EVG®520HE。 NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济、高 效的方法。EVG520 HE纳米压印实际价格
HERCULES NIL 300 mm提供了市场上**的纳米压印功能,具有较低的力和保形压印,快速的高功率曝光和平滑的压模分离。该系统支持各种设备和应用程序的生产,包括用于增强/虚拟现实(AR / VR)头戴式耳机的光学设备,3D传感器,生物医学设备,纳米光子学和等离激元学。
HERCULES ® NIL特征:
全自动UV-NIL压印和低力剥离
**多300毫米的基材
完全模块化的平台,具有多达八个可交换过程模块(压印和预处理)
200毫米/ 300毫米桥接工具能力
全区域烙印覆盖
批量生产**小40 nm或更小的结构
支持各种结构尺寸和形状,包括3D
适用于高地形(粗糙)表面
*分辨率取决于过程和模板
三维芯片纳米压印微流控应用**小外形尺寸和大体积创新型光子结构提供了更多的自由度,这对于实现衍射光学元件(DOE)至关重要。
纳米压印光刻设备-处理结果:
新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案,并在显示器,生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。HRI SmartNIL®压印上的单个像素的1.AFM图像压印全息结构的AFM图像
资料来源:EVG与SwissLitho
AG合作(欧盟项目SNM)
2.通过热压花在PMMA中复制微流控芯片
资料来源:EVG
3.高纵横比(7:1)的10 μm柱阵列
由加拿大国家研究委 员会提供
4.L / S光栅具有优化的残留层,厚度约为10 nm
资料来源:EVG
5.紫外线成型镜片300 μm
资料来源:EVG
6.光子晶体用于LED的光提取
多晶硅的蜂窝织构化(mc-Si)
由Fraunhofer ISE提供
7.金字塔形结构50 μm
资料来源:EVG
8.**小尺寸的光模块晶圆级封装
资料来源:EVG
9.光子带隙传感器光栅
资料来源:EVG(欧盟Saphely项目)
10.在强光照射下对HRISmartNIL®烙印进行完整的晶圆照相
资料来源:EVG
EV集团和肖特携手合作,证明300-MM光刻/纳米压印技术在大体积增强现实/混合现实玻璃制造中已就绪联合工作将在EVG的NILPhotonics?能力中心开展,这是一个开放式的光刻/纳米压印(NIL)技术创新孵化器,同时也是全球***可及的300-mm光刻/纳米压印技术线2019年8月28日,奥地利,圣弗洛里安――微机电系统(MEMS)、纳米技术和半导体市场晶圆键合与光刻设备**供应商EV集团(EVG)***宣布,与特种玻璃和微晶玻璃领域的**技术集团肖特携手合作,证明300-mm(12英寸)光刻/纳米压印(NIL)技术在下一代增强现实/混合现实(AR/MR)头戴显示设备的波导/光导制造中使用的高折射率(HRI)玻璃晶圆的大体积图案成形已就绪。此次合作涉及EVG的专有SmartNIL?工艺和SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圆,将在EVG位于奥地利总部的NILPhotonics?能力中心进行。肖特将于9月4日至7日在深圳会展中心举行的中国国际光电博览会上展示一款采用EVGSmartNIL技术进行图案成形的300-mmSCHOTTRealView?玻璃晶圆。300-mm和200-mmSCHOTTRealView?玻璃基板,装配在应用SmartNIL?UV-NIL技术的EVG?HERCULES?。EVG紫外光纳米压印系统还有:EVG?7200LA,HERCULES?NIL,EVG?770,IQAligner?等。
EVG610特征:
顶部和底部对准能力
高精度对准台
自动楔形误差补偿机制
电动和程序控制的曝光间隙
支持***的UV-LED技术
**小化系统占地面积和设施要求
分步流程指导
远程技术支持
多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)
敏捷处理和光刻工艺之间的转换
台式或带防震花岗岩台的单机版
EVG610附加功能:
键对准
红外对准
纳米压印光刻
μ接触印刷
EVG610技术数据:
晶圆直径(基板尺寸)
标准光刻:比较大150毫米的碎片
柔软的UV-NIL:比较大150毫米的碎片
解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程:柔软的UV-NIL
曝光源:汞光源或紫外线LED光源
自动分离:不支持
工作印章制作:外部
HERCULES?NIL是完全集成的纳米压印光刻解决方案,可实现300 mm的大批量生产。本地纳米压印芯片堆叠应用
EVG是纳米压印光刻(NIL)的市场**设备供应商。EVG520 HE纳米压印实际价格
HERCULES®NIL:完全集成的纳米压印光刻解决方案,可实现300 mm的大批量生产
■批量生产低至40 nm的结构或更小尺寸(分辨率取决于过程和模板)
■结合了预处理(清洁/涂布/烘烤/冷却)和SmartNIL®技术
■全自动压印和受控的低力分离,可很大程度地重复使用工作印章
■具备工作印章制造能力
EVG®770:连续重复的纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作
■用于晶圆级光学器件的微透镜的高 效母模制造,直至SmartNIL®的纳米结构
■不同类型的母版的简单实现
■可变的光刻胶分配模式
■分配,压印和脱模过程中的实时图像
■用于压印和脱模的原位力控制
EVG520 HE纳米压印实际价格
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