先用清水对树脂进行冲洗,然后用4~5%的HCl和NaOH在交换柱中依次交替浸泡2~4小时,在酸碱之间用大量清水淋洗至出水接近中性,如此重复2~3次,每次酸碱用量为树脂体积的2倍。***一次处理应用4~5%的HCl溶液进行,放尽酸液,用清水淋洗至中性即可待用。近年来,随着反渗透、EDI等工艺的发展,离子交换设备操作复杂,不容易实现自动化,浪费酸碱,运行成本高等缺点更加突出,更多的应用于反渗透的深度处理。小型的离子交换设备常采用有机玻璃交换柱,有利于观察树脂运行情况。如混合离子交换器再生分层是否充分,阳离子是否“中毒”等,树脂损耗情况等。大型的离子交换设备则采用碳钢内衬环氧树脂或衬胶,中间预留可视装置,以便于离子再生时在线观测再生液水位状况。能源去离子水产业未来发展方向在哪?苏州威立特为您指引!黄浦区去离子水图片
印花工艺中,去离子水可防止离子干扰糊料稳定性,确保花纹清晰不扩散,尤其适用于精细花纹面料(如丝绸印花)。纺织助剂(如柔软剂、抗皱剂)的配制需用去离子水,避免金属离子导致助剂失效,延长面料的功能性寿命。高附加值纺织品(如医用纱布、**家纺)的漂洗必须使用去离子水,去除残留助剂和盐分,避免皮肤刺激和面料泛黄。纺织工业用去离子水的电导率通常控制在 10-50μS/cm,虽低于电子级要求,但需控制铁离子(<0.1ppm)以防面料着色。与自来水相比,虽增加水处理成本,但可减少染料和助剂用量,综合效益提升***。介绍去离子水技术苏州威立特能源去离子水售后服务,专业水平高吗?
去离子水在电子工业中的关键作用电子工业对水质纯度要求极高,去离子水因其极低的离子含量和污染物水平,成为电子制造过程中的关键材料。在半导体芯片制造中,晶圆清洗必须使用超纯去离子水,任何残留离子(如 Na?)都会导致芯片短路或漏电 ——12 英寸晶圆的清洗需消耗数百升去离子水,其电导率需控制在 0.06μS/cm 以下。印刷电路板(PCB)生产中,去离子水用于蚀刻后清洗,去除残留的铜离子和蚀刻液,若清洗不彻底,会导致线路腐蚀或绝缘性能下降。电子元件(如电容、电阻)的封装前清洗也依赖去离子水,避免离子残留影响元件寿命。在显示面板制造中,去离子水用于清洗玻璃基板,确保像素电极的导电性稳定。电子工业用去离子水还需控制总有机碳(TOC<50ppb)和颗粒数(0.1μm 颗粒 < 10 个 /ml),通过终端超滤和紫外杀菌进一步净化。其质量直接影响电子产品的良率,例如芯片制造中水质不良可能导致良率下降 20% 以上。
被广泛应用的EDI系统就是如今**为热门的新型电除盐系统 [2],它取代传统离子混床装置成为纯水行业的新星。EDI系统不但弥补了传统工艺的缺陷简化工艺步骤,而且还提高生产效率;不论是从设备本身的性能,还是经济投资方面都比传统的去离子水设备更具优势。标准:1、无色的澄明液体、无臭、无味。2、电阻率大于0.5 MΩ·cm(兆欧·厘米) 比较高电阻率可达到18兆。3、去离子水的纯度比蒸馏水的高。去离子水处理设备是通过离子交换、反渗透等技术去除水中溶解性离子的水纯化装置,主要应用于电厂锅炉补给水、电子工业、化工冶金、医药制备等领域。传统工艺采用阳床、阴床、混床组合系统,通过阳/阴离子交换树脂置换水中盐离子,产水电导率可达5-10μS/cm,具有水质稳定、造价低的特点,曾是电厂水处理的主流方案能源去离子水管理,苏州威立特如何做到高效?
电子工业:超纯水的**战场电子工业对去离子水的纯度要求极高,半导体制造中芯片清洗需使用电阻率≥18 MΩ?cm 的超纯水,其颗粒计数需低于 0.1 个 /mL。威立雅为韩国海力士集团提供的超纯水系统连续运行 1700 天无中断,保障了芯片制造的稳定性。随着 5G 和人工智能的发展,先进制程对水质要求进一步提升,例如 7 纳米工艺需控制水中溶解氧含量低于 1 ppb。为满足需求,企业采用多级反渗透 + EDI + 紫外线杀菌的组合工艺,并引入在线监测系统实时监控水质参数。此外,电子级氢氟酸清洗液的制苏州威立特能源去离子水处理,对能源效率影响大吗?嘉定区定制去离子水
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化妆品行业:护肤品生产用纯水、洗发水生产用纯水、染发剂生产用纯水、牙膏生产用纯水 、洗手液生产用水;电子工业:铝箔清洗;电子管喷涂配液;显相管;玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗;液晶屏屏面清洗和配液:晶体管和集成电路的硅片清洗用水、配制水;电池行业:蓄电池生产去离子水设备、锂电池生产去离子水设备、太阳能电池生产去离子水设备;混凝土外加剂配制去离子水设备;玻璃镀膜用去离子水设备、玻璃制品清洗去离子水设备、灯具清洗去离子水设备;纺织印染工业:印染助剂配制去离子水设备、湿巾用去离子水设备、面膜去离子水设备;超声波清洗纯水设备;涂装行业:涂料配制去离子水设备、电镀配制清洗去离子水设备、电泳漆配制清洗去离子水设备;黄浦区去离子水图片
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