硫酸雾等酸性废气选酸雾净化塔;低浓度有机废气用活性炭吸附装置,中高浓度则考虑催化燃烧装置;有颗粒物选布袋或静电除尘器,混合废气需组合设备。
各设备处理率有别,处理量匹配电镀规模,大生产线选大风量设备,小厂选小风量的。
涵盖能耗、耗材及维护费,能耗低、耗材更换便宜、维护简单的设备更优。场地有限选紧凑设备,处理易燃易爆废气的要防爆。操作管理上,选自动化程度高的。
电镀设备中的挂镀装置,通过挂具悬挂工件,适用于汽车零件等中大件,可实现镀层均匀附着。重庆机械电镀设备
阳极氧化线的主要组成部分
1. 前处理系统
目的:表面油污、氧化皮和杂质,确保氧化膜与基体结合牢固。
工序:
除油-碱蚀 / 酸洗-多级水洗
2. 阳极氧化处理系统
氧化槽:
材质:耐酸碱的 PP、PVC 或玻璃钢,内置阴极板(铅板、不锈钢)和导电装置。
控制装置:
电解液类型:
硫酸:常用,成本低,膜透明度高,适合装饰性氧化(如铝型材染色)。
草酸:膜硬度高、耐磨性强,用于硬质氧化(如航空零件)。
铬酸:膜层柔软、孔隙少,适合复杂工件或疲劳敏感零件(如汽车部件)。
3.后处理系统(功能拓展)
染色(可选):利用氧化膜的多孔性吸附有机染料或金属盐,实现颜色定制。
封孔(关键工序):
热水封孔:使氧化膜水合生成 Al?O??nH?O,堵塞孔隙,提升耐腐蚀性。
蒸汽封孔:高温蒸汽加速水合,适合厚膜(如硬质氧化)。
化学封孔:镍盐 / 钴盐溶液,形成氢氧化物沉淀封孔
干燥:热风循环或烘箱去除水分,防止封孔后白斑。
4.自动化控制系统
输送设备:悬挂式链条、龙门行车或机械手,实现工件在各槽间的自动传输。
参数监控:PLC 或工业电脑实时监测电压、电流、电解液浓度、温度、pH 值,自动补加药剂或调整工艺参数。 便携式电镀设备周边设备自动化电镀设备集成 PLC 控制系统,联动传输装置实现工序时间、电压参数准确控制,提升效率。
离心风机:风压高、风量较大,适用于需要克服较大阻力
轴流风机:具有风量大、风压低的特点。适合在对通风量需求大、阻力较小的环境
屋顶风机:安装于电镀车间屋顶,可直接将车间内废气排至室外。其优点是不占室内空间,安装简便
防爆风机:针对电镀废气含易燃易爆气体(如有机溶剂挥发气)的情况设计,采用特殊防爆结构与材料,防止运行中产生电火花引发炸掉,保障生产安全
玻璃钢风机:处理电镀过程中产生的强腐蚀性酸碱废气,且质量较轻、强度较高、使用寿命长
不锈钢风机:用于对耐腐蚀有一定要求且废气中颗粒物磨损性较强的电镀废气抽取
防腐涂层或特殊防腐工艺处理的普通金属风机:抽风设备搭配集气罩、通风管道等部件,组成完整的抽风系统,将电镀废气高效收集并输送至后续处理设备,如酸雾净化塔、活性炭吸附装置等。
自动线线外连接抽风系统
PP抽风管连接,抽风连接口采用方形变通连接室外抽风系统
可根据不同种类废气和不同排放量以及现场情形适当设计制,并负责安装调试,抽风效果好
适用于氧化、电镀、涂装、印刷等行业多种碱性、有毒气体抽排(退挂、除锈等)
对比项 传统滚镀 半导体滚镀 对象 小型金属零件(螺丝、纽扣等) 晶圆、芯片、微型半导体元件 精度 微米级 纳米级(≤100nm) 洁净度 普通工业环境 无尘室(Class100~1000) 工艺控制 电流/时间粗调 实时闭环控制(电流、流量、温度) 镀液类型 酸性/碱性镀液 高纯度镀液(低杂质)
大尺寸晶圆兼容:适配12英寸(300mm)晶圆,向18英寸过渡。环保镀液:无物、低毒配方,减少废水处理压力。智能化集成:AI工艺优化:通过机器学习预测镀层缺陷。与CMP(化学机械抛光)、PVD设备联动,形成全自动金属化产线
半导体滚镀设备是封装与芯片制造的关键装备,通过精密旋转与镀液控制,实现纳米级金属镀层的均匀沉积。其技术在于洁净环境下的高精度工艺控制 工件篮设备用于篮镀工艺,网孔大小根据工件尺寸定制,兼顾电解液流通性与防止小件掉落。
案例1:MLCC端电极电镀
流程:陶瓷烧结→端面研磨→溅射镍层→电镀铜/锡层→激光切割分粒。
设备:溅射镀膜机+滚镀线,确保端电极导电性与焊接性。
案例2:薄膜电阻调阻后电镀
流程:氧化铝基板→溅射镍铬电阻膜→激光调阻→电镀镍/锡保护层。
作用:电镀层防止调阻后的敏感膜层氧化,并提升端面焊接性能。
案例3:功率电感引脚镀锡
流程:磁芯绕线→引脚焊接→电镀纯锡→热风整平。
目标:降低接触电阻,适应大电流场景。 滚镀机滚筒采用聚氯乙烯材质打孔设计,确保电解液流通,配合变频电机调节转速,保障小件镀层均匀。重庆电镀设备供应商家
脉冲电化学抛光设备结合电镀与抛光功能,通过瞬间高电流溶解凸起部分,实现镜面级镀层表面。重庆机械电镀设备
挂镀工艺:晶圆固定在挂具上,浸入电镀液,通过精细控制电流、电压及溶液成分,在表面沉积均匀金属层。
电镀槽:耐腐蚀材质,配备温控、循环过滤系统,维持镀液均匀性
挂具与阳极:钛或铂金阳极,挂具设计适配晶圆尺寸,确保电场分布均匀
自动化传输:机械臂自动上下料,减少人工污染风险
控制系统:PLC/计算机实时调控电流密度、电镀时间、pH值等参数
高均匀性:通过脉冲电镀或水平电镀技术(如ECP),减少边缘效应,实现亚微米级镀层均匀性
低缺陷率:镀液杂质控制(<0.1ppm)与膜厚在线监测,降低孔洞、结节等缺陷
高产能:支持多晶圆并行处理
铜互连:在逻辑芯片中沉积多层铜导线,替代传统铝工艺以降低电阻
TSV填充:为3D封装提供垂直导电通道,实现芯片堆叠
凸块电镀:在晶圆表面形成锡、铜柱凸块,用于Flip-Chip键合
RDL(重布线层):沉积铜层实现芯片I/O端口的重新布局
半导体挂镀设备通过精密电化学控制与自动化技术,解决了纳米级金属沉积的均匀性与可靠性难题,是先进芯片制造与封装的装备。其性能直接关联芯片的导电性、散热及良率 重庆机械电镀设备